高磷化學鍍鎳磷合金工藝優(yōu)化

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1、高磷化學鍍鎳磷合金工藝優(yōu)化李雨，楊晨，劉定富*（貴州大學化學與化工學院，貴州貴陽550025）摘要：采用正交試驗對化學鍍鎳–磷合金鍍液的添加劑進行優(yōu)化?；A(chǔ)鍍液組成和工藝條件為：NiSO4·6H2O26g/L，化學鍍鎳–磷合金由于具有均鍍能力好、硬度高、NaH2PO2·H2O30g/L，CH3COONa·3H2O16g/L，檸檬酸21.5g/L，耐腐蝕性和耐磨性強等特性，已在工業(yè)領(lǐng)域中獲得較88%乳酸5mL/L，OP-105mg/L，pH4.80±0.2，溫度(88±2)°C，[1-3]廣泛的應用。鎳–磷合金有低磷(1%~4%)、中磷

2、時間2h。探討了添加劑苯駢三氮唑(BAT)、苯并咪唑(BMI)、[4]氨三乙酸(NTA)和硫酸高鈰對鍍速、鍍層光澤度和磷含量的影(5%~8%)和高磷(9%~12%)3種。其中，高磷鎳–響。4種添加劑的最優(yōu)組成為：BAT1.0mg/L，BMI10mg/L，磷合金具有良好的耐蝕性和穩(wěn)定的非磁性，是一種良NTA0.5g/L，Ce(SO4)2·4H2O6mg/L。采用該組合添加劑進行化[5-7]好的功能性鍍層，其應用和開發(fā)已得到迅速發(fā)展。學鍍Ni–P合金時，鍍速為10.92μm/h，鍍層光澤度和磷含量分本文主要以化學鍍鎳沉積速率、鍍層磷含量、

3、鍍層光別為225Gs和12.96%，表面均勻、致密、平整。關(guān)鍵詞：鎳–磷合金；化學鍍；高磷；鍍速；光澤度澤度和鍍層微觀形貌為評價指標，通過正交優(yōu)化得到中圖分類號：TQ153.12文獻標志碼：A了沉積速率高于10μm/h的高磷酸性化學鍍鎳–磷合金文章編號：1004–227X(2014)23–1024–03工藝，制得光澤度大于200Gs、P質(zhì)量分數(shù)在12%以O(shè)ptimizationofelectrolessplatingprocessfor上、結(jié)構(gòu)均勻、致密的層狀鍍層，為實際生產(chǎn)提供一high-phosphorusnickel–phosp

4、horusalloy//LIYu,YANGChen,LIUDing-fu*定的理論指導。Abstract:Theadditivecompositionsofnickel–phosphorus1實驗alloyplatingbathwereoptimizedbyorthogonaltest.Thebasicbathcompositionandprocessconditionsareasfollows:1.1工藝流程NiSO4·6H2O26g/L,NaH2PO2·H2O30g/L,citricacid以55mm×52mm×2mm的45碳鋼片

5、為基體，21.5g/L,CH3COONa·3H2O16g/L,88%lacticacid5mL/L,工藝流程為：砂紙打磨─超聲除油─去離子水洗─OP-105mg/L,pH4.80±0.2,temperature(88±2)°C,andtime2h.Theeffectsofdifferentadditivesincluding20%(體積分數(shù))鹽酸活化─自來水洗─去離子水洗─benzotriazole(BAT),benzimidazole(BMI),nitrilotriacetic化學鍍Ni–P合金─去離子水洗─烘干。acid(NTA)

6、,andcerium(IV)sulfateondepositionrate,1.2基礎(chǔ)鍍液組成和工藝glossiness,andphosphoruscontentofNi–PcoatingwereNiSO4·6H2O26g/Ldiscussed.Theoptimalcompositionsofthefouradditivesareasfollows:BAT1.0mg/L,BMI10mg/L,NTA0.5g/L,NaH2PO2·H2O30g/Landcerium(IV)sulfate6mg/L.Usingthegivencomposit

7、ionCH3COONa·3H2O16g/Lofadditives,anuniform,compact,andlevelNi–Palloy檸檬酸(C6H8O7·H2O)21.5g/Lcoatingcanbeobtainedwithadepositionrateof10.92μm/h,88%(體積分數(shù))乳酸5mL/Lglossinessof225Gs,andphosphoruscontentof12.96%.Keywords:nickel–phosphorusalloy;electrolessplating;OP-105mg/Lhighp

8、hosphoruscontent;depositionrate;glossinesspH4.80±0.2First-author’saddress:SchoolofChemistryandChemicalθ(88±2)°