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1、建筑玻璃之低輻射鍍膜玻璃Low-E玻璃又稱低輻射鍍膜玻璃，是在玻璃表面鍍上多層金屬或其他化合物組成的膜系產(chǎn)品。其鍍膜層具有對可見光高透過及對中遠(yuǎn)紅外線高反射的特性，使其與普通玻璃及傳統(tǒng)的建筑用鍍膜玻璃相比，具有優(yōu)異個(gè)隔熱效果和良好的透光性。玻璃是重要的建筑材料，隨著對建筑物裝飾性要求的不斷提高，玻璃在建筑行業(yè)中的使用量也不斷增大。人們在選擇建筑物的玻璃門窗時(shí)，除了考慮其美學(xué)和外觀特征外，更注重其熱量控制、制冷成本和內(nèi)部陽光投射舒適平衡等問題。這就使得鍍膜玻璃家族中的新貴——Low-E玻璃脫穎而出，成為人們關(guān)注的焦點(diǎn)。優(yōu)異的熱性能外門
2、窗玻璃的熱損失是建筑物能耗的主要部分，占建筑物能耗的50%以上。有關(guān)研究資料表明，玻璃內(nèi)表面的傳熱以輻射為主，占58%，這意味著要從改變玻璃的性能來減少熱能的損失，最有效的方法是抑制其內(nèi)表面的輻射。普通浮法的輻射率高達(dá)，當(dāng)鍍上一層以銀為基礎(chǔ)的低輻射薄膜后，其輻射率可降至以下。因此，用Low-E玻璃制造建筑物門窗，可大大降低因輻射而造成的室外熱能向室內(nèi)的傳遞，達(dá)到理想的節(jié)能效果。室內(nèi)熱量損失的降低所帶來的另一個(gè)顯著效益是環(huán)保。寒冷季節(jié)，因建筑物采暖所造成的CO2、SO2等有害氣體的排放是重要的污染源。如果使用Low-E玻璃，由于熱損失
3、的降低，可大幅減少因采暖所消耗的燃料，從而減少有害氣體的排放。良好的光學(xué)性能Low-E玻璃對太陽光中可見光有高的透射比，可達(dá)80%以上，而反射比則很低，這使其與傳統(tǒng)的鍍膜玻璃相比，光學(xué)性能大為改觀。從室外觀看，外觀更透明、清晰，即保證了建筑物良好的采光，又避免了以往大面積玻璃幕墻、中空玻璃門窗光反射所造成的光污染現(xiàn)象，營造出更為柔和、舒適的光環(huán)境。low-e玻璃在生產(chǎn)中，因材質(zhì)特殊性，在經(jīng)過清洗機(jī)時(shí)，對清洗毛刷有較高的要求。刷絲必須是高檔的尼龍刷絲如PA1010、PA612等，絲直徑在為佳。因刷絲柔軟性好，彈性強(qiáng)，耐酸堿，耐溫，能夠
4、輕易的清除玻璃表面上的塵埃，且不會對表面造成刮痕。Low-E玻璃的應(yīng)用與發(fā)展在USA及歐洲，低輻射(Low-E)鍍膜玻璃由于其優(yōu)越的性能，得到了極大的關(guān)注。特別是德國的Wschvo法規(guī)，使Low-E玻璃有了迅猛的發(fā)展。歐洲的制造商是在60年代末開始實(shí)驗(yàn)室研究"Low-E"的。1978年，美國的英特佩(interqane)成功地將"Low-E"玻璃應(yīng)用到建筑物上。"Low-E"的優(yōu)越性是無可質(zhì)疑的。從1990年開始，"Low-E"的用量在美國以年5％的速度遞增。將來，"Low-E"是否成為窗玻璃的主導(dǎo)地位還不得知，但是業(yè)主和門窗公司都
5、非常重視節(jié)能型的門窗。而且，今年的建筑物絕大多數(shù)是用它的節(jié)能效果來評定優(yōu)劣的。制作目前有兩種Low-E玻璃生產(chǎn)方法在線高溫?zé)峤獬练e法：在線高溫?zé)峤獬练e法"Low-E"玻璃在美國有多家公司的產(chǎn)品。如PPG公司的Surgate200，福特公司的SunglasH．R"P"。這些產(chǎn)品是在浮法玻璃冷卻工藝過程中完成的。液體金屬或金屬粉沫直接噴射到熱玻璃表面上，隨著玻璃的冷卻，金屬膜層成為玻璃的一部分。固此，該膜層堅(jiān)硬耐用。這種方法生產(chǎn)的"Low-E"玻璃具有許多優(yōu)點(diǎn)：價(jià)格便宜，膜層堅(jiān)硬耐用，可以熱彎，鋼化，不必在中空狀態(tài)下使用，可以長期儲存。
6、它的缺點(diǎn)是熱學(xué)性能比較差。除非膜層非常厚，否則其"u"值只是濺射法"Low-E"鍍膜玻璃的一半。如果想通過增加膜厚來改善其熱學(xué)性能，那么其透明性就非常差。離線真空濺射法離線法生產(chǎn)Low-E玻璃，是目前國際上普遍采用的真空磁控濺射鍍膜技術(shù)。和高溫?zé)峤獬练e法不同，濺射法是離線的。且據(jù)玻璃傳輸位置的不同有水平及垂直之分。濺射法工藝生產(chǎn)"Low-E"玻璃，需一層純銀薄膜作為功能膜。純銀膜在二層金屬氧化物膜之間。金屬氧化物膜對純銀膜提供保護(hù)，且作為膜層之間的中間層增加顏色的純度及光透射度。垂直式生產(chǎn)工藝中，玻璃垂直放置在架子上，送入10-1帕
7、數(shù)量級的真空環(huán)境中，通入適量的工藝氣體，并保持真空度穩(wěn)定。將靶材Ag、Si等嵌入陰極，并在與陰極垂直的水平方向置入磁場從而構(gòu)成磁控靶。以磁控靶為陰極，加上直流或交流電源，在高電壓的作用下，工藝氣體發(fā)生電離，形成等離子體。其中，電子在電場和磁場的共同作用下，進(jìn)行高速螺旋運(yùn)動，碰撞氣體分子，產(chǎn)生更多的正離子和電子；正離子在電場的作用下，達(dá)到一定的能量后撞擊陰極靶材，被濺射出的靶材沉積在玻璃基片上形成薄膜。為了形成均勻一致的膜層，陰極靶靠近玻璃表面來回移動。為了取得多層膜，必須使用多個(gè)陰極，每一個(gè)陰極均是在玻璃表面來回移動，形成一定的膜厚
8、。水平法在很大程度上是和垂直法相似的。主要區(qū)別在玻璃的放置，玻璃由水平排列的輪子傳輸，通過陰極，玻璃通過一系列銷定閥門之后，真空度也隨之變化。當(dāng)玻璃到達(dá)主要濺射室時(shí)，鍍膜壓力達(dá)到，金屬陰極靶固定，玻璃移動。在玻璃通過陰極過程中，膜層形
