真空鍍膜歷史

《真空鍍膜歷史》由會員上傳分享，免費在線閱讀，更多相關內容在行業(yè)資料-天天文庫。

1、真空鍍膜歷史類別:技術論文作者/編輯部:摘要/簡介:化學鍍膜最早用于在光學元件表面制備保護膜。隨后，1817年，F(xiàn)raunhofe在德國用濃硫酸或硝酸侵蝕玻璃，偶然第一次獲得減反射膜，1835年以前有人用化學濕選法淀積了銀鏡膜它們是最先在世界上制備的光學薄膜。后來，人們在化學溶液和蒸氣中鍍制各種光學薄膜。50年代，除大快窗玻璃增透膜的一些應用外，化學溶液鍍膜法逐步被真空鍍膜取代。真空蒸發(fā)和濺射這兩種真空物理鍍膜工藝，是迄今在工業(yè)撒謊能夠制備光學薄膜的兩種最主要的工藝。它們大規(guī)模地應用，實際上是在

2、1930年出現(xiàn)了油擴散泵---機械泵抽氣系統(tǒng)之后。內容:1935年，有人研制出真空蒸發(fā)淀積的單層減反射膜。但它的最先應用是1945年以后鍍制在眼鏡片上。1938年，美國和歐洲研制出雙層減反射膜，但到1949年才制造出優(yōu)質的產品。1965年，研制出寬帶三層減反射系統(tǒng)。在反射膜方面，美國通用電氣公司1937年制造出第一盞鍍鋁燈。德國同年制成第一面醫(yī)學上用的抗磨蝕硬銠膜。在濾光片方面，德國1939年試驗淀積出金屬—介質薄膜Fabry---Perot型干涉濾光片。在濺射鍍膜領域，大約于1858年，英國和

3、德國的研究者先后于實驗室中發(fā)現(xiàn)了濺射現(xiàn)象。該技術經歷了緩慢的發(fā)展過程。1955年，Wehner提出高頻濺射技術后，濺射鍍膜發(fā)展迅速，成為了一種重要的光學薄膜工藝?，F(xiàn)有兩極濺射、三極濺射、反應濺射、磁控濺射和雙離子濺射等淀積工藝。自50年代以來，光學薄膜主要在鍍膜工藝和計算機輔助設計兩個方面發(fā)展迅速。在鍍膜方面，研究和應用了一系列離子基新技術。1953年，德國的Auwarter申請了用反應蒸發(fā)鍍光學薄膜的專利，并提出用離子化的氣體增加化學反應性的建議。1964年，Mattox在前人研究工作的基礎上

4、推出離子鍍系統(tǒng)。那時的離子系統(tǒng)在10Pa壓力和2KV的放電電壓下工作，用于在金屬上鍍耐磨和裝飾等用途的鍍層，不適合鍍光學薄膜。后來，研究采用了高頻離子鍍在玻璃等絕緣材料上淀積光學薄膜。70年代以來，研究和應用了離子輔助淀積、反應離子鍍和等離子化學氣相等一系列新技術。它們由于使用了帶能離子，而提供了充分的活化能，增加了表面的反應速度。提高了吸附原子的遷移性，避免形成柱狀顯微結構，從而不同程度地改善了光學薄膜的性能，是光學薄膜制造工藝的研究和發(fā)展方向。實際上，真空鍍膜的發(fā)展歷程要遠遠復雜的多。我們來

5、看一個這個有兩百年歷史的科技歷程：119世紀真空鍍膜已有200年的歷史。在19世紀可以說一直是處于探索和預研階段。探索者的艱辛在此期間得到充分體現(xiàn)。1805年,開始研究接觸角與表面能的關系(Young)。1817年,透鏡上形成減反射膜(Fraunhofer)。1839年,開始研究電弧蒸發(fā)(Hare)。1852年,開始研究真空濺射鍍膜(Grove;Pulker)。1857年,在氮氣中蒸發(fā)金屬絲形成薄膜(Faraday;Conn)。1874年,報道制成等離子體聚合物(Dewilde;Thenard)

6、。1877年,薄膜的真空濺射沉積研究成功(Wright)。1880年,碳氫化合物氣相熱解(Sawyer;Mann)。1887年,薄膜的真空蒸發(fā)(坩堝)(Nahrwold;Pohl;Pringsheim)。1896年,開始研制形成減反射膜的化學工藝。1897年,研究成功四氯化鎢的氫還原法(CVD);膜厚的光學干涉測量法(Wiener)。220世紀的前50年1904年,圓筒上濺射鍍銀獲得專利(Edison)。1907年,開始研究真空反應蒸發(fā)技術(Soddy)。1913年,吸附等溫線的研究(Langm

7、uir,Knudsen,Knacke等)。1917年,玻璃棒上濺射沉積薄膜電阻。1920年,濺射理論的研究(Guntherschulzer)。1928年,鎢絲的真空蒸發(fā)(Ritsehl,Cartwright等)。1930年,真空氣相蒸發(fā)形成超微粒子(Pfund)。1934年,半透明玻璃紙上金的卷繞鍍(Kurz,Whiley);薄膜沉積用的玻璃的等離子體清洗(Bauer,Strong)。1935年,金屬紙電容器用的Cd:Mg和Zn的真空蒸發(fā)卷繞鍍膜研究成功(Bausch,Mansbridge);帕

8、洛馬100英寸望遠鏡鏡面鍍鋁(Strong);光學透鏡上鍍制單層減反射膜(Strong,Smakula);金屬膜生長形態(tài)的研究(Andrade,Matindale)。1937年,使用鉛反射器的密封光束頭研制成功(Wright);真空卷繞蒸發(fā)鍍膜研制成功(Whiley);磁控增強濺射鍍膜研制成功(Penning)。1938年,離子轟擊表面后蒸發(fā)取得專利(Berghaus)。1939年,雙層減反射膜鍍制成功(Cartwright,Turner)。1941年,真空鍍鋁網制成雷達用的金屬箔。1942年,