材料合成與加工復(fù)習(xí)題

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1、1、氣相生長(zhǎng)單晶材料的方法大致可以分為:_________、________、_________三類。2、列舉幾種比較成熟的非晶態(tài)材料有___________、___________、__________等。3、三束技術(shù)中的“三束”是指:________________、________________、________________。4、超導(dǎo)現(xiàn)象的三大臨界條件是_______、______、和。5、化學(xué)氣相沉積設(shè)備分為、、______和_______四個(gè)部分。6、敏感陶瓷按其相應(yīng)的特性,可以分為、、

2、___________、__________等。7、常用的單晶材料的制備方法包括________________、___________和________________。8、真空蒸鍍?cè)O(shè)備主要包括_______、___________、___________、______和_______。9、非晶態(tài)材料的形成理論有__________、和。10、按工藝過(guò)程可將濕敏半導(dǎo)體陶瓷分為、和。11、真空鍍膜中蒸發(fā)源理論上可以分為_(kāi)_________和__________兩類。12、化合物鍍膜蒸鍍方法主要有____

3、____________、________________、________________和。1、采用應(yīng)變退火法制備的單晶材料主要是非金屬材料。()2、液-固生長(zhǎng)法的主要優(yōu)點(diǎn)是能在低溫下生長(zhǎng),且生長(zhǎng)晶體的形狀是預(yù)先固定的。()3、將熔化的金屬流經(jīng)石英管底部小孔噴射到一對(duì)高速旋轉(zhuǎn)的輥?zhàn)又g而形成金屬玻璃條帶,我們把這種方法稱為雙輥法。()4、我們把低溫時(shí)電阻突然變?yōu)榱愕奈镔|(zhì)稱為超導(dǎo)體。()5、NTC熱敏電阻陶瓷是指隨溫度升高而其電阻率按指數(shù)關(guān)系減小的一類陶瓷材料。()6、定向凝固法是液相-固相平衡的晶體

4、生長(zhǎng)方法之一。()7、當(dāng)金屬圓盤緊貼熔體表面高速旋轉(zhuǎn)時(shí),熔體被圓盤沾出一薄層,隨之急冷而成條帶,我們把這種方法稱為熔滴法。()8、在電子束加熱蒸發(fā)法中,薄膜原料與蒸發(fā)源材料是直接接觸的。()9、根據(jù)超導(dǎo)陶瓷的零電阻的特性,可以無(wú)損耗的遠(yuǎn)距離輸送極大的電流和功率。()10、固-固生長(zhǎng)中晶粒長(zhǎng)大是通過(guò)晶粒間的遷移,而不是通過(guò)捕獲活潑的原子或分子而實(shí)現(xiàn)的。1、非晶態(tài)2、包埋法3、熱等靜壓法4、化學(xué)氣相沉積5、功能陶瓷1、簡(jiǎn)述非晶態(tài)材料的特性。2、簡(jiǎn)述影響化學(xué)氣相沉積薄膜的主要參數(shù)有哪些?3、簡(jiǎn)述濺射成膜中影響

5、濺射率大小的主要因素有哪些?4、簡(jiǎn)述壓電陶瓷生產(chǎn)的主要工藝流程?5、簡(jiǎn)述超導(dǎo)陶瓷的主要制備方法。6、論述微波電子回旋共振等離子體CVD的技術(shù)原理。7、論述在真空鍍膜中蒸發(fā)源應(yīng)具備的條件,類型及主要加熱方式。1、升華法、蒸氣輸運(yùn)法、氣相反應(yīng)法2.非晶態(tài)合金、非晶態(tài)半導(dǎo)體材料、非晶態(tài)超導(dǎo)體、非晶態(tài)高分子材料、非晶體玻璃(其中任意答對(duì)三個(gè)即可)3.激光束、等離子體束、離子束4.臨界溫度、臨界電流密度、臨界磁場(chǎng)5.反應(yīng)室、加熱系統(tǒng)、氣體控制系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)6.熱敏陶瓷、濕敏陶瓷、光敏陶瓷、壓敏陶瓷、氣敏陶瓷(其中

6、任意答對(duì)四個(gè)即可)7.固相-固相生長(zhǎng)方法、液相-固相生長(zhǎng)方法、氣相-固相生長(zhǎng)方法8.真空系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)、基片撐架、擋板和監(jiān)控系統(tǒng)9.動(dòng)力學(xué)理論、熱力學(xué)理論和結(jié)構(gòu)化學(xué)理論10.薄膜型、燒結(jié)型和厚膜型11.點(diǎn)源和微面源12.電阻加熱法、反應(yīng)蒸鍍法、雙蒸發(fā)源蒸鍍法(三溫度法)和分子束外延法1.×2.×3.√4.×5.√6.√7.×8.×9.√10.√1.非晶態(tài):一般認(rèn)為,組成物質(zhì)的原子、分子的空間排列不呈周期性和平移對(duì)稱性,晶態(tài)的長(zhǎng)程有序受到破壞,只有由于原子間的相互關(guān)聯(lián)作用,使其在小于幾個(gè)原子間距的小區(qū)間內(nèi)

7、(1-1.5nm),仍然保持形貌和組分的某些有序特征而具有短程有序,這樣一類特殊的物質(zhì)狀態(tài)統(tǒng)稱為非晶態(tài)。2.包埋法:將磁性粒子分散于高分子溶液中,通過(guò)霧化、絮凝、沉積、蒸發(fā)等方法得到磁性高分子微球。3.熱等靜壓法:用惰性氣體作為傳遞壓力的介質(zhì),將原粉末壓坯或?qū)⒀b入包套的粉料放入高壓容器中,使粉料經(jīng)受高溫和均衡壓力,降低燒結(jié)溫度,避免晶粒長(zhǎng)大,可獲得高密度、高強(qiáng)度的陶瓷材料。1.化學(xué)氣相沉積:在一定溫度條件下,利用氣相態(tài)物質(zhì)在固體表面進(jìn)行化學(xué)反應(yīng),生成固態(tài)沉積物的過(guò)程。2.功能陶瓷:以電、磁、光、聲、熱力

8、、化學(xué)和生物學(xué)信息的檢測(cè)、轉(zhuǎn)換、耦合、傳輸及存儲(chǔ)功能為主要特征,這類介質(zhì)材料通常具有一種或者多種功能。1.答:非晶態(tài)材料的特性有:(1)高強(qiáng)度、高韌性。(2)抗腐蝕性。(3)軟磁特性。(4)超導(dǎo)電性。(5)非晶半導(dǎo)體的光學(xué)性質(zhì)。(6)其他性質(zhì):如室溫電阻率高和負(fù)的電阻溫度系數(shù)等等。2.答:影響化學(xué)氣相沉積薄膜的主要參數(shù)有:(1)反應(yīng)體系成分。(2)氣體的組成。(3)壓力。(4)溫度。3.答:影響濺射成膜中濺射率大小的主要因素有:(1)入射離

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