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《激光干涉光刻技術(shù)研究》由會(huì)員上傳分享，免費(fèi)在線閱讀，更多相關(guān)內(nèi)容在教育資源-天天文庫(kù)。
1、編號(hào)激光干涉光刻技術(shù)研究Laserinterferencephotolithographytechnologyresearch學(xué)生姓名王新舜專業(yè)電子科學(xué)與技術(shù)學(xué)號(hào)1112129指導(dǎo)教師分院光電科學(xué)分院2015年X月摘要本文研究的是基于激光干涉光刻的相關(guān)理論，綜合論述激光干涉光刻的基本原理、主要類型、發(fā)展趨勢(shì)及當(dāng)前未解決的難題。干涉光刻技術(shù)是一個(gè)無(wú)需用到復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)或光掩膜而制備精細(xì)結(jié)構(gòu)的技術(shù)手段，干涉光刻技術(shù)集激光、干涉和衍射光學(xué)及光學(xué)光刻于一體。激光干涉光刻作為一種新興的光刻技術(shù)，具有設(shè)備簡(jiǎn)單、價(jià)格低廉、高效率高分辨率和大視場(chǎng)曝光等
2、待點(diǎn)，對(duì)其進(jìn)行系統(tǒng)的研究，對(duì)推進(jìn)光學(xué)光刻極限，發(fā)展納米微電子和光電子器件、新型大屏幕平板顯示器和新型光刻機(jī)具有重要意義和廣闊的應(yīng)用前景。關(guān)鍵詞：光學(xué)光刻;全息光刻技術(shù);干涉光刻技術(shù)IABSTRACTThispaperresearchesonrelatedtheoriesoflaserinterferencelithographybasedonbasicprincipleoflithography,laserinterference,comprehensiveexpositionofthemaintypes,developmenttren
3、dandthecurrentoutstandingproblem.Interferometriclithographyisanoneedtousethecomplexopticalsystemoropticalmaskandpreparationtechnologyoffinestructure,interferencelithography,interferenceanddiffractioninlaseropticsandopticallithographyinone.Asanewkindoflaserinterferencelit
4、hography,hastheadvantagesofsimpleequipment,lowprice,highefficiencyandhighresolutionandlargefieldexposurewaitingpoint,tostudyit,topromotethedevelopmentofnanoopticallithographylimit,microelectronicandoptoelectronicdevices,anewlargescreenflatpaneldisplayandanewlithographyha
5、simportantsignificanceandbroadapplicationprospect.Keywords:OpticallithographyholographiclithographyinterferencelithographyI目錄緒論1第一章方案設(shè)計(jì)21.1功能要求21.2方案選擇21.3方案論證3第二章系統(tǒng)總體的設(shè)計(jì)52.1系統(tǒng)總體的設(shè)計(jì)5第三章系統(tǒng)硬件的設(shè)計(jì)63.1AT89S52的結(jié)構(gòu)和功能63.1.1AT89S52引腳結(jié)構(gòu)63.1.2寄存器83.1.3復(fù)位103.2AT89C2051的結(jié)構(gòu)和功能103.2.1A
6、T89C2051結(jié)構(gòu)103.2.2主要性能123.3TL1838一體化紅外接收頭123.4LD發(fā)射器133.4.1LD半導(dǎo)體激光器簡(jiǎn)介143.4.2警示標(biāo)志15第四章系統(tǒng)模塊174.1LD發(fā)射模塊的設(shè)計(jì)174.2本機(jī)處理接收電路的設(shè)計(jì)174.2.1LD接收電路的設(shè)計(jì)184.2.2報(bào)警電路的設(shè)計(jì)184.2.3電源電路的設(shè)計(jì)194.2.4其他外圍電路的設(shè)計(jì)19第五章系統(tǒng)軟件設(shè)計(jì)及實(shí)現(xiàn)205.1LD紅外發(fā)射模塊程序的設(shè)計(jì)205.2本機(jī)接收處理模塊程序的設(shè)計(jì)205.2.1密碼設(shè)置子程序的設(shè)計(jì)215.2.2按鍵間隔超時(shí)的判斷及復(fù)位21第六章結(jié) 語(yǔ)
7、23致謝24附錄25參考文獻(xiàn)26I實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)方案報(bào)告緒論隨著科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步和半導(dǎo)體工業(yè)的發(fā)展,集成電路的特征尺寸越來(lái)越小，而激光干涉光刻技術(shù)是一種在材料表面大面積加工亞微米尺度周期性結(jié)構(gòu)的技術(shù)，是半導(dǎo)體器件制造的又一重要技術(shù)，激光干涉光刻能產(chǎn)生周期性點(diǎn)、線結(jié)構(gòu)等特點(diǎn)。集成電路之所以會(huì)這樣飛速發(fā)展，光刻技術(shù)功不可沒(méi)，而其中激光干涉光刻技術(shù)又是近幾年新興的一項(xiàng)技術(shù)，這對(duì)半導(dǎo)體工業(yè)和集成電路又是一次巨大的飛躍，所以對(duì)激光干涉光刻技術(shù)進(jìn)行研究是必要的。目前國(guó)際上對(duì)激光干涉光刻技術(shù)的研究取得了很大的進(jìn)展，不僅加工出大面積的小尺度微納結(jié)構(gòu)在應(yīng)用性研究
8、上也取得了許多優(yōu)秀的成果。雖然我國(guó)相比于一些發(fā)達(dá)國(guó)家在技術(shù)上還有些不足，但也取得了許多優(yōu)秀的成果，在應(yīng)用方面提出了突破性的研究。隨著科技的進(jìn)步，激光干涉光刻技術(shù)也面臨著更多的挑戰(zhàn)，例如激光干涉光刻在成本控制
