羅門哈斯desmear&pth操作手冊

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1、羅門斯電子材料上海分公司化學(xué)沉銅工藝操作規(guī)范2011.3蘇州固寶得電子有限公司24Desmear-PTH目錄章節(jié)內(nèi)容頁1化學(xué)沉銅工藝流程簡介22工藝目的33控制條件44化學(xué)品補(bǔ)充55配制槽液程序及用量6-96化學(xué)沉銅工藝生産綫線開工規(guī)則10-127化學(xué)沉銅工藝生産綫線停工規(guī)則138化學(xué)沉銅工藝生產(chǎn)線之停電或機(jī)械故障處理方法149化學(xué)沉銅工藝生產(chǎn)線之保養(yǎng)事項(xiàng)及程序15-1610化學(xué)沉銅工藝生產(chǎn)線藥品用量準(zhǔn)備1711品質(zhì)檢定方法及標(biāo)準(zhǔn)18-2012問題分析程序及原因21-2324Desmear-PTH1)化

2、學(xué)沉銅工藝流程簡介膨鬆MLSweller除膠KMnO4預(yù)中和（硫酸、雙氧水）中和MLB216-5清潔3325微蝕NaPS預(yù)浸C/P404ê活化CAT44ê速化19Eê化學(xué)沉銅C/P88024Desmear-PTH2)工藝目的2.1MLSweller--膨鬆及調(diào)整樹脂表面使易于被KMnO4蝕刻.2.2除膠劑--通過KMnO4對樹脂之蝕刻以清除鑽孔留下之膠渣及粗化孔壁.2.3中和劑MLB216-5--清除KMnO4殘留下之MnO2確?？妆跒樽罴褷顟B(tài).2.4.清潔劑3325--調(diào)整孔壁的表面使催化劑易于吸附.

3、2.5.微蝕NaPS--蝕刻孔壁內(nèi)層及板面的銅層,具有良好結(jié)合條件.2.6.預(yù)浸劑CP404--調(diào)整銅面及保護(hù)催化缸槽液.2.7.催化劑CAT44--是一種膠體狀的錫化鈀,它可以使沒有導(dǎo)電性能的表面,具有金屬導(dǎo)電性能及催化沉銅反應(yīng).2.8.化學(xué)銅CP880--通過催化鈀之作用使在孔壁及銅面沉積一層細(xì)緻的銅層以便加厚鍍銅.24Desmear-PTH3)控制條件工序控制項(xiàng)目控制範(fàn)圍標(biāo)準(zhǔn)及分析頻率溫度(℃)時(shí)間(min)打氣過濾膨鬆劑MLSwellerMLSweller200-250ml/l225ml/l(2

4、次/天)70-75-806-8不要要除膠劑高錳酸鉀40–80g/l60g/l(2次/天)70-75-859-12要要錳酸鉀<20g/l<20g/l(2次/天)當(dāng)量1.0–1.3N1.2N(2次/天)比重<1.14<1.14除膠量0.1-0.5mg/cm22次/天預(yù)中和（硫酸/雙氧水）硫酸（98%）雙氧水（35%）1.5-2.5%(V/V)1.5-2.5%(V/V)2%2%25-28-302-4不要要中和劑MLB216-5中和劑MLB216-5硫酸（98%）Cu4-6%(V/V)1.5-2.5%(V/V)

5、<20g/l5%(2次/天)2%(2次/天)>20g/l換缸(1次/天)20-22-256不要要清潔劑3325強(qiáng)度銅含量PH值80-120%<2.0g/l8.0-9.5100%(1次/班)<2.0g/l(1次/班)8.5(1次/班)55-60-655-6不要要微蝕NaPS過硫酸鈉40–80g/l60g/l(1次/班)55g/l(1次/班)>20g/l換缸(1次/班)35micro-inch(1次/班)25-28-321.5要要硫酸35-55-75g/lCu蝕銅厚度<20g/l20-50micro-inc

6、h預(yù)浸劑404比重銅含量1.12-1.15-1.17<1.5g/l1.15(1次/班)<1.5g/l(1次/周)28-30-321-2不要要活化劑44強(qiáng)度60–75-90ppm75ppm(1次/班)40-43-465-6不要要氯化亞錫3–8g/l6g/l(1次/班)比重1.15-1.167-1.21.167(1次/班)銅含量<2g/l(1次/班)加速劑19E19E0.015-0.025N0.02N1不要要化學(xué)沉銅880銅1.8–2.1-2.4g/l2.1g/l(1次/6h)30-36℃設(shè)定值厚板：32℃

7、薄板：34℃14-18要要?dú)溲趸c10–11-12g/l11g/l(1次/6h)甲醛3.0–3.8-4.6g/l3.8g/l(1次/6h)EDTA24–40g/l32g/l(1次/6h)沉銅厚度10-20micro-inch15micro-inch(1次/班)24Desmear-PTH4)化學(xué)品補(bǔ)充槽名成份補(bǔ)充物料補(bǔ)充量的計(jì)算方法單位膨鬆濃度Sweller(240—分析值)×槽積/1000公升高錳酸鉀Mn+7KMnO4(60—分析值)×槽積/1000公斤Mn+6大於20g/L時(shí)，須稀釋槽液NaOHNaO

8、H(40—分析值)×槽積/1000公斤中和濃度216-5(5—分析值)×槽積/100公升N98%硫酸(0.5—分析值)×槽積/36公升清潔整孔濃度3325(30—分析值)×槽積/1000公升微蝕H2SO4濃度50%H2SO4(3—分析值)×槽積*2.6/100公斤NPS濃度NPS(90—分析值)×槽積/1000公斤預(yù)浸比重404(1.110—分析值)×槽積×1.625公斤活化比重404(1.17—分析值)×槽積×1.625公斤Pd濃度44(