光刻膠制備工藝技術

光刻膠制備工藝技術

ID:16046888

大?。?3.50 KB

頁數(shù):4頁

時間:2018-08-07

光刻膠制備工藝技術_第1頁
光刻膠制備工藝技術_第2頁
光刻膠制備工藝技術_第3頁
光刻膠制備工藝技術_第4頁
資源描述:

《光刻膠制備工藝技術》由會員上傳分享,免費在線閱讀,更多相關內(nèi)容在行業(yè)資料-天天文庫

1、101141490.1光刻膠用剝離液組合物202128219.6光刻膠用剝離液和使用該剝離液的光刻膠剝離方法302142279.6光刻膠用剝離液和使用該剝離液的光刻膠剝離方法402131624.4反射防止膜的光學常數(shù)的決定方法和光刻膠圖形的形成方法502142219.2光刻膠組合物602148233.0光刻膠組合物700816779.6用于深紫外線輻射的光刻膠組合物802145886.3化學放大型正性光刻膠組合物900817637.X檢測光刻膠剝離過程終點的方法和裝置1001807989.X化學增強光刻膠及一種光刻膠

2、合成物1102153815.8光刻膠圖案的形成方法和光刻膠層合體1201808573.3光刻膠剝離劑組合物1302140154.3光刻膠層中減小圖案大小的方法1401804796.3具有酸反應性基團的新穎含氟聚合物以及使用這些材料的化學增幅型光刻膠組合物1502141841.1光刻膠用剝離液和使用該剝離液的光刻膠剝離方法1601810235.2光刻膠去除劑混合物1701811264.1負作用化學放大的光刻膠組合物1802154275.9環(huán)狀锍和氧化锍及含有它們的光致酸生成劑和光刻膠1901811577.2感光性樹脂組

3、合物、使用它的感光性元件、光刻膠圖案的制造方法及印刷電路板的制造方法2003120076.1光刻膠剝離組合物及清洗組合物2102120076.9用于剝離光刻膠的組合物2201812974.9用于深紫外線的光刻膠組合物及其方法2303136946.4用于形成防反射膜的涂布液組合物、光刻膠層合體以及光刻膠圖案的形成方法2400819669.9包括氟化銨的光刻膠去除劑組合物2503109544.5光刻膠剝離除去方法及裝置2601814891.3用于有機硅酸鹽玻璃的低K蝕刻應用中的蝕刻后由氫進行的光刻膠剝離270081996

4、2.0將干燥光刻膠膜層熱層壓到印刷電路板上的方法2895192017.0穩(wěn)定的離聚物光刻膠乳狀液及其制備方法和應用2996114151.4超強酸催化的無顯影氣相光刻膠3096114150.6有機堿催化的無顯影氣相光刻膠3195196387.2用于微電子的無胺光刻膠粘接促進劑3285100457稀土順式聚異戊二烯負型光刻原膠的制備3387105308含光刻膠的廢液的處理3488100287彩色顯象管熒光屏的形成方法和光刻膠的組合物3589109246.3彩色顯象管熒光屏的光刻膠組合物3690102772.3在光刻膠中使

5、用多支線型酚醛樹酯的方法3790110445.0制備用于高分辨率光刻膠組合物的高玻璃化溫度線型酚醛樹脂的方法3890109643.1正向作用的光刻膠3991104298.9光刻膠和光學應用用的低光密度聚合物和共聚物的制備方法4094113847.X含有非離子氟代烴表面活性劑的水性光刻膠4194118622.9含有氨基丙烯酸酯中和的粘合劑的帶水光刻膠4294119237.7光刻膠剝離液管理裝置4394120086.8形成光刻膠圖形的方法4494116129.3具有聯(lián)合增稠劑的帶水光刻膠4595107005.3正性光刻膠

6、4695107601.9檢測涂敷在晶片上的光刻膠膜微觀厚度差的方法4797110797.1光刻膠剝離液管理裝置4897115414.7光刻膠組合物4997111875.2在半導體器件上形成光刻膠膜的裝置及其形成方法5097119281.2在半導體晶片上形成光刻膠圖形的方法5197109669.4用于在制造半導體過程中清洗光刻膠的清洗劑制品5295113199.0用由假圖形所形成的光刻膠掩模將層精確構圖成目標圖形的方法5398100726.0化學增強的光刻膠5498100895.X化學增強的光刻膠5596198863.

7、0無高溫蒸餾酚醛清漆樹脂分離法和光刻膠組合物5696198607.7通過螯合型離子交換樹脂降低光刻膠組合物中的金屬離子5799107757.1光刻膠正膠組合物5897193958.6包括具有酸不穩(wěn)定側(cè)基的多環(huán)聚合物的光刻膠組合物5998124457.2在化學敏感型光刻膠上形成圖形的方法6098125184.6用于準確地轉(zhuǎn)換非均勻厚度光刻膠層中的潛像的工藝...............這里只列舉了部分目錄,需要聯(lián)系我,給你最全面最新資料...............481201010251766.9適合用來除去光刻膠、

8、光刻膠副產(chǎn)物和蝕刻殘余物的組合物及其應用482200910073198.5凹模熱壓印中應用光刻膠整形改善填充和減少殘膠的方法483200880017184.5活動硬掩模的等離子體刻蝕過程中的原地光刻膠剝離484200810202117.2去除光刻膠殘留及刻蝕反應物顆粒的方法485200810225785.7百納米級窄線寬多種形貌全息光柵光刻膠圖

當前文檔最多預覽五頁,下載文檔查看全文

此文檔下載收益歸作者所有

當前文檔最多預覽五頁,下載文檔查看全文
溫馨提示:
1. 部分包含數(shù)學公式或PPT動畫的文件,查看預覽時可能會顯示錯亂或異常,文件下載后無此問題,請放心下載。
2. 本文檔由用戶上傳,版權歸屬用戶,天天文庫負責整理代發(fā)布。如果您對本文檔版權有爭議請及時聯(lián)系客服。
3. 下載前請仔細閱讀文檔內(nèi)容,確認文檔內(nèi)容符合您的需求后進行下載,若出現(xiàn)內(nèi)容與標題不符可向本站投訴處理。
4. 下載文檔時可能由于網(wǎng)絡波動等原因無法下載或下載錯誤,付費完成后未能成功下載的用戶請聯(lián)系客服處理。