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1、江西太陽能科技職業(yè)學院課程設計題目：硅片清洗工藝的原理和現(xiàn)狀專業(yè)：光伏材料加工與應用技術班級：11級光伏材料（3）班院 系：光伏材料系指導教師：日期：2013年10月07日2半導體硅片清洗工藝的發(fā)展研究【摘要】隨著大規(guī)模集成電路的發(fā)展，集成度的不斷提高，線寬的不斷減小，對硅片的質量要求也越來越高，特別是對硅拋光片的表面質量要求越來越嚴。在硅晶體管和集成電路生產中，幾乎每道工序都有硅片清洗的問題，硅片清洗的好壞對器件性能有嚴重的影響，處理不當，可能使全部硅片報廢，做不出晶體管來，或者制造出來的器件性能低劣，穩(wěn)定性和可靠性很差。因此弄清楚硅片清洗的方法，不管是對于從事硅
2、片加工的人，還是對于從事半導體器件生產的人來說都有著重要的意義。本文對硅片清洗的基本理論、常用工藝方法和技術進行了詳細的論述，同時對一些常用的清洗方法做出了淺析，并對硅片清洗的重要性和發(fā)展前景作了簡單論述。最后介紹了清洗工藝的最新進展。關鍵詞:硅片;清洗;工藝；最新發(fā)展。2目錄第1章硅片清洗工藝的原理41.1硅片清洗工藝的背景和意義41.2硅片清洗工藝的組要作用...............................................................................................41.3硅片污染物
3、雜質的分類.....................................................................................................41.4硅片清洗的原理及工藝....................................................................................................4第二章硅片清洗工藝的現(xiàn)狀.....................................................
4、...................................................82.1硅片清洗工藝的現(xiàn)狀的背景和意義..............................................................................82.2硅片清洗工藝的發(fā)展.........................................................................................................92.3硅片清洗工藝的最新發(fā)展.....
5、...........................................................................................9第三章結束語..............................................................................................................................1012第1章硅片清洗工藝的原理1.1硅片清洗工藝的背景和意義硅片的清洗很重要，它影響電池的轉換效率，如器件的性能中反向電流
6、迅速加大及器件失效等。因此硅片的清洗很重要，下面主要介紹清洗的作用和清洗的原理。1.2硅片清洗工藝的主要作用1.在太陽能材料制備過程中，在硅表面涂有一層具有良好性能的減反射薄膜，有害的雜質離子進入二氧化硅層，會降低絕緣性能，清洗后絕緣性能會更好?！ ?.在等離子邊緣腐蝕中，如果有油污、水氣、灰塵和其它雜質存在，會影響器件的質量，清洗后質量大大提高?！ ?.硅片中雜質離子會影響P-N結的性能，引起P-N結的擊穿電壓降低和表面漏電，影響P-N結的性能。4.在硅片外延工藝中，雜質的存在會影響硅片的電阻率不穩(wěn)定。1.3硅片污染物雜質的分類根據(jù)污染物產生的原因，大致可將它們分
7、為顆粒、有機物雜質、金屬污染物三類。１）顆粒：主要是一些聚合物、光致抗蝕劑等。顆粒的存在會造成ＩＣ芯片短路或大大降低芯片的測試性能。２）有機物雜質：它在硅片上以多種方式存在，如人的皮膚油脂、防銹油、潤滑油、松香、蠟等。這些物質通常都會對加工進程帶來不良影響。３）金屬污染物：它在硅片上以范德華引力、共價鍵以及電子轉移等三種表面形式存在。這種玷污會破壞極薄的氧化層的完整性，增加漏電流密度，影響ＭＯＳ器件的穩(wěn)定性，結果導致形成微結構缺陷或霧狀缺陷。1.4硅片清洗的原理及工藝目前最常用的清洗方法有：化學清洗法、超聲清洗法和真空高溫處理法。121）化學清洗是指利用各種化學
