硅基半導(dǎo)體中微觀缺陷和電子結(jié)構(gòu)對材料光電性能的影響

硅基半導(dǎo)體中微觀缺陷和電子結(jié)構(gòu)對材料光電性能的影響

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1、硅基半導(dǎo)體中微觀缺陷和電子結(jié)構(gòu)對材料光電性能的影響摘要本文用正電子湮沒技術(shù)研究了正電子輻照、光照射以及低溫?zé)崽幚韺尉Ч杼栯姵氐奈⒂^缺陷和輸出特性的影響。采用電子陶瓷工藝,在不同的燒結(jié)溫度下制備了多孔二氧化硅陶瓷,用正電子湮沒壽命譜和多普勒展寬譜對其微觀缺陷和結(jié)構(gòu)進(jìn)行研究。實驗結(jié)果表明:(1)采用正電子湮沒輻射作為光源時,太陽電池?zé)o電流和電壓輸出,正電子輻照前后太陽能電池樣品的I.U特性曲線基本重合。正電子對樣品的輻照損傷有限,不改變太陽能電池的伏安輸出特性。(2)單晶硅太陽電池的光電轉(zhuǎn)換效率隨光照時間的增加而呈總體下降的態(tài)勢,

2、且下降一定程度后轉(zhuǎn)換效率基本不變。經(jīng)歷150℃和200℃熱處理之后,效率衰減可以回復(fù),在200℃下熱處理回復(fù)程度更好。(3)太陽電池樣品在經(jīng)歷12小時的長時間燈光輻照過程中,轉(zhuǎn)換效率逐漸下降,然后達(dá)到一個穩(wěn)定的值。樣品被燈光輻照后,其商譜的峰高下降,峰位對應(yīng)的動量增大。在經(jīng)歷200℃左右熱處理之后,效率衰減又可以回復(fù)。對應(yīng)的商譜峰高上升,但仍低于原來的峰高,峰值對應(yīng)的動量減小。,(4)輻照后電池樣品中的硼氧復(fù)合體缺陷回復(fù)速率與熱處理溫度有關(guān),熱處理溫度越高,缺陷回復(fù)的程度越高,缺陷中的氧含量越低。對應(yīng)的商譜譜峰中,150℃熱處理的

3、太陽電池樣品商譜峰的峰高較低,峰位對應(yīng)的電子動量較高。200℃熱處理的太陽電池樣品商譜的峰高較高,峰位對應(yīng)的電子動量較低。(5)氧原子中的2p電子動量高于硅原子的3p電子動量,因此,二氧化硅商譜在11.8×lO。3研筘處有一個相對較高的峰值。(6)原態(tài)二氧化硅微觀缺陷較多,孔隙較大,因此其商譜峰值低于二氧化硅晶體的峰值。(7)在低于1000℃下燒結(jié)的二氧化硅燒結(jié)體,其譜峰峰高隨燒結(jié)溫度的升高而逐漸下降,長壽命t3的值隨燒結(jié)溫度的升高而上升。(8)在1000℃、1150℃、1250℃下燒結(jié)的二氧化硅燒結(jié)體,其譜峰峰值隨著燒結(jié)溫度的升

4、高而逐漸升高,壽命參數(shù)TI、T2和T3的值隨著燒結(jié)溫度的升高而逐漸下降。(9)在1250℃、1350℃、1500℃下燒結(jié)的二氧化硅燒結(jié)體發(fā)生了晶型轉(zhuǎn)變,其譜峰峰值隨著燒結(jié)溫度的升高而逐漸降低,壽命參數(shù)tl、t2和t3的值隨著燒結(jié)溫度的升高而逐漸升高。關(guān)鍵詞:單晶硅太陽電池多孔Si02陶瓷正電子湮沒DoppIer展寬譜硼氧復(fù)合體燒結(jié)溫度IIINFLUENCEoFMICRO.DEFECTSANDELETRoNICSTRUCTUREINTHESILICON.BASEDSEMICoNDUCTORONPHoToELECTRICPROPERT

5、YOFTHEMATEIUALSABSTRACTThee虢ctsofpositron砌ilationradiation,lighti11uminationandheattreatmentonthemicro—defectandelectrici夠outputcharacterofmesmglee巧stalofsiliconsolarcellhavebeen咖diedbypositronannihilationtechniques.Positron1ifetimeandcoincidenceDopplerbroadeningspect

6、raforporoussilicamonolit王1scalcinedatdifrerenttenlperatures仔om900to1500oC,singlec巧吼alofSi02andSihavebeenmeasured.Theresultsshowmat:(1)Whenpositron鋤i王1ilationradiationservedasasourceoflightilluminatingonmesurfaceofthes01arcell,thereisnoou印utofcurrenta11d、,01tage舶mtheso

7、larcell.TheIUcharaCteristicsofthes01arceUbefore觚daRerposi仃onannihilationradiationarebaSicallythes鋤e.Thed鋤ageduetoposi臼onanllillilationradiationislimited,、vhichdidn’tchangemebasicIUoulputcharacteristics.(2)TheconVersionemciencyofsmglec巧stalofsiliconsolarcendecreaseswit

8、htheligmexposuretimeincreasmg,andwillremainbasicallyunchangedWhendroppedtosomeextem.ARer姍ealedatabout150oCandIIl200。C,thecon

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