電沉積過程中Cl-對Cu2O晶粒形貌的影響-論文.pdf

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1、第4l卷第3期人工晶體學(xué)報Vo1.41No.32012年6月JOURNALOFSYNTHETICCRYSTALSJune,2012電沉積過程中Cl一對Cu20晶粒形貌的影響趙文燕,田傳進,謝志鵬,汪長安,李月明(1.景德鎮(zhèn)陶瓷學(xué)院材料科學(xué)與工程學(xué)院,景德鎮(zhèn)333403;2.清華大學(xué)材料科學(xué)與工程系,北京100084)摘要:在酸性溶液中,以透明導(dǎo)電玻璃(ITO)為工作電極,Pt網(wǎng)為對電極,電化學(xué)沉積制備了CuO顆粒膜。利用了X射線衍射(XRD)研究了Cu0的結(jié)構(gòu),掃描電子顯微鏡(SEM)研究了添加劑對晶粒形貌的影響,并對晶體的生長機

2、制進行了討論。結(jié)果表明,由于cl一在Cu0不同晶面的選擇吸附作用,隨cr濃度的增加,Cu:0的形貌由樹枝狀結(jié)構(gòu)逐漸向立方結(jié)構(gòu)過渡。關(guān)鍵詞:Cu0;電沉積;形貌;生長機制中圖分類號:TB383文獻標識碼:A文章編號:1000-985X(2012)03-0733-04InfluenceofCI—ontheMorphologyofCu20FilmsinElectr0dep0siti0nProcessingZHAOWen.yan,TIANChuan-jin,XIEZhi-peng,WANGChang.a(chǎn)rt,LIYue.ming(1.Sc

3、hoolofMaterialScienceandEngineering,JingdezhenCeramicInstitute,Jingdezhen333403,China;2.DepartmentofMaterialsScienceandEngineering,TsinghuaUniversity,Beijing100084,China)(Received16January2012,accepted54p2012)Abstract:Cuprousoxide(Cu20)thinfilmwereelectrodepositedonin

4、dium—dopedtinoxide(ITO)substratesfromaslightlyacidicCu(II)acetatesolution.ThestructureofCu2OwerestudiedbytheX-raydiffraction(XRD)andtheinfluenceonCu2Ocrystalparticlesmorphologieswerestudiedbyscanningelectronmicroscopy(SEM).Agrowthmechanismwasproposedaccordingtotheexpe

5、rimentalresults.TheresultsshowthattheCu2Omorphologiesevolvedfromdendriticbranchingtocube-likewiththeincreasingoftheC1一concentrationduetotheadsorptionofC1一indifferentCu2Ocrystalsurface.Keywords:Cu20;electrodeposition;morphology;growthmechanism1引言隨著傳統(tǒng)化石能源的日趨消耗殆盡和因CO過度排放

6、而導(dǎo)致環(huán)境惡化,清潔可再生能源的開發(fā)和利用越來越引起人們的關(guān)注。其中,太陽能因其能量巨大,清潔日益得到重視,而探索具有潛在應(yīng)用前景的太陽能電池薄膜材料成為極其重要的研究方向。氧化亞銅(CuprousOxide)是一種P型半導(dǎo)體材料,禁帶寬度在1.9—2.38eV之間,無毒,制備成本低,理論利用效率較高(9%一l1%),是一種應(yīng)用潛力很大的太陽能電池半導(dǎo)體材料,。CuO薄膜可以通過電沉積',化學(xué)浴沉積法]、磁控濺射法]、氣相沉積法[7]、熱氧化法制得。其中,電沉積方法因制備工藝簡單、容易操作、純度高、成本低、能制備大面積可控制結(jié)構(gòu)和

7、厚度收稿日期:2012-01—16;修訂日期:2012-04-05作者簡介:趙文燕(1981-),女,山東省人,講師。E—mail:zhaowy08@mails.jlu.edu.cn通訊作者:謝志鵬,教授。E—mail:xzp@mail.tsinghua.edu.ca人工晶體學(xué)報第41卷的薄膜等優(yōu)勢而成為一種最引人注目的方法。納米材料的性能不僅與物質(zhì)的種類有關(guān),而且與粒子的微結(jié)構(gòu)和形貌有著密切地聯(lián)系,只有實現(xiàn)對納米材料微結(jié)構(gòu)的有效控制,才能進一步將其應(yīng)用于微電子器件等高科技領(lǐng)域。人們通過電沉積法得到了各種形貌的CuO,如立方體,球

8、形,納米線¨。,類花狀Ⅲ,等。本文就選用了酸性醋酸銅體系,通過陰極還原制備了均勻的CuO顆粒膜,研究了CuO的形貌與添加劑的關(guān)系,并對產(chǎn)物進行了表征。2實驗電化學(xué)沉積采用恒電位沉積法,ITO襯底作為工作電極,鉑網(wǎng)為對電極,參比電極為飽和Hg/HgC

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