從熱蒸發(fā)多孔氧化硅薄膜表面形貌研究其生長機理.pdf

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1、從熱蒸發(fā)多孔氧化硅薄膜表面形貌研究其生長機理/趙麗特等·37·從熱蒸發(fā)多孔氧化硅薄膜表面形貌研究其生長機理趙麗特,范東華,朱慧群,羅堅義,王憶,龍擁兵,文銓(五邑大學應用物理與材料學院,江門529020)摘要薄膜的表面形貌與生長機理相關(guān),因此可以通過研究薄膜表面形貌的演變來外推其生長機理。利用熱蒸發(fā)法在硅片上制備了納米多孔二氧化硅薄膜,利用掃描電鏡(SEM)和x射線能譜(EDS)對不同樣品的形貌、成分進行了表征。研究發(fā)現(xiàn)所制備的薄膜是由線狀結(jié)構(gòu)或直立的片狀結(jié)構(gòu)所構(gòu)成的多孔結(jié)構(gòu)。利用馬拉高尼效應和潤濕理論,對薄膜的氣一液一固生長機理和氧化物輔助生長機理進行了探

2、討。關(guān)鍵詞薄膜多孔氧化硅納米線納米片生長機理中圖分類號:TB321文獻標識碼:ADOI:10.11896/j.issn.1005—023X.2015.12.009StudyonGrowthMechanismfromMorphologyofPorousSilicaFilmsDepositedbyThermalEvaporationZHAOLite,F(xiàn)ANDonghua,ZHUHuiqun,LUOJianyi,WANGYi,LONGYongbing,WENQuan(SchoolofAppliedPhysicsandMaterials,WuyiUniversity

3、,Jiangmen529020)AbstractBecausethesurfacemorphologyofthefilmiscorrelatedwithitsgrowthmechanism,itsgrowthmechanismcanbededucedfromtheevolutionofthesurfacemorphology.PoroussilicafilmswerepreparedonSisub—stratesbythermalevaporationdepositionmethods.Thesurfacemorphologyandcompositionof

4、differentsamplesweredescribedbymeansofscanningelectronmicroscopeandX-rayenergydispersivespectroscopy,whoseresultsindicatedthepreparedsampleshaveporousstructurecomposedofnanowiresorstand-upnanosheets.Thegrowthmechanismsoffilms,includingthevapor-liquid-solidmechanismandoxide-assisted

5、growthmechanism,werealsodiscussedbyMa—rangonieffectandwettingtheory.Keywordsthinfilms,poroussilica,nanowires,nanosheets,growthmechanism膜由于特殊的納米尺度空洞的微觀結(jié)構(gòu)而具有許多優(yōu)異的0引言性能,可用作寬帶減反射膜、低介電常數(shù)絕緣層、聲阻抗耦合薄膜的表面形貌及各種表面缺陷和材料的性質(zhì)及應用材料、高效絕熱層、防眩光涂層、超高速集成電路基片以及過有密切關(guān)系[1],從薄膜生長的角度看,薄膜的形核和生長行濾薄膜、分離薄膜、催化薄膜等

6、,因此納米多孔SiO。薄膜的為決定薄膜的表面狀態(tài),進而影響薄膜的特性。薄膜成核長制備與性能表征備受關(guān)注_9,但是對多孔Si0薄膜的形大的具體過程包括:原子沉積到襯底、從襯底再蒸發(fā)、互擴散成和生長的研究還遠遠不足。(在襯底表面、晶核表面、界面處擴散)、成核、長大等。這些本工作利用熱蒸發(fā)法在Si片上制備了納米多孔SiO。薄過程都是隨機過程,受到不同的制備方法、生長條件和襯底膜,根據(jù)分形理論(分形是圖形中整體和局部有某種方式相材料等因素的影響,因此薄膜生長動力學的研究過程相當復似的形),對不同放大倍數(shù)的SEM圖片整體和局部進行了詳雜。Herring~z]認為,薄膜

7、的表面形貌是與生長機制相關(guān)的,細的分析。經(jīng)過分析其表面形貌,采用氣一液一固(Vapor-li-可以通過研究薄膜表面形貌的演變來外推其生長機理。隨quid-solid,VLS)生長機理和氧化物輔助生長機理(Oxide-as—著目前檢測手段的不斷進步,可以獲得非常清晰的微觀圖像sistedgrowthmechanism)研究多孔SiO2薄膜的生長機理。為研究表面形貌和生長機制提供依據(jù)。利用潤濕理論,對薄膜的VLS生長機理和氧化物輔助生長自從1990年Canham觀測到多孔硅的發(fā)光現(xiàn)象以來L3],機理的關(guān)系進行了探討。類比酒腿(也叫酒淚)現(xiàn)象,利用馬多孔硅、硅納米

8、線、氧化硅納米線及非晶Si/SiO2薄膜等硅基拉高尼

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