黃光制程工藝流程

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1、1、PR前清洗ITOGLASS清洗指用物理的方法（磨刷噴洗）和化學(xué)的方法（去離子水DI水和KOH）將玻璃表面的臟污和油污、雜質(zhì)除去并干燥的過(guò)程2、PR涂佈指在玻璃的導(dǎo)電層表面均勻涂上一層光刻膠3.前烘指在一定溫度下將涂有光刻膠的玻璃烘一段時(shí)間、使光刻膠的溶劑揮發(fā)，形行成固體的PR層4.曝光指用紫外線通過(guò)預(yù)先設(shè)置好的菲林垂直照射光刻膠表面，使被照射部分的光刻膠發(fā)生反應(yīng)5、顯影指用弱KOH溶液去離玻璃表面將徑光照射部分的光刻膠除去，保留未照射部分的光刻膠6、堅(jiān)膜指將玻璃在徑一次高溫處理，使光刻膠膜更加堅(jiān)固。7、蝕刻指用適當(dāng)?shù)乃嵋簩o(wú)光刻膠覆蓋的ITO層除去，這樣就得到了我們所需要的ITO電極

2、圖形。8、脫膜指用較強(qiáng)的KOH剝膜液將殘留光刻膠除去，將玻璃表面清洗干燥1.PR前清洗A.清洗：指清除吸附在玻璃表面的各種有害雜質(zhì)或油污。清洗方法是利用各種化學(xué)濃劑（KOH）和有機(jī)濃劑與吸附在玻璃表面上的雜質(zhì)及油污發(fā)生化學(xué)反應(yīng)和濃解作用，或以磨刷噴洗等物理措施，使雜質(zhì)從玻璃表面脫落，然后用大量的去離子水（DI水）沖洗，從而獲得潔凈的玻璃表面。（風(fēng)切是關(guān)鍵）B.干燥：因經(jīng)過(guò)清洗后的玻璃，表面沾有水或有機(jī)濃劑等清洗液。這樣會(huì)對(duì)后續(xù)工序造成不良影響，特別是對(duì)后續(xù)光刻工藝會(huì)產(chǎn)生浮膠、鉆蝕、圖形不清晰等不良現(xiàn)象。因此，清洗后的玻璃必須經(jīng)過(guò)干燥處理。目前常采用的方法是烘干法，而是利用高溫烘烤，使玻璃

3、表面的水分氣化變?yōu)樗魵舛サ倪^(guò)程，此方法省時(shí)又省力。但是如果水的純度不變，空氣凈化等不多或干燥機(jī)溫度不夠，玻璃表面殘存的水分雖經(jīng)氣化為蒸氣，但在玻璃表面還會(huì)留下水珠，這種水珠將直接影響后續(xù)工序的產(chǎn)品質(zhì)量C.十槽清洗機(jī)PR清洗機(jī)制程參數(shù)設(shè)定1---3槽KOH溶液為0.4~0.7N，溫度為60±5℃，浸泡時(shí)間為2~3min／槽純水溢流量為0.5±0.2㎡／n.KOH溶度為1.0N~1.6N,溫度為40±5℃,噴洗壓為0.2~1.0kgf/c㎡,傳動(dòng)速度為3.0~4.5m/min,磨刷轉(zhuǎn)速為85~95rpm,壓力為0.2~1.0kg/c㎡，純水溫度為40±5℃，干燥機(jī)1.2.3段溫度為11

4、0℃±10℃。注：玻璃清洗潔凈度不夠之改改善對(duì)策，適當(dāng)加入少許KOH溶液，改變KOH，溶液，經(jīng)常擦拭風(fēng)切口，噴洗等處，亦可調(diào)態(tài)清洗機(jī)傳動(dòng)速度，將傳速度減慢2.PR涂佈光刻是一種圖像復(fù)印和化學(xué)腐蝕相結(jié)合的，綜合性的精密表面加工技術(shù)。光刻的目的就是按照產(chǎn)品的設(shè)計(jì)要求，在導(dǎo)電玻璃上覆蓋感光膠。A.光刻膠的配制光刻膠的性能與光刻膠的配比有關(guān)。配比的選擇原則是即要光刻膠是有良好的抗蝕能力，又要有較高的分辨率。但兩者往往是相互矛盾的，不能同時(shí)達(dá)到。因此，必須根據(jù)不同的光刻對(duì)象和要求，選取不同的配比。光刻膠的配制應(yīng)在暗室（潔凈度較高的房間）中進(jìn)行。用量筒按配方比例將原膠及溶劑分別量好，再將溶劑倒入原膠

5、，用玻璃棒充分?jǐn)嚢枋怪鶆蚧旌希ǔ偱渲坪玫墓饪棠z中必然還存在少量因態(tài)物質(zhì)微粒未能完全溶解，為把這部分未能溶解的固態(tài)物質(zhì)微粒濾除，我們一般采用自然沉淀法進(jìn)行過(guò)濾。B.涂層為保證ITO層與光刻膠之間有良好的接觸和粘附，清洗后的玻璃應(yīng)立即送光刻工序進(jìn)行涂膠。如果玻璃擱置較久或者光刻返工，必須重洗在涂膠。涂膠要求，粘附良好，均勻厚薄適當(dāng)。若膠膜太薄，針孔較多，則抗蝕能力差，膠膜太厚，則分辨率低。涂膠方法采用旋轉(zhuǎn)及車混涂法。為保證膠膜質(zhì)量，涂膠應(yīng)在潔凈無(wú)塵操作箱內(nèi)進(jìn)行。涂膠機(jī)內(nèi)溫度應(yīng)保持在20℃~25℃范圍內(nèi)，相對(duì)溫度低于60%，涂膠要在黃燈照射條件下進(jìn)行，以防止光刻膠露光失效C．前烘前烘的方

6、法是在恒溫的干燥箱中烘烤，具體情況視膠的種類和性質(zhì)而定。影響前烘質(zhì)量的主要因素是溫度和時(shí)間，烘烤不足（溫度過(guò)低或時(shí)間太短），在膠膜與ITO交界面處，膠中的溶劑未充分揮發(fā)，曝光后形成浮膠或使圖形變形。烘烤過(guò)頭（溫度太高或時(shí)間太長(zhǎng)），會(huì)導(dǎo)致膠膜翹曲硬化，形成不易溶于顯影液中的薄膜而留下來(lái)，顯影不干凈或膠面發(fā)皺，發(fā)黑，失去抗蝕能力。D．PR涂膠機(jī)機(jī)臺(tái)參數(shù)設(shè)定滾輪傳速與涂布輪傳速為218±5轉(zhuǎn)1分，干燥機(jī)傳速為4.0±2m/min光刻膠米方度為30±2mpa.s,光刻膠壓入量為0.5±0.1mm.（光刻膠只能四收5次使用）光阻劑：稀釋劑=10:1（依粘度測(cè)試情況而定）.注：涂布不良(涂布?xì)馀?、?/p>

7、布不均勻)之改善對(duì)策，調(diào)態(tài)涂膠滴管內(nèi)光刻膠滴入量。3.曝光目前曝光方法采用接觸式曝光，因此方法所用設(shè)備簡(jiǎn)單，操作方便，它包括“定位”和“曝光兩個(gè)步聚。定位對(duì)光刻精度影響很大，是光刻中十分重要的一環(huán)，要認(rèn)真對(duì)準(zhǔn)。一般操作程序是：光預(yù)熱紫外光（UV）燈，待光源穩(wěn)定后，把菲林安裝在支架上；將涂有光刻膠的ITO玻璃放在平臺(tái)上，膠面朝上，將光刻菲林支架放下，仔細(xì)調(diào)態(tài)平臺(tái)微動(dòng)裝置，使菲林上定位標(biāo)志與平臺(tái)上玻璃的定位準(zhǔn)確套合。定位完成即可曝光，曝