激光蝕刻電容圖形設計

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1、激光蝕刻電容圖形設計要求1.如圖1所示為上線激光蝕刻圖形，紅色圖層為ITO蝕刻線，配合著粉紅色圖層（銀漿蝕刻線）使每個引腳區(qū)域絕緣；圖1上線圖形2.如圖2，A區(qū)域為激光蝕刻后有效區(qū)域，B區(qū)域為無效區(qū)域，C區(qū)域激光蝕刻連接處需要延長0.2mm，可有效避免蝕刻不斷現(xiàn)象；圖2上線圖形3.如圖3所示為下線激光蝕刻圖形，紅色圖層為ITO蝕刻線，配合著粉紅色圖層（銀漿蝕刻線）使每個引腳區(qū)域絕緣；圖3下線圖形1.如圖4，線段A目的是為了分看區(qū)域A和區(qū)域B,因下線引腳在兩邊，所以需要一條阻隔線段；圖41.如圖5為濕刻圖形，紅色填充部分為濕刻掉ITO；激光蝕刻圖

2、形設計如圖6，紅色線為激光鐳射線，鐳射線寬在40um左右；圖5圖62.如果蝕刻圖形內(nèi)有很多小方框，方框的設計方式應該如圖7，“A”位置應該重疊0.2mm，這樣可以使激光完全閉合；“B”位置和“C”位置為蝕刻較差處延長部分，每邊延長0.2mm；圖71.設計圖形時盡量減少單條線的數(shù)量，這樣可以提高蝕刻效率；銀漿蝕刻圖注意事項1.蝕刻線間距至少為線寬一倍，這樣可以提高蝕刻線功能性；即：蝕刻線寬為40um時，設計線間距大于等于80-100um，激光蝕刻后銀漿線寬為80um-40um=40um，如下圖所示；1.設計的蝕刻線在銀漿引腳中間，這要可以避免各種

3、誤差引起蝕刻線偏移導致功能不良；2.設計的蝕刻線離銀漿邊緣大于100um，這要可以避免各種誤差引起蝕刻線偏移導致功能不良；3.設計的蝕刻線起點和終點各延長200um，確保蝕刻線把銀漿分開，避免產(chǎn)生短路；4.確保設計的每條蝕刻線是一根多段線，避免蝕刻線重疊、多線導致蝕刻燒傷；