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《光刻膠制備工藝技術(shù)手冊》由會員上傳分享，免費(fèi)在線閱讀，更多相關(guān)內(nèi)容在行業(yè)資料-天天文庫。
1、101141490.1光刻膠用剝離液組合物202128219.6光刻膠用剝離液和使用該剝離液的光刻膠剝離方法302142279.6光刻膠用剝離液和使用該剝離液的光刻膠剝離方法402131624.4反射防止膜的光學(xué)常數(shù)的決定方法和光刻膠圖形的形成方法502142219.2光刻膠組合物602148233.0光刻膠組合物700816779.6用于深紫外線輻射的光刻膠組合物802145886.3化學(xué)放大型正性光刻膠組合物900817637.X檢測光刻膠剝離過程終點(diǎn)的方法和裝置1001807989.X化學(xué)增強(qiáng)光刻膠及一種光刻膠合成物1102153815
2、.8光刻膠圖案的形成方法和光刻膠層合體1201808573.3光刻膠剝離劑組合物1302140154.3光刻膠層中減小圖案大小的方法1401804796.3具有酸反應(yīng)性基團(tuán)的新穎含氟聚合物以及使用這些材料的化學(xué)增幅型光刻膠組合物1502141841.1光刻膠用剝離液和使用該剝離液的光刻膠剝離方法1601810235.2光刻膠去除劑混合物1701811264.1負(fù)作用化學(xué)放大的光刻膠組合物1802154275.9環(huán)狀锍和氧化锍及含有它們的光致酸生成劑和光刻膠1901811577.2感光性樹脂組合物、使用它的感光性元件、光刻膠圖案的制造方法及印刷
3、電路板的制造方法2003120076.1光刻膠剝離組合物及清洗組合物2102120076.9用于剝離光刻膠的組合物2201812974.9用于深紫外線的光刻膠組合物及其方法2303136946.4用于形成防反射膜的涂布液組合物、光刻膠層合體以及光刻膠圖案的形成方法2400819669.9包括氟化銨的光刻膠去除劑組合物2503109544.5光刻膠剝離除去方法及裝置2601814891.3用于有機(jī)硅酸鹽玻璃的低K蝕刻應(yīng)用中的蝕刻后由氫進(jìn)行的光刻膠剝離2700819962.0將干燥光刻膠膜層熱層壓到印刷電路板上的方法2895192017.0穩(wěn)定的
4、離聚物光刻膠乳狀液及其制備方法和應(yīng)用2996114151.4超強(qiáng)酸催化的無顯影氣相光刻膠3096114150.6有機(jī)堿催化的無顯影氣相光刻膠3195196387.2用于微電子的無胺光刻膠粘接促進(jìn)劑3285100457稀土順式聚異戊二烯負(fù)型光刻原膠的制備3387105308含光刻膠的廢液的處理3488100287彩色顯象管熒光屏的形成方法和光刻膠的組合物3589109246.3彩色顯象管熒光屏的光刻膠組合物3690102772.3在光刻膠中使用多支線型酚醛樹酯的方法3790110445.0制備用于高分辨率光刻膠組合物的高玻璃化溫度線型酚醛樹脂的
5、方法3890109643.1正向作用的光刻膠3991104298.9光刻膠和光學(xué)應(yīng)用用的低光密度聚合物和共聚物的制備方法4094113847.X含有非離子氟代烴表面活性劑的水性光刻膠4194118622.9含有氨基丙烯酸酯中和的粘合劑的帶水光刻膠4294119237.7光刻膠剝離液管理裝置4394120086.8形成光刻膠圖形的方法4494116129.3具有聯(lián)合增稠劑的帶水光刻膠4595107005.3正性光刻膠4695107601.9檢測涂敷在晶片上的光刻膠膜微觀厚度差的方法4797110797.1光刻膠剝離液管理裝置4897115414
6、.7光刻膠組合物4997111875.2在半導(dǎo)體器件上形成光刻膠膜的裝置及其形成方法5097119281.2在半導(dǎo)體晶片上形成光刻膠圖形的方法5197109669.4用于在制造半導(dǎo)體過程中清洗光刻膠的清洗劑制品5295113199.0用由假圖形所形成的光刻膠掩模將層精確構(gòu)圖成目標(biāo)圖形的方法5398100726.0化學(xué)增強(qiáng)的光刻膠5498100895.X化學(xué)增強(qiáng)的光刻膠5596198863.0無高溫蒸餾酚醛清漆樹脂分離法和光刻膠組合物5696198607.7通過螯合型離子交換樹脂降低光刻膠組合物中的金屬離子5799107757.1光刻膠正膠組合
7、物5897193958.6包括具有酸不穩(wěn)定側(cè)基的多環(huán)聚合物的光刻膠組合物5998124457.2在化學(xué)敏感型光刻膠上形成圖形的方法6098125184.6用于準(zhǔn)確地轉(zhuǎn)換非均勻厚度光刻膠層中的潛像的工藝...............這里只列舉了部分目錄，需要聯(lián)系我，給你最全面最新資料...............481201010251766.9適合用來除去光刻膠、光刻膠副產(chǎn)物和蝕刻殘余物的組合物及其應(yīng)用482200910073198.5凹模熱壓印中應(yīng)用光刻膠整形改善填充和減少殘膠的方法483200880017184.5活動硬掩模的等離子體刻蝕
8、過程中的原地光刻膠剝離484200810202117.2去除光刻膠殘留及刻蝕反應(yīng)物顆粒的方法485200810225785.7百納米級窄線寬多種形貌全息光柵光刻膠圖
