p型氧化物薄膜及晶體管的制備與性能研究

p型氧化物薄膜及晶體管的制備與性能研究

ID:35175501

大?。?.06 MB

頁數(shù):56頁

時間:2019-03-20

p型氧化物薄膜及晶體管的制備與性能研究_第1頁
p型氧化物薄膜及晶體管的制備與性能研究_第2頁
p型氧化物薄膜及晶體管的制備與性能研究_第3頁
p型氧化物薄膜及晶體管的制備與性能研究_第4頁
p型氧化物薄膜及晶體管的制備與性能研究_第5頁
資源描述:

《p型氧化物薄膜及晶體管的制備與性能研究》由會員上傳分享,免費在線閱讀,更多相關(guān)內(nèi)容在學(xué)術(shù)論文-天天文庫

1、分類號:O41密級:UDC:530學(xué)校代碼:11065碩士學(xué)位論文p型氧化物薄膜及晶體管的制備與性能研究余建敏指導(dǎo)教師單福凱教授學(xué)科專業(yè)名稱物理學(xué)論文答辯日期20160604摘要近幾年,金屬氧化物薄膜晶體管(ThinFilmTransistors,TFTs)由于其卓越的電學(xué)和光學(xué)性質(zhì),在顯示和透明電子器件領(lǐng)域受到了極大的關(guān)注。關(guān)于氧化物薄膜晶體管的文獻報道主要為n型氧化物TFT,p型氧化物TFT研究較少。p型材料的缺失限制了薄膜晶體管在電子顯示和全邏輯透明電路領(lǐng)域中的應(yīng)用。目前p型氧化物TFT的報道主要集中于Cu

2、2O和SnO,制備方法大多采用復(fù)雜的真空物理沉積方法,得到的器件性能也不夠理想。本論文采用溶液法制備了p型NiO和Cu2O薄膜,并研究了不同退火溫度對薄膜結(jié)晶度、表面形態(tài)以及電學(xué)性質(zhì)的影響。采用溶膠凝膠法制備了NiO薄膜,在空氣中對薄膜進行退火,結(jié)果表明:不同退火溫度制備的薄膜均沒有結(jié)晶;粗糙度隨溫度升高逐漸變大;500oC條件下制備的NiO薄膜具有最好的導(dǎo)電性。利用溶膠凝膠法制備Cu2O薄膜,進行不同溫度的真空退火處理,結(jié)果表明:真空退火將CuO還原成Cu2O;高溫退火增強了Cuo2O的結(jié)晶度;600C制備的薄

3、膜導(dǎo)電性最好。在n型SiO2/Si襯底上制備了Cuo2O-TFT,通過測試可得600C條件下制備的TFT得到最好的電學(xué)性質(zhì):開關(guān)電流比為1.6×104,場效應(yīng)遷移率為0.29cm2V-1s-1,閾值電壓為-3.2V,亞閾值擺幅為0.8V/dec。關(guān)鍵詞:溶膠凝膠法;p型薄膜晶體管;氧化鎳;氧化亞銅IAbstractInrecentyears,metaloxidethinfilmtransistors(TFTs)receivedmuchattentionindisplayandtransparentelectron

4、icdevicesfieldsbecauseoftheirsuperiorelectricalandopticalproperties.Mostreportsaboutoxide-basedTFTsconcentratedonn-typeoxideTFTs,however,p-typeoxideTFTswererarelypresented.ThislimitedtheapplicationofTFTsinelectronicdisplayandcomplementarylogic-basedtransparen

5、telectronics.Untilnow,thereportsonp-typeoxideTFTsweremainlyfocusedonCu2OandSnO.Thepreparationmethodwasmainlybasedoncomplexvacuum-baseddepositiontechniquesandthep-typeoxideTFTsgenerallyexhibitedinferiorelectricalperformance.Inthispaper,wefabricatedp-typeNiOand

6、Cu2Othinfilmsbyusingthesolutionprocessanddemonstratedtheeffectofthevariousannealingtemperatureoncrystallinity,surfacemorphologyandelectricalproperty.NiOthinfilmswerepreparedbyusingsol-gelmethodandannealedinair.Itwasfoundthat,thefilmsdepositedatdifferenttemper

7、atureswereamorphousandthesurfaceroughnesswasenhancedwiththeincreaseofannealingtemperature.TheNiOthinfilmannealedat500oCexhibitedthebestelectricalconductivity.Cu2Othinfilmswerefabricatedbysol-gelmethodandannealedatdifferenttemperaturesinvacuumatmosphere.Theres

8、ultsshowedthat,thevacuumannealingprocessreducedCuOtoCu2OandincreasedthecrystallinityoftheCu2O.TheCu2Othinfilmannealedat600oCexhibitedthebestelectricalconductivity.ThentheCu2O-TFTwasfabric

當(dāng)前文檔最多預(yù)覽五頁,下載文檔查看全文

此文檔下載收益歸作者所有

當(dāng)前文檔最多預(yù)覽五頁,下載文檔查看全文
溫馨提示:
1. 部分包含數(shù)學(xué)公式或PPT動畫的文件,查看預(yù)覽時可能會顯示錯亂或異常,文件下載后無此問題,請放心下載。
2. 本文檔由用戶上傳,版權(quán)歸屬用戶,天天文庫負責(zé)整理代發(fā)布。如果您對本文檔版權(quán)有爭議請及時聯(lián)系客服。
3. 下載前請仔細閱讀文檔內(nèi)容,確認文檔內(nèi)容符合您的需求后進行下載,若出現(xiàn)內(nèi)容與標(biāo)題不符可向本站投訴處理。
4. 下載文檔時可能由于網(wǎng)絡(luò)波動等原因無法下載或下載錯誤,付費完成后未能成功下載的用戶請聯(lián)系客服處理。