臺(tái)積電-英特爾等半導(dǎo)體老將剖析芯片產(chǎn)業(yè).doc

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1、臺(tái)積電/英特爾等半導(dǎo)體老將剖析芯片產(chǎn)業(yè)　　半導(dǎo)體大廠的資深高層們表示，芯片產(chǎn)業(yè)還有很長一段路要走，卻面臨了吸引頂尖工程師的挑戰(zhàn)。。.　　在日前于美國硅谷舉行的美國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)（SIA）年度晚宴上，來自半導(dǎo)體大廠的資深高層們表示，芯片產(chǎn)業(yè)還有很長一段路要走，卻面臨了吸引頂尖工程師的真正挑戰(zhàn)；此外一位微影技術(shù)專家展示了可望在下一個(gè)十年繼續(xù)推動(dòng)摩爾定律（Moore’sLaw）前進(jìn)的一套新系統(tǒng)。　　晶圓代工大廠臺(tái)積電（TSMC）董事長張忠謀在SIA年度晚宴的一場與其他產(chǎn)業(yè)界高層同臺(tái)的座談會(huì)上，對半導(dǎo)體制程節(jié)點(diǎn)繼續(xù)微縮表示樂觀；不過他也建議，芯片產(chǎn)業(yè)逐漸邁向成熟，年輕一代的電子工程師可以朝向軟件、

2、計(jì)算機(jī)科學(xué)以及因特網(wǎng)等相關(guān)領(lǐng)域?qū)で笪磥戆l(fā)展?！　　　　笇A廠工程師的人力需求會(huì)維持相當(dāng)穩(wěn)定好一段時(shí)間，」張忠謀表示：「我們對更高密度制程的努力還會(huì)至少持續(xù)另一個(gè)十年，一直到2020年代中期、3納米節(jié)點(diǎn)──我認(rèn)為我們至少將走到那么遠(yuǎn)?！埂　×硪晃粎⑴c座談會(huì)的產(chǎn)業(yè)高層，ADI共同創(chuàng)辦人RayStata則表示，電子工程領(lǐng)域正籠罩危機(jī)，但在芯片制程微縮之外仍有科技進(jìn)展的希望：「EE部門正在萎縮，但我們還是需要受過訓(xùn)練的人員；而我們面臨的挑戰(zhàn)之一，就是無法獲得像以前那么多的EE工程師人才。因此產(chǎn)業(yè)界可能需要承擔(dān)更多教育的責(zé)任，并且直接與各大專院校面對面，讓他們了解產(chǎn)業(yè)界需求。」　　Stata指出，

3、在美國麻省理工學(xué)院（MIT）有一個(gè)育成中心，就是協(xié)助支持對半導(dǎo)體新創(chuàng)公司的投資；這位已經(jīng)轉(zhuǎn)任投資人的前任半導(dǎo)體業(yè)高層表示，現(xiàn)有技術(shù)在系統(tǒng)層級(jí)的結(jié)合，將有助于讓以往聚焦于零組件的電子產(chǎn)業(yè)界更進(jìn)步：「智能型手機(jī)已經(jīng)存在了…但模擬領(lǐng)域還在過渡時(shí)期的中途。」　　英特爾（Intel）前任執(zhí)行長CraigBarrett則是與會(huì)者中對未來最樂觀的。「電子與光子的結(jié)合才剛剛開始，而且那里有非常大的商機(jī)；」他指出：「電子與生物的結(jié)合甚至還沒有開始──到處都有無限的商機(jī)?！埂　　　　府?dāng)我加入Intel的時(shí)候，人們就說摩爾定律已經(jīng)快走到尾聲，我們一直都只有3~4代的技術(shù)進(jìn)展空間；」Barrett表示：「總有人將

4、會(huì)搞清楚如何做出下一代的電子開關(guān)，而且將改變世界；因此就像是RobertNoyce（Intel共同創(chuàng)辦人）說的，忘掉歷史、走出去，做一些美妙的事?！埂　《@得SIA年度Noyce獎(jiǎng)項(xiàng)的半導(dǎo)體設(shè)備大廠ASML技術(shù)長MarTInvandenBrink則在會(huì)后透露，該公司承諾在2024年推出具備0.45penta-pixels/second性能的極紫外光（EUV）微影系統(tǒng)；ASML最近宣布將推出的高數(shù)值孔徑系統(tǒng)，一小時(shí)可生產(chǎn)200片晶圓?！　∠噍^之下，在1958年制造出來的第一顆IC，所采用的微影技術(shù)只能印制50pixels的圖案；vandenBrink表示，那時(shí)候ASML已經(jīng)成立，而他在198

5、4年加入該公司時(shí)，微影技術(shù)的性能已經(jīng)達(dá)到61MPixels/second：「摩爾定律不會(huì)停止，因?yàn)槲覀冇新斆鞯墓こ處熣趪L試?yán)^續(xù)推動(dòng)產(chǎn)業(yè)界向前邁進(jìn)?！埂　BM的感知系統(tǒng)部門資深副總裁暨研究員JohnKellyIII在授予vandenBrink先進(jìn)微影技術(shù)獎(jiǎng)項(xiàng)時(shí)表示：「沒有他，我們恐怕無法讓摩爾定律走得這么遠(yuǎn)，也無法對邁進(jìn)7納米或以下節(jié)點(diǎn)抱著希望；MarTIn以及他的公司現(xiàn)在面臨的最大風(fēng)險(xiǎn)與最重要工作是EUV，而該技術(shù)在過去幾年的進(jìn)展令人驚嘆?！埂　【幾g：JudithCheng　　（參考原文：ChipVeteransScanHorizon，byRickMerritt）