Cu箔襯底上石墨烯納米結(jié)構(gòu)制備-論文.pdf

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1、第31卷第4期材料科學(xué)與工程學(xué)報(bào)總第l44期Vo1.31NO.4JournalofMaterialsScience&EngineeringAug.2013文章編號(hào):1673—2812(2013)04—0489—06Cu箔襯底上石墨烯納米結(jié)構(gòu)制備葛雯-口斌(浙江大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)系硅材料國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室。浙江杭州310027)【摘要】采用低壓化學(xué)氣相沉積法(LPCVD)在Cu箔上制備出了單層石墨烯納米結(jié)構(gòu),用掃描電子顯微鏡(SEM)、原子力顯微鏡(AFM)和拉曼光譜等對(duì)其結(jié)構(gòu)和形貌等進(jìn)行了表征。在此基礎(chǔ)上,通過(guò)調(diào)節(jié)生長(zhǎng)參數(shù),制備多

2、種形貌的石墨烯結(jié)構(gòu),著重探索了在生長(zhǎng)溫度為1000℃、生長(zhǎng)時(shí)問(wèn)為2rain時(shí),CH:H、生長(zhǎng)壓強(qiáng)和襯底晶體取向?qū)κ┏跏夹蚊驳挠绊懸?guī)律,石墨烯的形貌主要取決于C的擴(kuò)散/沉積和H對(duì)石墨烯的刻蝕,當(dāng)氫氣的刻蝕作用占主導(dǎo)地位時(shí),石墨烯為規(guī)則的六邊形,當(dāng)c的擴(kuò)散/沉積占主導(dǎo)作用時(shí),c沿著特定的方向擴(kuò)散快,形成花狀形貌;而背電子散射衍射(EBSD)研究表明,襯底Cu箔的取向?qū)κ┬蚊驳挠绊懖幻黠@,沒(méi)有觀察到襯底取向與石墨烯結(jié)構(gòu)之間的直接聯(lián)系?!娟P(guān)鍵詞】石墨烯;CVD;石墨烯形貌中圖分類號(hào):TQ127.1;O613.71文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:AG

3、rowthofGrapheneNanostructuresonCuFoilsGEWen,LUBin(StateKeyLabofSiliconMaterials,DepartmentofMaterialsScienceandEngineering,Zh~iangUniversity,Hangzhou310027,China)[Abstract]SinglelayergraphenenanostructureshavebeenpreparedonCufoilsbylowpressurechemicalvapordeposition(

4、LPCVD),andwerethencharacterizedbyscanningelectronmicroscope(SEM),atomicforcemicroscope(AFM)andRamanmicroscopy.CVD-growngrapheneexhibitsvariousmorphologiesandshapesbytuninggrowthconditions.WestudiedtheeffectoftheCH4:H2ratio,thetotalgrowthpressureandtheorientationofCus

5、ubstrateongrapheneshapesforthesampleswiththegrowthtemperatureof1000。Candthegrowthtimeof2min.Itisrevealedthatthebalancebetweencarbondiffusi0n/depositionandhydrogenetchingaffectsthegrapheneshapesgreatly,inwhichgraphenepreferredtoformhexagonswhenhydrogenetchingpredomina

6、tedoverCdiffusion/deposition,whiletendedtoformflowerswithconditionsinreverse.Additionally,nodistinctrelationshipisfoundbetweenthegrapheneshapeandtheunderneathgrainorientationofCu.[Keywords]graphene;CVD;grapheneshape于布里淵區(qū)的Dirac點(diǎn),是一種零帶隙的半導(dǎo)體,或稱士丘半金屬。石墨烯材料具有優(yōu)異的光學(xué)、電學(xué)、力學(xué)、熱

7、學(xué)等性能,在透明電極、場(chǎng)效應(yīng)晶體管、探測(cè)器。等方石墨烯是由碳原子在二維平面按六方晶格規(guī)律排面有著廣泛的應(yīng)用前景。常用的制備石墨烯方法有四布形成的點(diǎn)陣,呈現(xiàn)蜂窩狀結(jié)構(gòu)。其導(dǎo)帶和價(jià)帶相交種:微機(jī)械剝離法Ⅲ、SiC外延生長(zhǎng)法、化學(xué)氣相沉收稿日期:2012-12—05;修訂日期:2012-12—29基金項(xiàng)目:國(guó)家自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(51002134),浙江省錢江人才計(jì)劃資助項(xiàng)目(2011R10044)作者簡(jiǎn)介:葛雯,女,碩士研究生,主要從事石墨烯材料的相關(guān)研究。通訊作者:呂斌,副研究員,E—mail:binlu@ziu.edu.crl

8、。·490·材料科學(xué)與工程學(xué)報(bào)2013年8月積法(CVD)E6]和氧化石墨還原法_7]。其中,化學(xué)氣相氣體,生長(zhǎng)20min后使樣品快速降溫至室溫。沉積法(CVD)中的常壓和低壓CVD法被廣泛使用,2.2石墨烯的轉(zhuǎn)移它可以制備出大面積、高質(zhì)量的晶體石墨烯,被認(rèn)為是

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