光固化成形工藝及制件精度的研究

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1、華中科技大學碩士學位論文光固化成形工藝及制件精度的研究姓名:鄒建鋒申請學位級別:碩士專業(yè):材料加工工程指導教師:莫健華20040427華中科技大學碩士學位論文摘要光固化快速成形是國內(nèi)外應用最廣泛的快速成形技術之一,在產(chǎn)品設計與評估、功能測試和快速制模等方面起到越來越重要的作用。其中,制作工藝的選擇直接影響到光固化成形件的尺寸精度和表面質(zhì)量,進而影響到光固化快速成形技術的推廣與應用,因此,對光固化快速成形技術的制作工藝進行深入的研究具有非常重要的現(xiàn)實意義和應用價值。本文探討了光固化快速成形機理,研究了樹脂固化深度和固化寬度與激光功率、掃描速度等參數(shù)之間的變化規(guī)律,在此基礎上

2、分析了各種工藝參數(shù)和掃描方式對光固化成形件翹曲變形的影響,并提出了相應的措施以減小制件的翹曲變形。再涂層技術是光固化成形中的一項關鍵技術,對光固化制件的成形精度、成形效率起著重要的作用。本文基于國內(nèi)外各種涂層技術的研究,開發(fā)了一種新的涂層技術——含液涂層技術,從而提高了涂層的效率和涂層的穩(wěn)定性。快速成形中的臺階效應嚴重地影響著制件表面質(zhì)量和尺寸精度。本文在研究臺階效應形成機理的基礎上,總結(jié)了臺階效應對制件表面粗糙度和尺寸精度的影響規(guī)律,采取了有效的措施降低了表面粗糙度,提出了一種利用光斑補償來改善制件尺寸精度的方法,使制件在提高表面質(zhì)量的同時,仍能保持所需的尺寸精度。關鍵

3、詞:快速成形光固化成形再涂層系統(tǒng)光斑補償華中科技大學碩士學位論文ABSTRACTStereolithography(SL)isthemostwidelyusedRapidPrototypingtechniqueallovertheworld,itplaysanimportantroleintheproductdesignandevaluation,functiontest,andquicktooling,etc.TheselectionofSLprocesshasdirecteffectsonthedimensionalaccuracyandsurfacequalityo

4、fparts;furthermorethepopularizationandapplicationoftheSL.ThereforetheresearchontheSLprocessismeaningfulandvaluable。ThetheoreticalresearchiscarriedoutonthecuringmechanismofliquidresinunderUVlaser,andtherelationshipbetweenthecuringdepths,curingwidthandlaserpower,scanningspeedispresented.Bas

5、edontheseresearchworks,thedeformationcharacteristicanditsrelationtotheprocessparametersandscanningpattemarestudied.Measurementsaretakentoreducepartsdeformation.RecoatingtechniqueiscriticaltothepartaccuracyandproductivityoftheSLAsystem.Basedontheanalysisresearchofkindsofrecoatingtechniques

6、,anewrecoatingtechniqueisadvancedandappliedinHRPL-Isystem,whichimprovesthereliabilityandproductivityofrecoatingaction.Stair-stepeffectisthemaincausethatdeterioratesthesurfacequalityanddimensionalaccuracyofparts.Therelationshipbetweenthesurfacequality,dimensionalaccuracyandstair-stepeffect

7、isobtained.Meansarepresentedtoreducethesurfaceroughness,andamethodnamedadaptivebeamcompensationisputforward,whichisusedinSLAsystemandleadstoaneffectiveresultinpartsdimensionpreserving.Keywords:RapidPrototypingSter90lithographyRecoatingsystemBeamcompensationII獨創(chuàng)性聲明本人

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