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1、畢業(yè)設(shè)計(jì)（論文）報(bào)告題目光刻工藝的研究系別專業(yè)液晶顯示技術(shù)與應(yīng)用班級(jí)學(xué)生姓名學(xué)號(hào)指導(dǎo)教師2012年3月光刻工藝的研究光刻工藝的研究摘要：在平面晶體管和集成電路生產(chǎn)中，要進(jìn)行多次的光刻，以實(shí)現(xiàn)選擇性擴(kuò)散和金屬膜布線的目的。光刻工藝是利用光刻膠的感光性和耐蝕性，在SIO2或金屬膜上復(fù)印并刻蝕出與掩模版完全對(duì)應(yīng)的幾何圖形.由于光刻工藝是一種非常精細(xì)的表面加工技術(shù),在平面器件和集成電路生產(chǎn)中得到廣泛應(yīng)用.如果把硅片的外延、氧化、擴(kuò)散和淀積看成是器件結(jié)構(gòu)的縱向控制的話,那么，器件的橫向控制就幾乎全部有光刻來(lái)實(shí)現(xiàn).因此,光刻的精度和質(zhì)量將直接影響器件的性能指標(biāo),同時(shí)也是影響器件的成品率和可靠性的重要
2、因素.目前生產(chǎn)上通常采用的紫外光接觸暴光法光刻工藝的一般過(guò)程;列出幾種常用的光刻腐蝕劑配方;最后對(duì)光刻工藝中較常見(jiàn)的質(zhì)量問(wèn)題進(jìn)行分析和討論.關(guān)鍵詞：光刻、工藝、光刻膠、質(zhì)量問(wèn)題。iv光刻工藝的研究SemiconductorlithographytechnologyAbstract：Intheplanartransistorandintegratedcircuitproduction,toberepeatedlithography,inordertoachieveselectiveproliferationandmetalfilmwiringpurposes.Photoresistlith
3、ographyprocessistheuseofphotosensitiveandcorrosionresistance,intheSIO2oretchingametalfilmcopiesandcorrespondingexactlywiththemaskgeometry.Aslithographyisaveryfinesurfaceprocessingtechnology,Intheproductionofplanardevicesandintegratedcircuitsarewidelyused.Ifthesiliconepitaxy,oxidation,diffusionand
4、depositionastheverticalstructureofthecontroldevice,thenthelateralcontroldeviceandalmostallhadalithographytoachieve.Therefore,theaccuracyandqualityoflithographywilldirectlyaffectthedeviceperformance,butalsoaffectdeviceyieldandreliabilityoftheimportantfactors.CommonlyusedoncurrentproductionofUVexpo
5、surelithographyexposurethegeneralprocessoflaw;listsseveralcommonlithographycorrosiveformula;Finally,thelithographyprocessinthequalityofthemorecommonproblemsareanalyzedanddiscussed.KeyWord:Lithography、Technology、Photoresist、Qualityproblems。iv光刻工藝的研究目錄前言……………………………….…………………………………………..……….1第1章光刻工藝簡(jiǎn)介
6、………….…………...………………………………………...21.1光刻工藝的定義……………..……………………………….………...……...21.2光刻工藝剖析………………..……………………………….……….......…...21.2.1表面準(zhǔn)備……………..………….……………………….………...…...21.2.2涂光刻膠……………..…….…………………………….………...….21.2.3軟烘培……………..…………….……………………….………...….21.2.4對(duì)準(zhǔn)和曝光……………..……………….……………….………...….3第2章光刻工藝流程……………….…
7、…...………………………………..……….32.1光刻工藝步驟……………….……...………………………………………….32.1.1涂膠….……...…………………………………...……………………..….32.1.2前烘….……...…………………………………...……………………..….32.1.3曝光….……...……………………………………...…………………..….42.1.4顯影….……...…………………………………
