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1、贛卷第1期Vlol-32No．1【三廢治理】工藝參數(shù)對電滲析法再生化學(xué)鍍鎳廢液的影響何湘柱，～，宋清，黃利勇，張文俊，趙國鵬(1．廣東工業(yè)大學(xué)輕工化工學(xué)院，廣東廣州510006；2．廣州市二輕工業(yè)科學(xué)技術(shù)研究所，廣東廣州510663)摘要：采用電滲析法研究了化學(xué)鍍鎳廢液的再生工藝，分析了First-author’address：FacultyofChemicalEngineering溫度、膜間距以及物料流速對鍍液中HPO一的去除率以及Ni2+、andLightIndustry，GuangdongUniversityofTechnology，HPO：損失
2、率的影響。得出適宜的工藝條件為：溫度26。c，Guangzhou510006，China膜間距5cm，物料流速25s／L。對再生鍍液所得鍍層的性能進(jìn)行了測試，并通過掃描電鏡和x射線衍射進(jìn)行了微觀形貌及結(jié)化學(xué)鍍鎳由于具有均鍍能力好、硬度高，耐腐蝕、構(gòu)分析。結(jié)果表明：在適宜條件下再生鍍液所得鍍層的性能與耐磨，鍍覆部件不受尺寸形狀限制，以及不需外加電新開缸鍍液所得鍍層相近，其微觀形貌與新開缸鍍液使用至第源等優(yōu)點(diǎn)，在各個(gè)工業(yè)領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用【】～1。但三周期所得鍍層的微觀形貌相似，該鍍層具有非晶態(tài)結(jié)構(gòu)。是，隨著化學(xué)鍍施鍍過程的進(jìn)行，副產(chǎn)物亞磷酸根不關(guān)鍵詞：
3、化學(xué)鍍鎳；廢液；電滲析；再生；形貌；微觀結(jié)構(gòu)斷積累，最終會(huì)導(dǎo)致化學(xué)鍍鎳溶液報(bào)廢。而廢液中含中圖分類號(hào)：TQ153．12；X781．1文獻(xiàn)標(biāo)志碼：A有大量磷和鎳離子，如果不加處理就直接排放，不僅文章編號(hào)：1004—227X(2013)01—0045—04會(huì)造成資源的浪費(fèi)，而且會(huì)嚴(yán)重污染環(huán)境。Efectsofprocessparametersonregenerationofspentelectrolessnickelplatingbathbyelectrodialysis／／HE目前處理化學(xué)鍍鎳廢液的主要方法有化學(xué)沉淀Xiang—zhu，SONGQing，
4、HUANGLi—yong，ZHANG法、電解法、催化還原法、綜合處理法、電滲析法等【3]。Wen．iun．ZHAOGuopeng電滲析法是在靜電場力的作用下，使陰、陽離子分別Abstract：Thespentelectrolessnickelplatingbathwas透過陰、陽離子交換膜，達(dá)到溶液脫鹽的目的_1剛。該regeneratedbyelectrodialysis．Theefectsoftemperature，法可大量去除廢液中有害的亞磷酸鹽、鈉鹽及硫酸鹽，membraneinterva1．a(chǎn)ndflowrateontheremova1rat
5、eof而廢液中的有效成分損失較少，通過適當(dāng)?shù)难a(bǔ)加，廢HP0一andthelOSSratesofNiandHPO1werestudied．液可以達(dá)到再生的目的。因此，采用電滲析法處理化Theappropriateprocessconditionswereobtainedasfollows。．il．學(xué)鍍鎳廢液可以達(dá)到節(jié)約資源以及減少環(huán)境污染的效25s／．果。，本課題組已采用電滲析法對化學(xué)鍍鎳廢液的再生進(jìn)行了前期研究[11-12】。本文在其基礎(chǔ)上，考察了電滲_●析工藝中溫度、膜間距以及物料流速的影響，對采用處理后的鍍液施鍍所得鍍層的性能以及微觀形貌進(jìn)行，了測
6、試表征，并與新開缸鍍液施鍍的鍍層進(jìn)行了對比，一研究。(．1實(shí)驗(yàn)化學(xué)鍍鎳廢液來源于廣東某化學(xué)鍍鎳廠，以日本的CMS交換膜和上海的異相陰離子交換膜組成膜對，收稿日期：2012-09-02修回日期：2012—10—14采用循環(huán)水保持恒溫，流速采用微型水泵加閥門的方基金項(xiàng)目：國家自然科學(xué)基金項(xiàng)目(50004003)：廣東省中小企業(yè)創(chuàng)新項(xiàng)目(2009CY129)；廣州市科技建設(shè)項(xiàng)目(2069903)；廣東省211工程法加以控制。電滲析電流密度均為65ma／cm，電滲析建設(shè)項(xiàng)目(412110904)。裝置和HP0一、H，PO以及Ni的去除(損失)率的測作者簡介：何
7、湘柱(1966一)，男，湖南桂陽人，教授，主要從事應(yīng)用定參考文獻(xiàn)[11]。鍍層厚度用FischerXDLXYmz型x電化學(xué)、功能材料制備、腐蝕與防護(hù)等方面的研究。作者聯(lián)系方式：(E·mail)gghexz@163．tom。熒光測厚儀測定，鍍層厚度除以時(shí)間可得沉積速率：·么·工藝參數(shù)對電滲析法再生化學(xué)鍍鎳廢液的影響鍍層硬度用HXD．IO00TC圖析手轉(zhuǎn)顯微硬度計(jì)測得；膜間距下進(jìn)行48h電滲析處理，其結(jié)果見表1。表1不同膜間距下各離子的去除率或損失率鍍層磷含量用ThermoScientificARLQUANT’XTable1Removalorlossrat
8、esofvariousionsatdifferentEDXRFAnalyzer測定；采用AHL
