等離子體及LIBS產(chǎn)品應(yīng)用

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1、NewApplication&Product–PlasmaandLIBS等離子體及LIBS產(chǎn)品應(yīng)用目錄Plasma什么是Plasma產(chǎn)生Plasma的方法Plasma的應(yīng)用方向Plasma檢測(cè)產(chǎn)品應(yīng)用案例LIBS什么是LIBS方法LIBS的應(yīng)用方向LIBS檢測(cè)產(chǎn)品應(yīng)用案例什么是Plasma?物質(zhì)的基本組成是原子，原子=原子核+電子，當(dāng)原子中的電子克服原子核的庫(kù)侖力的束縛時(shí)，帶正電荷的原子核與帶等量負(fù)電荷的電子相互共存，宏觀上整體呈現(xiàn)電中性。這種物質(zhì)形態(tài)稱之為等離子體。生活中的等離子體產(chǎn)生等離子的方法強(qiáng)電場(chǎng)微波激

2、光宇宙射線高能粒子轟擊加熱環(huán)境：土壤、微粒、沉積物材料分析：金屬、礦渣、塑料、玻璃法醫(yī)和生物醫(yī)學(xué)：牙齒、骨頭計(jì)量學(xué)：硅晶片、半導(dǎo)體材料生物學(xué)研究：植物、谷物國(guó)防和軍事：爆破、生化武器藝術(shù)品修復(fù)和保存：顏料寶石學(xué)和冶金學(xué)：貴金屬、寶石等離子的應(yīng)用領(lǐng)域Plasma檢測(cè)產(chǎn)品介紹HR2000+型光譜儀LIBS2500+型光譜儀PLASCALC-2000型光譜儀HR2000+型光譜儀LIBS2500+型光譜儀LIBS2500-7PLUS7通道光譜儀LIBS2500+單通道光譜儀Q延時(shí)觸發(fā)功能：同樣適用于對(duì)脈沖型激光器的光

3、譜波長(zhǎng)及線寬等參數(shù)進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)PLASCALC-2000型光譜儀專業(yè)等離子體鍍膜工藝實(shí)時(shí)監(jiān)控產(chǎn)品氣體分子被離解為較小的自由基M+e-=>M1+M2+e-自由基是具有高能量的化學(xué)物質(zhì)盡管電中性，仍不穩(wěn)定易于其它物質(zhì)反應(yīng)形成穩(wěn)定的化合物Dissociation（離解）(plasmachemistry)例如，Cl自由基對(duì)CCl4離解可產(chǎn)生CCl3和ClAl(s)+3Cl(g)?AlCl3(g)粉末，易溶于有機(jī)溶劑這就是Al的刻蝕過(guò)程Dissociation（離解）自由基被廣泛應(yīng)用于Plasma作用過(guò)程:PlasmaE

4、nhancedChemicalVaporDeposition(PECVD)等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積outcomeofthechemicalreactionisasolidPlasmaEtchingandPlasmaCleaning等離子體刻蝕或清潔outcomeofthechemicalreactionisavaporDissociation（離解）PECVD等離子體刻蝕是采用高頻輝光放電反應(yīng)，使反應(yīng)氣體激活成活性粒子，如原子或游離基，這些活性粒子擴(kuò)散到需刻蝕的部位，在那里與被刻蝕材料進(jìn)行反應(yīng)，形成揮發(fā)性反應(yīng)物

5、而被去除。大氣壓輝光放電（APGD）等離子體特性研究特點(diǎn)：均勻性好，能量效率高，無(wú)需在真空環(huán)境下應(yīng)用：薄膜沉積、材料表面改善、污染物質(zhì)的消毒去污等等離子體具有光輻射特性，因此廈門大學(xué)采用海洋光學(xué)的HR2000+光纖光譜儀進(jìn)行APGD等離子體的研究，研究表明：APGD等離子體光輻射強(qiáng)度與被加載的功率成線性關(guān)系。光譜法檢測(cè)等離子體為有效利用APGD等離子體提供一種簡(jiǎn)便的途徑。等離子光譜檢測(cè)應(yīng)用案例薄膜加工微檢測(cè)應(yīng)用：半導(dǎo)體材料、微電子和微機(jī)械設(shè)備對(duì)薄膜加工質(zhì)量的實(shí)時(shí)監(jiān)控。激光等離子體光譜優(yōu)點(diǎn)：新型、破壞性小、分辨率

6、高、實(shí)時(shí)控制的檢測(cè)手段。采用HR2000+光譜儀進(jìn)行脈沖激光金薄膜微加工過(guò)程中等離子體量與激發(fā)條件的關(guān)系研究，根據(jù)等離子體量可實(shí)現(xiàn)對(duì)微加工過(guò)程去除量的實(shí)時(shí)表征。研究表明：檢測(cè)到的等離子體光譜強(qiáng)度可以反映金薄膜去除量與加工條件間的定性關(guān)系。進(jìn)一步將檢測(cè)到LIBS光譜信號(hào)與薄膜去除量間的關(guān)系量化，可實(shí)現(xiàn)薄膜微加工過(guò)程的實(shí)時(shí)監(jiān)控。等離子光譜檢測(cè)應(yīng)用案例System100-等離子刻蝕與沉積設(shè)備用于終端檢測(cè)的激光干涉和/或光發(fā)射譜可安裝在PlasmalabSystem100以加強(qiáng)刻蝕控制等離子光譜檢測(cè)應(yīng)用案例PLASCA

7、LC-2000型光譜儀專業(yè)等離子體鍍膜工藝實(shí)時(shí)監(jiān)控產(chǎn)品什么是LIBS方法采集發(fā)射光譜脈沖激光器樣品光纖光譜儀激光誘導(dǎo)等離子體原子發(fā)射峰Wavelength(nm)EmissionIntensity410415420425430435440LIBS的應(yīng)用寶石學(xué)冶金半導(dǎo)體采礦考古再循環(huán)法醫(yī)鑒定生物醫(yī)學(xué)的食品工業(yè)軍用環(huán)境生化安全材料分析寶石學(xué)表面鈹散射擴(kuò)散后的藍(lán)寶石、紅寶石分析313nm鈹散射峰200mJ激光器266nm激光器損傷更小對(duì)樣品損傷高度關(guān)注，嚴(yán)格要求激光聚焦在樣品表面，以防止樣品損傷。環(huán)境領(lǐng)域激光感生擊穿

8、光譜的應(yīng)用研究進(jìn)行得最早、最深入的是環(huán)境領(lǐng)域，LIBS主要用于探測(cè)水、土、空氣中重金屬，監(jiān)控水、土、空氣的污染狀況。以土壤分析為例：傳統(tǒng)的化學(xué)檢測(cè)方法需要在實(shí)驗(yàn)室里進(jìn)行并耗費(fèi)大量的時(shí)間用來(lái)進(jìn)行制備、溶解、離子交換等工序。LIBS可實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)快速分析土壤中的Cr、Cu、Fe、Mn、Ni、Pb和Zn等7種重金屬元素，與用直讀光譜儀的測(cè)量方法比較,誤差都不超過(guò)6%。冶金領(lǐng)域激光誘導(dǎo)擊穿光譜可應(yīng)