半導體器件物理復習(施敏)

半導體器件物理復習(施敏)

ID:16118396

大?。?7.51 KB

頁數:15頁

時間:2018-08-08

半導體器件物理復習(施敏)_第1頁
半導體器件物理復習(施敏)_第2頁
半導體器件物理復習(施敏)_第3頁
半導體器件物理復習(施敏)_第4頁
半導體器件物理復習(施敏)_第5頁
資源描述:

《半導體器件物理復習(施敏)》由會員上傳分享,免費在線閱讀,更多相關內容在教育資源-天天文庫。

1、------------------------------------------------------------------------------------------------半導體器件物理復習(施敏)第一章1、費米能級和準費米能級費米能級:不是一個真正的能級,是衡量能級被電子占據的幾率的大小的一個標準,具有決定整個系統能量以及載流子分布的重要作用。準費米能級:是在非平衡狀態(tài)下的費米能級,對于非平衡半導體,導帶和價帶間的電子躍遷失去了熱平衡,不存在統一費米能級。就導帶和價帶中的電子講,各自基本上處于平衡態(tài),之間處于不平衡狀態(tài),分布函數對各自仍然是適應的,引入導帶和價帶

2、費米能級,為局部費米能級,稱為“準費米能級”。2、簡并半導體和非簡并半導體簡并半導體:費米能級接近導帶底(或價帶頂),甚至會進入導帶(或價帶),不能用玻爾茲曼分布,只能用費米分布非簡并半導體:半導體中摻入一定量的雜質時,使費米能級位于導帶和價帶之間3、空間電荷效應當注入到空間電荷區(qū)中的載流子濃度大于平衡載流子濃度和摻雜濃度時,則注入的載流子決定整個空間電荷和電場分布,這就是空間電荷效應。在輕摻雜半導體中,電離雜質濃度小,更容易出現空間電荷效應,發(fā)生在耗盡區(qū)外。4、異質結指的是兩種不同的半導體材料組成的結。5、量子阱和多量子阱量子阱:由兩個異質結或三層材料形成,中間有最低的????和最

3、高的????,對電子和空穴都形成勢阱,可在二維系統中限制電子和空——————————————————————————————————————------------------------------------------------------------------------------------------------穴當量子阱由厚勢壘層彼此隔開時,它們之間沒有聯系,這種系統叫做多量子阱6、超晶格如果勢壘層很薄,相鄰阱之間的耦合很強,原來分立的能級擴展成能帶(微帶),能帶的寬度和位置與勢阱的深度、寬度及勢壘的厚度有關,這種結構稱為超晶格。7、量子阱與超晶格的不同點a.跨越

4、勢壘空間的能級是連續(xù)的b.分立的能級展寬為微帶另一種形成量子阱和超晶格的方法是區(qū)域摻雜變化第二章1、空間電荷區(qū)的形成機制當這兩塊半導體結合形成p-n結時,由于存在載流子濃度差,導致了空穴從p區(qū)到n區(qū),電子從n區(qū)到p區(qū)的擴散運動。對于p區(qū),空穴離開后,留下了不可動的帶負電的電離受主,這些電離受主,沒有正電荷與之保持電中性,所以在p-n結附近p區(qū)一側出現了一個負電荷區(qū)。同理,n區(qū)一側出現了由電離施主構成的正電荷區(qū),這些由電離受主和電離施主形成的區(qū)域叫空間電荷區(qū)。2、理想p-n結理想的電流-電壓特性所依據的4個假設:a.突變耗盡層近似b.玻爾茲曼統計近似成立c.注入的少數載流子濃度小于平衡

5、多數載流子濃度d.在耗盡層內不存在產生-復合電流3、歐姆接觸歐姆接觸定義為其接觸電阻可以忽略的金屬-半導體接觸它不產生明顯的附近阻抗,而且不會使半導體內部的平衡載流子——————————————————————————————————————------------------------------------------------------------------------------------------------濃度發(fā)生顯著的改變,重摻雜的p-n結可以產生顯著的隧道電流,金屬和半導體接觸時,如果半導體摻雜濃度很高,則勢壘區(qū)寬度變得很薄,電子也要通過隧道效應貫穿勢壘產

6、生相當大的隧道流,甚至超過熱電子發(fā)射電流而成為電流的主要成分。當隧道電流占主導地位時,它的接觸電阻可以很小,可以用作歐姆接觸。制造歐姆接觸的技術:a.建立一個更重摻雜的表面層4、整流接觸肖特基勢壘是指具有整流特性的金屬-半導體接觸面(形成阻擋層),如同二極管具有整流特性。肖特基勢壘相較于PN接面最大的區(qū)別在于具有較低的接面電壓,以及在金屬端具有相當薄的耗盡層寬度。5、區(qū)別2、解釋MIS的C-V曲線圖高低頻的差異是因為少數載流子的積累a.低頻時,左側為空穴積累時的情形,有大的半導體微分電容,總電容接近于絕緣體電容;當負電壓降為零時,為平帶狀態(tài);進一步提高正向電壓,耗盡區(qū)繼續(xù)擴展,可將其

7、看作是與絕緣體串聯的、位于半導體表面附近的介質層,這將導致總電容下降,電容在達到一個最小值后,隨電子反型層在表面處的形成再次上升,強反型時,電荷的增量不再位于耗盡層的邊界處,而是在半導體表面出現了反型層導致了大的電容。b.高頻時,強反型層在????≈2????處開始,一旦強反型發(fā)生。耗盡層寬度達到最大,當能帶彎曲足夠大,使得????=2????——————————————————————————————————————-------------------

當前文檔最多預覽五頁,下載文檔查看全文

此文檔下載收益歸作者所有

當前文檔最多預覽五頁,下載文檔查看全文
溫馨提示:
1. 部分包含數學公式或PPT動畫的文件,查看預覽時可能會顯示錯亂或異常,文件下載后無此問題,請放心下載。
2. 本文檔由用戶上傳,版權歸屬用戶,天天文庫負責整理代發(fā)布。如果您對本文檔版權有爭議請及時聯系客服。
3. 下載前請仔細閱讀文檔內容,確認文檔內容符合您的需求后進行下載,若出現內容與標題不符可向本站投訴處理。
4. 下載文檔時可能由于網絡波動等原因無法下載或下載錯誤,付費完成后未能成功下載的用戶請聯系客服處理。