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1、多晶硅生產(chǎn)中副產(chǎn)物SiCl4的綜合利用◇肖順珍蔣云華江蘇特華科技有限公司在氯化氫（HCl）合成制備三氯且會(huì)造成嚴(yán)重的環(huán)境污染和災(zāi)難性后的氫化工藝進(jìn)行研究。氫硅（SiHCl3）過程中，除主要產(chǎn)品果，也是巨大的資源浪費(fèi)。凡是生產(chǎn)多（1）高溫氫化SiHCl3外，還有大約15%左右的四氧晶硅的企業(yè)，都必須考慮對(duì)SiCl4副產(chǎn)將SiCl4與H2按體積流量比1∶2化硅（SiCl4）副產(chǎn)品，另外還有二氯物的處理問題，這個(gè)問題可以說是生～1∶4混合進(jìn)入反應(yīng)器，經(jīng)1200～氫硅（SiH2Cl2）等。在SiHCl3氫還原產(chǎn)多晶硅企業(yè)的“生死存亡”大問題。1250℃復(fù)合石墨發(fā)熱體加熱，壓力范55中，還伴隨有SiHC
2、l3的熱分解而生如何解決西門子法生產(chǎn)工藝流圍為1.5×10～2.5×10Pa，即稱為成的SiCl4、SiH2Cl2和HCl等，同時(shí)還程中副產(chǎn)品SiCl4的出路問題，已成為高溫氫化。這種SiCl4氫化工藝具有有部分SiHCl3和98%左右的H2為尾多晶硅生產(chǎn)規(guī)模擴(kuò)大中非常棘手的問諸多優(yōu)點(diǎn)，如壓力比較緩和，對(duì)設(shè)備氣排出。目前，SiHCl3和H2基本都得題。國際上凡是千噸級(jí)以上的西門子的要求較低，安全性好，且H2與SiCl4到了充分的利用，但是，SiCl4、HCl和法多晶硅公司，都采用各自的方法解比值較小，因此還原爐內(nèi)SiCl4濃度較SiH2Cl2還沒有全部回收和利用。為了決了SiCl4的出路問題，
3、主要是開辟以高，保證了還原反應(yīng)的速率以及充分降低原材料消耗，提高經(jīng)濟(jì)效益，應(yīng)該SiCl4為原料的后續(xù)產(chǎn)品，如生產(chǎn)氣相性，且降低了后期分離的難度。該法將尾氣中的SiCl4、HCl和SiH2Cl2全部白炭黑、光纖預(yù)制棒用SiCl4、硅酸乙SiHCl3的單程收率大約為20%左右，進(jìn)行回收和利用。酯或SiCl4氫還原生產(chǎn)多晶硅（電耗較我國新光公司的熱氫化技術(shù)轉(zhuǎn)化率已高）等；另外就是采用氫化或尾氣重穩(wěn)定運(yùn)行在20%～22%，是目前國內(nèi)一、SiCl4的綜合利用復(fù)還原生產(chǎn)多晶硅的方法，使SiCl4在水平最高者。在西門子法生產(chǎn)多晶硅過程中，西門子法流程中循環(huán)。該工藝的缺點(diǎn)是，由于采用復(fù)合通過測(cè)算，每生產(chǎn)1t多
4、晶硅將產(chǎn)生大1.SiCl4氫化轉(zhuǎn)化為SiHCl3石墨加熱，難免受到雜質(zhì)碳的沾污。約10～15t左右的SiCl4副產(chǎn)物。根據(jù)將SiCl4氫化生產(chǎn)SiHCl3，一直是（2）低溫氫化筆者2008年統(tǒng)計(jì)，目前我國已建和在全球各大多晶硅生產(chǎn)企業(yè)廣泛關(guān)注的如果添加硅，則有利于氫化反應(yīng)建多晶硅項(xiàng)目的產(chǎn)能達(dá)9.2萬t，到項(xiàng)焦點(diǎn)問題，此方法不但處理了副產(chǎn)物的進(jìn)行，可在較低溫度下實(shí)現(xiàn)氫化，便目達(dá)產(chǎn)時(shí)，則可能每年有90萬～120SiCl4，同時(shí)還重新得到了生產(chǎn)多晶硅稱為低溫氫化。在20世紀(jì)90年代，北萬t左右的SiCl4需要處理，這是一個(gè)的原料SiHCl3，HCl也可以自身利用，京有色金屬設(shè)計(jì)院與峨眉半導(dǎo)體材非常龐
5、大的數(shù)目！如果不能有效的進(jìn)可謂是一舉多得的辦法。各國多晶硅料廠合作開發(fā)了添加硅的氫化工藝，行回收利用，不僅成本會(huì)居高不下，而企業(yè)都花了大量人力和物力對(duì)SiCl4SiCl4最高轉(zhuǎn)化率可達(dá)30%左右。但由51AdvancedMaterialsIndustryInsight透視于爐外硅粉難以加入高壓氫化反應(yīng)爐（300℃左右）下便完全可能進(jìn)行，目SiHCl3耗電在5kWh以內(nèi)。目前正在內(nèi)，造成了連續(xù)生產(chǎn)的困難。有專家建前我國的還原爐操作壓力可以達(dá)到500kW的功率下對(duì)其進(jìn)行產(chǎn)業(yè)化前2議，如果能將“閥門”間斷加硅粉改成6kg/cm，加上可采用市購的4N硅的工程驗(yàn)證，預(yù)計(jì)近期可實(shí)現(xiàn)單機(jī)年“泵”連續(xù)加硅粉，
6、可能會(huì)使情況得到粉，由此，尾氣直接通入硅粉沸騰爐來處理量為1000t的SiCl4氫化設(shè)備，如改善。若再改用近年市場(chǎng)上銷售的4N進(jìn)行SiCl4氫化的探索試驗(yàn)，也許是一成功，將是一項(xiàng)比較有前途的技術(shù)。純度硅粉，可有利于產(chǎn)品質(zhì)量的提高。種比較實(shí)用和容易上馬的方法。2.SiCl4氫還原生產(chǎn)多晶硅與合理配[3]通過熱力學(xué)計(jì)算，對(duì)SiCl4直接氫（4）等離子氫化還原SiCl4生產(chǎn)置資源[2]化（高溫氫化）和添加硅后的SiCl4氫SiHCl3采用SiCl4副產(chǎn)物氫還原生產(chǎn)多化（低溫氫化）2種方法進(jìn)行比較，它們?cè)诘入x子體環(huán)境中，氫氣被解離晶硅，是把SiCl4分離并提純以后直接的反應(yīng)方程式分別如下：后部分生成的
7、氫原子，反應(yīng)活性極高，生產(chǎn)多晶硅。峨眉半導(dǎo)體材料廠曾做直接（高溫）氫化：因此極易發(fā)生以下反應(yīng)：過SiCl4生產(chǎn)多晶硅實(shí)驗(yàn)，該方法是可SiCl（氣）4+H（氣）2=SiHCl（氣）3H+SiCl4=SiCl3+HCl行的，我國有色總院、605廠、重慶天+HCl（氣）（反應(yīng)1）H+SiCl3=SiHCl3源化工廠和丹麥Topsil工廠都曾采用添加硅后氫化：H2+SiCl4=SiHCl3+HClSiCl
