DAST-石墨烯復(fù)合薄膜的制備與光電特性分析

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1、摘要摘要近年新材料技術(shù)的快速發(fā)展,使THz探測技術(shù)成為了一種重要的技術(shù),由此也推動了THz技術(shù)的發(fā)展,使之在世界范圍引起了研究熱潮。但是,非制冷太赫茲探測器的研究進(jìn)展緩慢。傳統(tǒng)上,相關(guān)的探測器使用無機型熱敏感膜材料,其對太赫茲波段的吸收較弱,難于滿足非制冷太赫茲探測的需要。為此,本文首先合成出了4-(4二甲基氨基苯乙烯基)甲基吡啶對甲基苯磺酸鹽(DAST)非線性有機材料。在此基礎(chǔ)上,把DAST與石墨烯分別通過原位和非原位復(fù)合的方法,制備出新型的DAST-石墨烯復(fù)合材料,并將這些材料通過旋涂工藝制備成薄膜。本文系統(tǒng)地研究了所制薄膜的

2、晶相形貌、紅外及太赫茲光譜、紫外-可見光光譜、拉曼光譜、熱敏電阻變化等。相關(guān)研究還未見國內(nèi)外文獻(xiàn)報道。本文的具體研究成果如下:(1)利用原位復(fù)合方法在DAST合成過程中摻入石墨烯,從而合成出DAST-石墨烯原位復(fù)合材料,并利用元素分析、紅外測試等多種手段對合成的DAST產(chǎn)物進(jìn)行了測試。結(jié)果顯示合成的產(chǎn)物的確為非線性有機材料DAST。(2)在復(fù)合過程中,氧化石墨烯中的O原子與DAST中苯環(huán)上的H原子形o成氫鍵,電子通過氫鍵轉(zhuǎn)移使氧化石墨烯在80C的低溫下發(fā)生了還原反應(yīng),這是一種新發(fā)現(xiàn)的氧化石墨烯的還原反應(yīng)。通過該反應(yīng)使DAST與石墨

3、烯緊密地結(jié)合在一起。與之相比,非原位形成的氫鍵數(shù)量遠(yuǎn)低于原位復(fù)合過程,使DAST與石墨烯的結(jié)合能力弱,由此導(dǎo)致DAST-石墨烯非原位復(fù)合薄膜的光學(xué)、電學(xué)性能明顯弱于原位復(fù)合薄膜。在光學(xué)方面,石墨烯的加入使復(fù)合薄膜在可見光至THz波段吸收明顯增強。復(fù)合薄膜的遠(yuǎn)紅外光譜吸收峰還出現(xiàn)藍(lán)移現(xiàn)象。在電學(xué)方面,6與DAST薄膜相比,原位復(fù)合薄膜的電阻值(7.6×10Ω)下降了4至5個數(shù)量級,10而非原位(1.13×10Ω)僅下降1至2個數(shù)量級,原位復(fù)合薄膜導(dǎo)電性能更為優(yōu)-1良,同時原位復(fù)合薄膜電阻溫度系數(shù)(TCR)(-0.0279K)絕對值最

4、大,能夠滿足微測輻射熱計的性能要求。(3)對具有不同石墨烯濃度的復(fù)合薄膜的形貌、光學(xué)及電學(xué)性能進(jìn)行了研究。發(fā)現(xiàn)在5%濃度左右的原位復(fù)合薄膜的形貌更好,濃度小于5%會出現(xiàn)DAST大量結(jié)晶,濃度大于5%石墨烯對DAST的紅外吸收峰有抑制作用。此外,5%濃度下復(fù)合薄膜還具有較好的綜合熱敏電阻性能,而低濃度下的導(dǎo)電能力不足,高濃度下的成膜質(zhì)量低,說明5%的石墨烯濃度為該復(fù)合薄膜的較優(yōu)化濃度。關(guān)鍵詞:DAST,石墨烯,復(fù)合薄膜,電學(xué)性能,光學(xué)性能IABSTRACTABSTRACTInrecentyears,therapiddevelopme

5、ntofnewtechnologyandnewmaterialsmaketheterahertz(THz)sourcesbecomeaconventionaltechnology.Asaresult,manyresearchinstitutionsintheworldbegintopaymoreattentiontoTHzandtheuncooledTHzdetectors.However,theinorganicsensitivematerialsareutilizedwidely.Suchmaterialsrespondwee

6、klytoTHzsignals,whichcannotmeetthedevicerequirements.So,wefirstsynthesizedDAST.Basedonit,in-situandex-situDAST-graphenecompositematerialsweresynthesized.Accordingly,DASTfilms,in-situcompositefilms,andex-situcompositefilmswerefurtherprepared.Theresultingfilmsweresystem

7、aticallyinvestigatedwithmetallographicmicroscope,scanningelectronmicroscope(SEM),fouriertransforminfraredspectroscopy,UV-visspectroscopy,Ramanspectroscopy,andhighresistancemeter,respectively.Themainresultsofthisthesisarelistedbelow:(1)Inin-situprocess,grapheneismixedw

8、ithDASTduringtheDASTsynthesis.Theproductsarecharacterizedbyelementalanalysisandfouriertransforminfraredspectroscopy,bothofwh

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