資源描述：
《w-sic納米復(fù)合電鍍工藝的研究》由會(huì)員上傳分享，免費(fèi)在線閱讀，更多相關(guān)內(nèi)容在教育資源-天天文庫(kù)。
1、W-SiC納米復(fù)合電鍍工藝的研究Ni—W—SiC納米復(fù)合電鍍工藝的研究25Ni—W—SiC納米復(fù)合電鍍工藝的研究StudyonNi—-W—-SiCNanometerElectrodepositionProcess'王晉春,程旭東,李丹虹,楊章富,歐陽(yáng)貴(1武漢理工大學(xué)材料復(fù)合新技術(shù)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,武漢430070;2武漢材料保護(hù)研究所,武漢430030)WANGJin-chunl,CHENGXu-dong,LIDan—hong,YANGZhang—fu,OUYANGGui(1StateKeyLaboratoryofAdvancedTechnologyfor
2、MaterialsSynthesisandProgressing,WuhanUniversityofTechnology,Wuhan430070,China;2WuhanResearchInstituteofMaterialsProtection,Wuhan430030,China)摘要:采用一種新型的分散方法促使納米SiC在鍍液中的均勻有效分布.初步探討了工藝參數(shù)對(duì)復(fù)合鍍層的影響,著重研究陰極電流密度對(duì)Ni—W—SiC納米復(fù)合鍍層表面形貌,斷面形貌,n—SiC共析量和顯微硬度的影響.結(jié)果表明:在其他工藝不變的條件下,選擇適當(dāng)?shù)碾娏髅芏瓤芍苽涑鲂蚊擦己?成
3、分均勻,硬度較高的納米復(fù)合鍍層.關(guān)鍵詞:納米復(fù)合電鍍;共析量;表面形貌;顯微硬度中圈分類號(hào):TQ153文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A文章編號(hào):1001—4381(2006)03—0025—04Abstract:AnewdispersemethodwasappliedtOdispersen—SiCtOavoidconglomerating.Theeffectofprocessparametersonthenano-compositecoatingwaspresented.Theinfluenceofcathodiccur—rentdensityonsurfacemorpho
4、logy,sectionmorphology,n-SiCCO—depositionamountandmicro—hardnessofnano—compositecoatingwasmainlystudied.Theresultshowsthatgoodmorphology,n-SiCparticledisperseduniformlyandhighlymicrohardnessvalueofnano-compositecoatingscanbepreparedunderpropercurrentdensitywhenotherprocessconditio
5、nsaresame.Keywords:nanometerelectrodeposition;CO—depositionamount;surfacemorphology;microhardness復(fù)合電鍍技術(shù)是采用電沉積方法將各種固體微粒夾雜在金屬或合金鍍層中而形成功能鍍層L1],是一種新型復(fù)合材料的制備方法.由此形成的復(fù)合鍍層具有一般鍍層所不具備的高強(qiáng)度,高硬度,耐高溫,抗侵蝕等多種性能,從而拓展了復(fù)合材料的應(yīng)用范圍和使用壽命,有望成為具有發(fā)展前途的復(fù)合材料之一L2].納米復(fù)合電鍍則是在復(fù)合電鍍的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的新工藝,它是利用性能獨(dú)特的納米微粒與金屬材料
6、進(jìn)行優(yōu)化組合,發(fā)揮兩者最佳的綜合性能.Ni-W-SiC納米復(fù)合電鍍體系是利用金屬w具有耐高溫,抗氧化,硬度高的優(yōu)點(diǎn)能對(duì)鍍層起固溶強(qiáng)化作用和納米SiC(n—SiC)具有的耐高溫,高強(qiáng)度,高韌性,耐磨性等優(yōu)點(diǎn)能對(duì)鍍層起彌散強(qiáng)化作用L3],將它們添加到Ni基鍍液中實(shí)施復(fù)合電鍍,有望形成性能良好的復(fù)合鍍層.但是由于納米SiC微粒在鍍液中易團(tuán)聚,難分散,這使得納米復(fù)合電鍍的應(yīng)用受到一定限制,國(guó)內(nèi)外這方面的報(bào)道不多].本工作通過(guò)對(duì)Ni—W—SiC納米復(fù)合電鍍體系的研究,著重闡述陰極電流密度對(duì)鍍層的形貌,n—SiC共析量和顯微硬度的影響,希望能為進(jìn)一步的研究和工業(yè)應(yīng)用提
7、供參考.1實(shí)驗(yàn)方法1.1鍍液的組成和工藝參數(shù)鍍液的組成和工藝參數(shù)如下:NiSO?6HO300g/L;NiC12?6H2O20g/L;Na2WO4?2H2O30g/L;H3BO340g/L;檸檬酸鈉為25g/L,十二烷基磺酸鈉為0.1～0.3g/L;40(質(zhì)量分?jǐn)?shù))的EHS潤(rùn)濕劑0.5mL/L;陰極電流密度1～4A/dm;溫度為40～60℃;pH為3～5;n—SiC微粒分散量0～20g/L;電鍍時(shí)間為40min.1.2實(shí)驗(yàn)裝置HL一10ATM赫爾槽實(shí)驗(yàn)儀(武漢材料保護(hù)研究所);SY系列高頻逆變穩(wěn)壓流電源(武漢材料保護(hù)研材料工程12OO6年3期究所);電熱恒溫
8、水浴鍋(上海嘉程儀器廠):KQ2200型超聲波清洗器(昆IlI市超
