軟刻蝕用母模板的聚焦離子束刻蝕技術(shù)制備研究.pdf

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1、軟刻蝕用母模板的聚焦離子束刻蝕技術(shù)制備研究秦美霞材料科學(xué)與工程學(xué)院化學(xué)工程王紅斌研究員張繼成副研究員201543ClassifiedIndex:TN305.7U.D.C:621.94SouthwestUniversityofScienceandTechnologyMasterDegreeThesisStudiesontheFabricationofMasterMoldforSoftLithographybyFocusedIonBeamEtchingGrade:2012Candidate:QinMeiXiaAcademicDegreeAp

2、pliedfor:MasterDegreeSpeciality:ChemicalengineeringSupervisor:Prof.WangHongbinAssociateProf.ZhangJichengApril3,2015獨(dú)創(chuàng)性聲明本人廯明銜Vi交的論it圮收化!沐⑴1jhih的坫句

3、fj妗jfUftijWTt成ft,琢我所知.除,文巾打塒加以b.;;j丨拷塒內(nèi)咿辦外.味,j屮v料4Wfc人ilf?發(fā)衣玫攜馬過_宄成

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5、t.它?肖機(jī)構(gòu)的學(xué)彳_>成詘書而儀n過妁i:m..1」伐.hnv的h.j,.々h-卩)丨

6、nt*的仔叫S默均己在論a:中作f明確的說丨ij外灰y/■叫總..關(guān)子論文使用和授權(quán)的說明本人s余r解西兩科抆大畢有關(guān)保留、仗用朵位論文的如定‘i子校冇權(quán)保位論文的釔印件.允許該論文被5:月祀併w:,7:校可以公布改論文的令鈾哄部分灼容.4以采川肜印-坩印或其他反制手玟保存企文’(梠s的乍位論文分腫耷后應(yīng)迢守北規(guī)西南科技大學(xué)碩士研究生學(xué)位論文第I頁摘要聚二甲基硅氧烷(polydimethylsiloxane,以下簡(jiǎn)稱PDMS)軟模板在生物醫(yī)藥、物理化學(xué)等領(lǐng)域具有重要的應(yīng)用價(jià)值。而PDMS軟模板的制備源于母模板結(jié)構(gòu)的制造,因此制備出高分辨

7、率、精細(xì)的三維母模板結(jié)構(gòu)是PDMS軟模板結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵。一般以光刻膠、Si和SiO2等作為母模板結(jié)構(gòu),目前加工母模板結(jié)構(gòu)的方法有干涉光刻技術(shù)和電子束光刻技術(shù)等。但是這些方法制備PDMS軟刻蝕用母模板工藝復(fù)雜,需要旋涂光刻膠、曝光、顯影、定影和反應(yīng)離子束刻蝕等步驟,并且其加工的結(jié)構(gòu)一般為準(zhǔn)三維結(jié)構(gòu)?;谏鲜銮闆r,本文提出利用聚焦離子束刻蝕技術(shù)制備PDMS軟刻蝕用母模板,并在Si基底上制備出15?m×15?m的輪廓清晰的三維結(jié)構(gòu)母模板,三甲基氯硅烷作為抗粘連層旋涂于Si基底表面,其后旋涂PDMS預(yù)聚物復(fù)制模鑄出與Si基底表面圖案互補(bǔ)的三維結(jié)構(gòu)。

8、通過接觸角測(cè)量?jī)x對(duì)Si基底表面疏水性能和用AFM對(duì)PDMS樣品表面形貌進(jìn)行表征。研究結(jié)果表明,特征圖形及小尺寸結(jié)構(gòu)都得到了很好的轉(zhuǎn)移,15?m×15?m結(jié)構(gòu)中小尺寸圓柱直徑713.56nm,高度51.39nm也得到很好的倒模。其中用庚烷稀釋PDMS預(yù)聚物,倒模出的PDMS軟模板結(jié)構(gòu)縱橫比達(dá)到1:1。該方法相對(duì)于傳統(tǒng)軟刻蝕用母模板制備技術(shù),加工的三維結(jié)構(gòu)具有操作步驟簡(jiǎn)單、制備周期短的特點(diǎn),是一種有效的制備軟刻蝕母模板方法。聚焦離子束刻蝕技術(shù)在PDMS軟刻蝕用母模板結(jié)構(gòu)中的成功制作,有助于進(jìn)一步探索其在更小尺寸及微納米結(jié)構(gòu)器件中的應(yīng)用。關(guān)鍵

9、詞:聚焦離子束刻蝕技術(shù)軟刻蝕技術(shù)三維加工聚二甲基硅氧烷模板西南科技大學(xué)碩士研究生學(xué)位論文第II頁AbstractPolydimethylsiloxane(PDMS)softmoldhaveanimportantapplicationvalueinbiologicalmedicineandphysicalchemistryfields.PDMSsoftmoldofmanufacturingderivefrommastermoldstructures.Sothemastermoldstructuresofhighresolutionandh

10、ighprecisionarethekeytomakethePDMSsoftmold.Atpresent,themethodsofmanufacturingmastermoldareInterferometricLithography(IL)andElectronBeamLithography(EBL)andsoon,butthesemethodsneedspincoatingphotoresist,exposure,developing,fixer,reactiveionetchingstepsandthestructuresofpr

11、ocessingarecommonlyquasitree-dimensionalstructures.Basedontheabovesituation,weuseamethodbasedonFIBtofab

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