玻璃減薄蝕刻液中氟硅酸的選擇性脫除方法

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1、玻璃減薄蝕刻液中氟硅酸的選擇性脫除方法李凱華1晏乃強1*徐亞玲2黃源2瞿贊1劉志彪2(1．上海交通大學(xué)環(huán)境科學(xué)與工程學(xué)院，上海200240;2．杭州格林達化學(xué)公司，杭州311200)摘要光電玻璃減薄蝕刻液中氟硅酸(H2SiF6)的累積，是導(dǎo)致蝕刻液無法連續(xù)使用而轉(zhuǎn)化為廢液的主要原因。嘗試對蝕刻廢液中氟硅酸進行選擇性脫除工藝，探索刻蝕液循環(huán)利用的有效處理方法。鑒于氟硅酸的堿金屬鹽具有溶解度較低的特點，研究考察了利用鈉鹽或鉀鹽為沉淀劑，將廢液中的H2SiF6以氟硅酸鹽的形式沉淀去除，為實現(xiàn)蝕刻液的循環(huán)利用提供可能。結(jié)果表明，KCl相比NaCl對H2SiF6處理

2、效果更好，但生成的K2SiF6的結(jié)晶顆粒過細(xì)，難以自然沉降，過濾效果較差;而Na2SiF6結(jié)晶沉降特性較好，且使用NaCl為沉淀劑具有價廉易得等特點，可作為氟硅酸的理想沉淀劑。H2SiF6去除率與堿金屬鹽H2SiF6摩爾計量比正相關(guān)，當(dāng)摩爾計量比NaCl/H2SiF6=2，H2SiF6含量10%的模擬廢液，其H2SiF6去除率可達到90%以上。關(guān)鍵詞玻璃減薄刻蝕液H2SiF6選擇性脫除沉淀劑中圖分類號X703文獻標(biāo)識碼A文章編號1673-9108(2014)03-1079-07Methodofselectiveremovaloffluosilicicaci

3、dfromusedglassthinningsolutionLiKaihua1YanNaiqiang1XuYaling2HuangYuan2QuZan1LiuZhibiao2(1．SchoolofEnvironmentalScienceandEngineering，ShanghaiJiaoTongUniversity，Shanghai200240，China;2．HangzhouGreendaChemicalCompanyLimited，Hangzhou311200，China)AbstractTheaccumulationoffluosilicicaci

4、d(H2SIF6)inthethinningprocessoftheelectronicgradeglassisoneofthemainreasonstocausethedegradationofthethinningsolutionandthedischargeofsuchkindofwastesolution．ThisstudywasconcentratedontheremovalofH2SiF6fromtheusedglassthinningsolutionwith-outdestroyingthebasicconstituentsofthesolu

5、tion．Basedonthecharacteristicoflowsolubilityofthealkalifluo-silicatesalts，sodiumsaltandpotassiumsaltweretentativelyemployedastheprecipitationagentstoreactwithH2SiF6andformNa2SiF6orK2SiF6sediment．ItwasfoundthatusingexcesssodiumorpotassiummetalsaltscouldremoveH2SiF6efficiently．Compa

6、rewithK2SiH6，theprecipitationpropertyofNa2SiF6particleismuchbetterandthesodiumsaltisalsoinexpensive．Therefore，sodiumchlorideappearedtobethepotentialcandida-turefortheremovalofH2SiF6fromtheusedglassthinningsolution．TheremovalefficiencyofH2SiF6wasover90%at2forthemoleratioofNaCl/H2Si

7、F6and10%ofH2SiF6concentrationinthesimulatesolution．Keywordsglassthinningsolution;H2SiF6;selectiveremoval;precipitationagent隨著現(xiàn)代科技的發(fā)展，電子顯示設(shè)備越來越趨向輕薄化，光電玻璃屏的厚度已從1996年的1．1mm降至目前0．5mm，在手機等便攜式設(shè)備中應(yīng)用反應(yīng)如下［1］:4HF+SiO2→SiF4+2H2O(1)SiF4+2HF→H2SiF6(2)的玻璃厚度更下降至0．3mm以下。在顯示玻璃屏的制作環(huán)節(jié)中，玻璃基板的減薄化處置是

8、確保該工藝完成的重要環(huán)節(jié)，玻璃減薄效果的好壞將直接影響產(chǎn)品的質(zhì)量。