微區(qū)微納米壓印技術(shù)及設(shè)備

微區(qū)微納米壓印技術(shù)及設(shè)備

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1、萬方數(shù)據(jù)第17卷第4期2009年4月光學(xué)精密工程opticsandPrecisionEngineeringV01.17No.4Apr.2009文章編號(hào)1004—924X(2009)04一0807一06微區(qū)微納米壓印技術(shù)及設(shè)備申溯,周雷,魏國軍,陳林森(蘇州大學(xué)信息光學(xué)工程研究所,江蘇蘇州215006)摘要:為了實(shí)現(xiàn)在大幅面基底上制作微納結(jié)構(gòu),開發(fā)了一種新型的分布微區(qū)微納米壓印技術(shù)和相應(yīng)的設(shè)備。介紹了分布微區(qū)微納米壓印的技術(shù)設(shè)想,并以提高壓印穩(wěn)定性和設(shè)計(jì)可旋轉(zhuǎn)壓印頭為目標(biāo),設(shè)計(jì)了氣動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置和壓印頭結(jié)構(gòu)。然后,通過實(shí)驗(yàn)檢測(cè)了平臺(tái)運(yùn)動(dòng)精度

2、。并在碳酸聚酯材料上熱壓印了周期為400nm的光柵。最后,以背光模組用光擴(kuò)散片為應(yīng)用實(shí)例,介紹了分布微區(qū)微納米壓印技術(shù)與設(shè)備的可能應(yīng)用領(lǐng)域。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,在1m的行程范圍上,平臺(tái)位移精度可達(dá)loOnm,壓印頭旋轉(zhuǎn)角度為一90?!?0。,壓印深度可由加熱溫度和驅(qū)動(dòng)力大小控制。制作的擴(kuò)散片厚度為125“m,擴(kuò)散半徑為5mm。微區(qū)微納米壓印技術(shù)和設(shè)備特別適合大幅面光學(xué)衍射圖像和平板顯示器件的微結(jié)構(gòu)制作。關(guān)鍵詞:微納米壓?。晃⒔Y(jié)構(gòu);熱壓??;控制中圖分類號(hào):TN305.7文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:ADesignofdistributedmicr伊ar昀IIl

3、icro/nan伊imprintinglitSHENSu,ZHoULei,WEIGuo.jun,CHENI。in—sen(172sfi£“£P(guān)o,J竹.廠0,‘優(yōu)口fiD,z(功£ifnZE孢gi以PPri行g(shù),SoDc^otuL切iuPr5i£y,S“z矗D“215006,C^i打口)Abstract:Tofabricatemicro/nanostructuresonalarge—formatsubstrate,anovelmiro—areamicro/nanoimprinting1ithographicsystemwasprese

4、nted,andthedesignofthisimprintingsystemwasintro—duced.Focusedonimprovingstabilityandrealizingtherotationofanimprintingmould,thegascir—cuitandconfigurationoftheimprintingmouldwerediscussedindetail.Byuseofpolycarbonates,thegratingswithaperiodof400nmwerefabricatedandthepre

5、cisionoftheplatformwasgiven.Then,bytakingthefabricationofadiffusingfilminabacklightunitofflatpaneldisplaysasanexample,thepotentialapplIcationofadistributedmicro—areamicro/nano—imprintinglithographicmethodwaspro—posed.Theexperimentalresultsindicatethatthepositioningpreci

6、sionoftheplatfominan1mlongstrokeis1nmandtherotatinganglevariesfrom一90。to90。whentheimprintingdepthiscontrolledbyheatingtemperatureandgaspressure.Adiffusingfilmwithathicknessof125肛mwasfabricated,whosediffusingradiusis5mm.Theseresultssuggeststhattheproposedmicro—areananoim

7、p“ntinglithographicsystemshouldbeespeciallysuitableforfabricationofopticalvariablediffractionimagesanddeVicesusedinflat—paneldisplays.Keywords:nanoimprinting;microstructure;hotembossing;control收稿日期:2008一07—16;修訂日期:2008一08—12.基金項(xiàng)目:蘇州市科技計(jì)劃科技專項(xiàng)資助項(xiàng)目(No.ZXG0802)萬方數(shù)據(jù)光學(xué)精密工程第17

8、卷引言微納米壓印技術(shù)由Princeton大學(xué)S.Y.Chou教授在1995年首先提出[1],并在近年來取得了很大的發(fā)展。相比于遠(yuǎn)(極)紫外光刻、電子/離子束光刻等微納加工手段,微納米壓印技術(shù)具有操作簡單、極限分辨率高(<

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