《CB流程介紹A》PPT課件

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1、印刷電路板製作流程簡介客戶資料業(yè)務(wù)工程生產(chǎn)流程說明提供磁片、底片、機(jī)構(gòu)圖、規(guī)範(fàn)...等確認(rèn)客戶資料、訂單生管接獲訂單→發(fā)料→安排生產(chǎn)進(jìn)度審核客戶資料，製作製造規(guī)範(fàn)及工具或軟體例：工作底片、鑽孔、測試、成型軟體目錄P2A.PCB製作流程簡介------------------------------------------------------P.2B.各項製程圖解-----------------------------------------------------------P.3~P.29C.品質(zhì)管制

2、表--------------------------------------------------------------P.32~P.34D.PCB常見客訴問題-------------------------------------------------------P.35~P.63E.PCB常見客訴問題圖解--------------------------------------------------P.64~P.93PCB製作流程圖P3流程說明內(nèi)層裁切依工程設(shè)計基板規(guī)格及排版圖裁切生產(chǎn)工作尺

3、寸48in36in42in48in40in48inP4基板銅箔Copper玻璃纖維布加樹脂1/2oz1/1oz0.1mm2.5mmP.P(Preprge)種類A.1080(PP)2.6milB.7628(PP)7.0milC.7630(PP)8.0milD.2116(PP)4.1mil銅箔(Copper)的厚度A.0.5OZ0.7milB.1.0OZ1.4milC.2.0OZ2.8mil流程說明P5PP的種類是按照紗的粗細(xì)、織法、含膠量而有所不同的玻璃布，分別去命名。內(nèi)層影像轉(zhuǎn)移壓膜感光乾膜DryFilm內(nèi)層

4、InnerLayer將內(nèi)層底片圖案以影像轉(zhuǎn)移到感光乾膜上壓膜前須做下列處理：(銅面處理)清洗→微蝕→磨刷→水洗→烘乾→壓膜何謂銅面處理：不管原底裁銅薄或一次鍍銅板都要仔細(xì)做清潔處理及粗化，對乾膜(DryFilm)才有良好的附著力。銅面處理可分兩種型態(tài)：1.微蝕:利用稀硫酸中和一一把銅面氧化物去除，有時銅箔表面有一層防銹的鉻化處理膜也應(yīng)一起去掉，時間大約為1-2分鐘，濃度10%(適用於多層板)。2.機(jī)械法:以含有金鋼刷或氧化鋁等研磨粉料的尼龍刷。良好的磨刷能去除油脂(grease)、飛塵(dust)、和顆粒(p

5、article)氧化層(oxidixedlayer)，及表面的凹凸可以使乾膜與銅面有良好的密著性，以免產(chǎn)生open的現(xiàn)象。磨刷太粗糙會造成滲鍍(penetreating)和側(cè)蝕。壓膜:是將光阻劑以熱壓方式貼附在清潔的板面上P6乾膜(DryFilm)：是一種能感光,顯像,抗電鍍,抗蝕刻之阻劑流程說明感光乾膜內(nèi)層UV光線內(nèi)層底片曝光曝光後感光乾膜內(nèi)層1..所謂曝光是指讓UV光線穿過底片及板面的透明蓋膜，而達(dá)到感光之阻劑膜體中使進(jìn)行一連串的光學(xué)反應(yīng)。2.隨時檢查曝光的能量是否充足，可用光密度階段表面(pensity

6、steptablet)或光度計(radiometer)進(jìn)行檢測，以免產(chǎn)生不良的問題。曝光時注意事項：(1).曝光機(jī)及底片的清潔，以免造成不必要的短路或斷路。(2).曝光時吸真空是否確實，以免造成不必要的線細(xì)。曝光Exposure流程說明P7內(nèi)層影像顯影Developing感光乾膜內(nèi)層InnerLayer將未受光乾膜以顯影藥水去掉留已曝光乾膜圖案顯影：顯像是一種濕式的製程，是利用碳酸鈉(純鹼)消泡劑及溫度所控制，可在輸送帶上以噴液的方式進(jìn)行，正常的顯影應(yīng)在噴液室的一半或2/3的距離顯影乾淨(jìng)，以免造成顯影過度，或

7、顯影不潔，以致造成側(cè)蝕(undercut)。極細(xì)線路之製作，顯像設(shè)備就必須配合調(diào)整噴嘴、噴壓、及顯像液的濃度。流程說明P8蝕刻：蝕刻液的化學(xué)成份、溫度、氯化銅ph值及輸送速度等，,皆會對光阻膜的性能造成考驗。內(nèi)層蝕刻內(nèi)層內(nèi)層內(nèi)層線路內(nèi)層線路InnerLayerTrace內(nèi)層去膜將裸露銅面以蝕刻藥水去掉留己曝光乾膜圖案將己曝光圖案上的乾膜以去膜藥水去掉蝕刻CopperEtching流程說明P9內(nèi)層內(nèi)層線路內(nèi)層內(nèi)層線路內(nèi)層沖孔內(nèi)層檢測Inspection內(nèi)層鑽孔對位孔及鉚合孔以光學(xué)校位沖出內(nèi)層影像以光學(xué)掃描檢測(

8、AOI)(AutoOpticalInspection)流程說明P10內(nèi)層內(nèi)層線路內(nèi)層黑化Black(Brown)Oxide內(nèi)層圖案做黑化處理防止氧化及增加表面粗糙黑化目的：1.使銅面上形成粗化，使膠片的溶膠有較好的固著地。2.阻止膠片中的銨類或其他有機(jī)物攻擊裸面，而發(fā)生分離的現(xiàn)象。缺點：當(dāng)黑化時間常超過1.724Mg/cm2時間較久，造成黑化層較厚時，經(jīng)pth後常會發(fā)生粉紅圈(pinkring)，是