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《薄膜材料與薄膜技術(shù)教學(xué)大綱》由會(huì)員上傳分享，免費(fèi)在線閱讀，更多相關(guān)內(nèi)容在行業(yè)資料-天天文庫。
1、《薄膜材料與薄膜技術(shù)》課程教學(xué)大綱一、《材料制備技術(shù)》課程說明（一）課程代碼：08131103（二）課程英文名稱：ThinFilmMaterialsandThinfilmTechnology（三）開課對(duì)象：物理系材料物理專業(yè)（四）課程性質(zhì)：本課程是材料物理專業(yè)的一門專業(yè)選修課。（五）教學(xué)目的本課程主要介紹薄膜材料的制備及特性。通過學(xué)習(xí)既可以掌握一些薄膜物理的基本知識(shí)，同時(shí)也能了解該領(lǐng)域內(nèi)當(dāng)前的一些前沿研究進(jìn)展，開闊眼界，這些都有利于學(xué)生將來更好的投入科研工作中去。（六）教學(xué)內(nèi)容：本課程主要論述薄膜的制造技術(shù)與薄
2、膜物理的基礎(chǔ)內(nèi)容。其中系統(tǒng)介紹了各種成膜技術(shù)的基本原理與方法，包括蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍、化學(xué)氣相沉積、溶液制膜技術(shù)以及膜厚的測量與監(jiān)控等。同時(shí)介紹了薄膜的形成，薄膜的結(jié)構(gòu)與缺陷，薄膜的電學(xué)性質(zhì)、力學(xué)性質(zhì)、半導(dǎo)體特性、磁學(xué)性質(zhì)以及超導(dǎo)性質(zhì)等。（七）學(xué)時(shí)數(shù)、學(xué)分?jǐn)?shù)及學(xué)時(shí)數(shù)具體分配學(xué)時(shí)數(shù)：36學(xué)分?jǐn)?shù)：2學(xué)時(shí)數(shù)具體分配：教學(xué)內(nèi)容講授實(shí)驗(yàn)/實(shí)踐合計(jì)第一章真空技術(shù)基礎(chǔ)44第二章真空蒸發(fā)鍍膜法44第三章濺射鍍膜44第四章離子鍍膜22第五章化學(xué)氣相沉積44第六章溶液鍍膜法44第七章薄膜的形成44第八章薄膜的結(jié)構(gòu)與缺陷55
3、第九章薄膜的性質(zhì)55合計(jì)3636（八）教學(xué)方式：課堂教學(xué)（九）考核方式和成績記載說明：考核方式為考試。嚴(yán)格考核學(xué)生出勤情況，達(dá)到學(xué)籍管理規(guī)定的曠課量取消考試資格，綜合成績根據(jù)出勤情況、平時(shí)成績和期末成績評(píng)定，出勤情況占20％，平時(shí)成績占20％，期末成績占60％。二、講授大綱與各章的基本要求第一章真空技術(shù)基礎(chǔ)教學(xué)要點(diǎn)：通過本章的教學(xué)使學(xué)生初步了解真空的基本知識(shí)，掌握獲取一定程度的真空狀態(tài)的方法及測量手段。教學(xué)時(shí)數(shù)：4教學(xué)內(nèi)容：第一節(jié)：真空的基本知識(shí)第二節(jié)：稀薄氣體的基本性質(zhì)第三節(jié)：真空的獲得第四節(jié)：真空的測量考核
4、要求：1．真空的基本知識(shí)（識(shí)記）2．稀薄氣體的基本性質(zhì)（領(lǐng)會(huì)）3．真空的獲得（領(lǐng)會(huì)）4．真空的測量（識(shí)記）第二章真空蒸發(fā)鍍膜法教學(xué)要點(diǎn)：了解真空蒸發(fā)鍍膜的基本原理，了解蒸發(fā)特性以及相應(yīng)的膜厚分布特點(diǎn)，了解膜厚和沉積速率的測量與監(jiān)控方法。教學(xué)時(shí)數(shù)：4教學(xué)內(nèi)容：第一節(jié)：真空蒸發(fā)原理第二節(jié)：蒸發(fā)源的蒸發(fā)特性及膜厚分布第三節(jié)：蒸發(fā)源的類型第四節(jié)：合金及化合物的蒸發(fā)第五節(jié)：膜厚和沉積速率的測量與監(jiān)控考核要求：1．真空蒸發(fā)基本原理（領(lǐng)會(huì)）2．蒸發(fā)源的特性及膜厚分布（識(shí)記）3．蒸發(fā)源的類型（識(shí)記）4．膜厚和沉積速率的測量與監(jiān)
5、控（領(lǐng)會(huì)）5．合金及化合物的蒸發(fā)（領(lǐng)會(huì)）第三章濺射鍍膜教學(xué)要點(diǎn)：了解濺射法制備納米薄膜的基本原理，掌握濺射法制備的特點(diǎn)，熟悉濺射鍍膜的幾種基本類型，了解濺射鍍膜的厚度分布特點(diǎn)，明確如何控制厚度均勻性指標(biāo)。教學(xué)時(shí)數(shù)：4教學(xué)內(nèi)容：第一節(jié)：濺射鍍膜的特點(diǎn)第二節(jié)：濺射的基本原理第三節(jié)：濺射鍍膜類型第四節(jié)：濺射鍍膜的厚度均勻性考核要求：1．濺射鍍膜的特點(diǎn)（識(shí)記）2．濺射的基本原理（領(lǐng)會(huì)）3．濺射鍍膜類型（識(shí)記）4．濺射鍍膜的厚度均勻性（領(lǐng)會(huì)）第四章離子鍍膜教學(xué)要點(diǎn)：介紹離子鍍的原理和基本特點(diǎn)，了解離子鍍的幾種基本類型。教
6、學(xué)時(shí)數(shù)：2教學(xué)內(nèi)容：第一節(jié)：離子鍍原理第二節(jié)：離子鍍的特點(diǎn)第三節(jié)：離子轟擊的作用第四節(jié)：離子鍍的類型考核要求：1．離子鍍原理（領(lǐng)會(huì)）2．離子鍍的特點(diǎn)和離子轟擊的作用（識(shí)記）3．離子鍍的類型（識(shí)記）第五章化學(xué)氣相沉積教學(xué)要點(diǎn)：系統(tǒng)介紹化學(xué)氣相沉積法制備納米薄膜的基本原理和基本特點(diǎn)，介紹幾種常見的化學(xué)氣相沉積方法。教學(xué)時(shí)數(shù)：4教學(xué)內(nèi)容：第一節(jié)：化學(xué)氣相沉積的基本原理第二節(jié)：化學(xué)氣相沉積的特點(diǎn)第三節(jié)：CVD方法簡介第四節(jié)：低壓化學(xué)氣相沉積第五節(jié)：等離子體化學(xué)氣相沉積第六節(jié)：其他化學(xué)氣相沉積法考核要求：1．化學(xué)氣相沉積
7、的基本原理（領(lǐng)會(huì)）2．化學(xué)氣相沉積的特點(diǎn)（識(shí)記）3．幾種常見的化學(xué)氣相沉積方法（領(lǐng)會(huì)）第六章溶液鍍膜法教學(xué)要點(diǎn)：介紹溶液鍍膜法的基本原理和特點(diǎn)，介紹幾種溶液鍍膜的方法。教學(xué)時(shí)數(shù)：4教學(xué)內(nèi)容：第一節(jié)：化學(xué)反應(yīng)沉積第二節(jié)：陽極氧化法第三節(jié)：電鍍法第四節(jié)：LB膜的制備考核要求：1．化學(xué)反應(yīng)沉積（識(shí)記）2．陽極氧化法（領(lǐng)會(huì)）3．電鍍法（領(lǐng)會(huì)）4．LB膜的制備（識(shí)記）第七章薄膜的形成教學(xué)要點(diǎn)：介紹薄膜的形成過程以及相應(yīng)的生長模式，介紹兩種薄膜形成過程的計(jì)算機(jī)模擬方法。教學(xué)時(shí)數(shù)：4教學(xué)內(nèi)容：第一節(jié)：凝結(jié)過程第二節(jié)：核形成與
8、生長第三節(jié)：薄膜形成過程與生長模式第四節(jié)：濺射薄膜的形成過程第五節(jié)：薄膜的外延生長第六節(jié)：薄膜形成過程的計(jì)算機(jī)模擬考核要求：1．薄膜形成過程與生長模式（領(lǐng)會(huì)）2．薄膜形成過程的計(jì)算機(jī)模擬（領(lǐng)會(huì)）第八章薄膜的結(jié)構(gòu)與缺陷教學(xué)要點(diǎn)：了解薄膜的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)，了解薄膜結(jié)構(gòu)與組分的分析方法。教學(xué)時(shí)數(shù)：5教學(xué)內(nèi)容：第一節(jié)：薄膜的結(jié)構(gòu)第二節(jié)：薄膜的缺陷第三節(jié)：薄膜結(jié)構(gòu)與組分的分析方法考核要求：1．薄膜的結(jié)
