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《澳洋試車方案》由會員上傳分享,免費在線閱讀,更多相關(guān)內(nèi)容在工程資料-天天文庫。
1、試車方案淮安澳洋順昌光電技術(shù)有限公司,“LED外延片及芯片產(chǎn)業(yè)化”項目,在建設(shè)過程中,得到了淮安市清河區(qū)安全生產(chǎn)監(jiān)督管理局、及其它各單位的大力支持,謹在此表示衷心感謝。下面主要介紹我公司的試車方案:一、試車前準備試車前準備主要有以下幾點:公用工程主要包括氫氣、氮氣、蒸汽、電、水準備等;安全防護工程、通信、試車前培訓(xùn)、工藝操作規(guī)程培訓(xùn);成立試車小組。1、公用工程序號燃料動力單位年耗用量備注1電力kW?h29686280市政供應(yīng)2自來水t324000市政供應(yīng)3氫氣Nm防護器具準備:洗眼器5臺,防腐手套20個、面罩20個、防毒面具5個、空氣呼吸器2個。消防器具的準備:消防的恒壓
2、泵放在自動檔上,準備兩個消防帶放于現(xiàn)場,以備急用。3、通信通信主要包括緊急事故的通告,和當天的氣象通告以便在發(fā)生緊急情況下有一個正確的撤離路線,通告方式主要有兩種:廠區(qū)的消防1080000當?shù)厥袌?氮氣Nm36800000當?shù)厥袌?蒸汽t8640集中供應(yīng)2、安全防護工程廣播,成立專門的通信小組(見附件試車小組名單)由咨詢組負責(zé)。4、培訓(xùn)試車前安全培訓(xùn)主要針對試車中的危險、有害因素進行分析和控制。內(nèi)容主要包括:物質(zhì)危險性分析、工藝危險因素分析、設(shè)備危險因素分析、儲存危險性分析、裝置設(shè)施的腐蝕危險性分析、粉塵危害分析、電氣系統(tǒng)危險性分析、空壓機危險性分析、其它危險有害因素分析
3、、試車應(yīng)急預(yù)案培訓(xùn)。5、成立試車小組小組人員名單見下表:序號姓名單位職務(wù)備注1崔恒平LED外延片、芯片Coo專家組2孫中磊LED外延片、芯片安全員安全組3王俊敏LED外延片、芯片廠務(wù)部長動力組4蘆嶺LED外延片、芯片外延部長操作組5張向飛LED外延片、芯片芯片經(jīng)理操作組6孫領(lǐng)軍LED外延片、芯片IT經(jīng)理通信組試生產(chǎn)小組組織圖AAAA現(xiàn)場操作組公用組二.生產(chǎn)工藝流程及儲存的?;菲贩N與設(shè)計能力說明:1?外延片①、藍綠光外延片工藝流程依據(jù)產(chǎn)業(yè)界普遍作法,MOCVD制程使用藍寶石襯底,其工序可分解為下列步驟:a、檢測:利用顯微鏡對襯底進行檢測,檢驗有無雜質(zhì),檢測合格的襯底進入下
4、一工序。b、輸入混合氣體:首先將藍寶石襯底放入由石英管和石墨基座組成的反應(yīng)器中,再按照NH3和H2比(5:95)通入NH3和H2混合氣體。c、輸入有機金屬:將載氣H2(或N2)通入三甲基鐐、三甲基錮、三甲基鋁液體罐中,以三種有機金屬蒸汽夾帶進反應(yīng)器中,在密閉條件下進行金屬有機物化學(xué)沉積反應(yīng)。主要沉積反應(yīng)有:Ga(CH3)3+NH39GaN+3CH4,如果欲生長三元固溶體晶體,如Gal-xAlxN時,可在反應(yīng)系統(tǒng)中再通入三甲基鋁,反應(yīng)式為:xA1(CH3)3+(1-x)Ga(CH3)3+NH3=Gal-xAlxN+3CH4od、MOCVD進料方式如下圖,有機金屬與氣體借著濾
5、網(wǎng)而進入MOCVD反應(yīng)體,下方的圓盤以預(yù)定速度旋轉(zhuǎn),在高溫環(huán)境下,進行熱分解反應(yīng),實現(xiàn)沉積過程。MOCVD進料方式示意圖e、反應(yīng)廢氣處理:MOCVD之熱分解反應(yīng)是不可逆,但還有部分尚未完全分解,因此氣體不能直接排放到大氣中,必須先進行處理,例如外延生長過程中過量的NH3,處理方法主要為把尾氣通入裝有水+H2SO4溶液的水洗式洗滌塔(Scrubber)中處理中,去除大部氨氣。f、快速檢測:用以在進入芯片制程之前的檢測手段,檢測方式如下圖3?5,作法為定電流20mA下,以電壓3?5V范圍,以電激發(fā)光的方式,測試LED外延片,主要測試在定電流的條件下,發(fā)光層所產(chǎn)生的光波長頻譜范
6、圍,及光波長頻譜的半高寬,來判斷發(fā)光層的井磊比是否合適,結(jié)的位置是否正確。外延片檢驗操作方式②、紅黃光外延片工藝流程工藝流程說明外延片生產(chǎn)工藝核心是采用金屬有機物化學(xué)氣相沉積(MOCVD)工藝,將三甲基鋼、三甲基鐐、三甲基鋁、磷烷、碎烷等原材料,在專用設(shè)備反應(yīng)室中分解為錮、鐐、鋁、磷、礎(chǔ)等單質(zhì),并沉積在摻硅(采用n型硅烷作為摻雜源)的碑化鐐單晶片上而牛長的。A、以不申化鐐單晶片作為襯底,檢驗確化鐐單晶片是否合格。合格的碑化鐐襯底才可以裝片進入外延爐生長。B、在進行生長之前,外延爐要進行抽真空,然后向外延爐反應(yīng)室通入氮氣和氫氣,然后開始加熱升溫。當爐溫升至750°C左右(外
7、延爐的工作程序由計算機程序系統(tǒng)控制),開始向外延爐反應(yīng)室同時通入一定量的碑烷和磷烷混合氣(置于氣柜中的氣瓶通過減壓控制等,以3-5kg的壓力經(jīng)管道傳輸?shù)介y門分布箱中,然后再輸入到外延爐中),于是碑化鐐緩沖層便在外延爐里生長。在碑化稼襯底生長的同時,沿著與襯底平行方向通入高流速的氫氣和氮氣的混合氣體,控制確化鐐生長時熱對流,從而獲得高遷移率的碑化稼單晶層。C、神化鐫緩沖層形成之后,同時通入氮氣和氫氣降低爐溫,用以生長量子阱層,然后將爐溫再次升至750°C左右,生長雙異質(zhì)結(jié)構(gòu)外延層,最后再生長一層磷化稼層,用于保護表面。D、取出外