顯影蝕刻工藝調(diào)試

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1、常州瑞擇微電子科技有限公司ChangzhouRuizeMicroelectronicsCo.,Ltd.顯影蝕刻工藝調(diào)試目錄一.名詞解釋21.CD22.DOF23.DOSE24.ISOFOCALDOSE25.CDUniformity26.CDRange:27.ADI:28.AEI:29.ASI:2二.工藝調(diào)試內(nèi)容31.Etchtoclear測(cè)試31.1.測(cè)試目的31.2.測(cè)試條件31.3.測(cè)試步驟,31.4.數(shù)據(jù)處理32.ISOFOCALDOSE測(cè)試32.1.測(cè)試目的32.2.測(cè)試步驟32.3.數(shù)據(jù)處理32.4.其它

2、53.CDuniformity測(cè)試53.1.測(cè)試目的53.2.測(cè)試條件53.3.測(cè)試步驟53.4.數(shù)據(jù)處理6機(jī)密7頁(yè)共7頁(yè)常州瑞擇微電子科技有限公司ChangzhouRuizeMicroelectronicsCo.,Ltd.一.名詞解釋1.CDCriticalDimension,關(guān)鍵尺寸,也稱線寬。衡量芯片制造工藝的指標(biāo)。線寬越小,芯片的集成度越高,其性能越好。2.DOFDepthofFocus,焦深,指光學(xué)鏡頭的可聚焦范圍。在該范圍內(nèi)圖像能夠清晰成像。為能夠保證光膠完全曝光,焦深必須能夠覆蓋光刻膠層的上下表面。3

3、.DOSE曝光劑量。DOSE=曝光強(qiáng)度×曝光時(shí)間,單位:mJ/cm2。4.ISOFOCALDOSE最佳感光劑量。用此劑量曝光,聚焦誤差對(duì)CD影響最小。曝光機(jī)在生成圖形時(shí),由于存在機(jī)械運(yùn)動(dòng),會(huì)造成FOCUS偏移。采用ISOFOCALDOSE曝光,可獲得CDUniformity最優(yōu)的圖形。5.CDUniformityCD均勻性。是對(duì)所有CD測(cè)量值統(tǒng)計(jì)的標(biāo)準(zhǔn)偏差6.CDRange:CD誤差。是所有CD測(cè)量值最大值和最小值的差值。7.ADI:AfterDevelopInspection。顯影后CD測(cè)量。ADI一般用于檢測(cè)曝

4、光機(jī)和顯影機(jī)的性能指標(biāo)。由于不能通過透射光測(cè)量,所以ADI一般通過電子束或掃描電鏡等手段測(cè)量。8.AEI:AfterEtchInspection。蝕刻后CD測(cè)量。AEI一般用于檢測(cè)蝕刻機(jī)臺(tái)的性能指標(biāo)。在生產(chǎn)上,也有兩步蝕刻工藝用到AEI。即顯影后先做初步蝕刻,然后根據(jù)AEI結(jié)果確定最終蝕刻工藝時(shí)間。這種工藝在蝕刻性能受環(huán)境影響比較大的設(shè)備上能夠獲得比較好的工藝結(jié)果。9.ASI:AfterStripInspection。去膠后CD測(cè)量,也是成品的CD測(cè)量。一般用于成品出廠檢驗(yàn)。機(jī)密7頁(yè)共7頁(yè)常州瑞擇微電子科技有限公司

5、ChangzhouRuizeMicroelectronicsCo.,Ltd.一.工藝調(diào)試內(nèi)容1.Etchtoclear測(cè)試1.1.測(cè)試目的初步確定蝕刻工藝的時(shí)間。1.2.測(cè)試條件l一塊帶有鉻層的空白掩模版1.3.測(cè)試步驟,l清洗測(cè)試版,去除掩模版表面污物,確保表面能夠完全浸潤(rùn)。l將掩模版放置于卡盤上,設(shè)定卡盤旋轉(zhuǎn)速度100rpm(要求與蝕刻工藝轉(zhuǎn)速相同)。l打開蝕刻噴嘴,并開始計(jì)時(shí)。l觀察到鉻層顏色發(fā)生突變(幾乎透明)時(shí),停止計(jì)時(shí)。l關(guān)閉蝕刻噴嘴,清洗測(cè)試版和腔體。1.4.數(shù)據(jù)處理蝕刻工藝時(shí)間可初步定位測(cè)試計(jì)時(shí)的1

6、.2倍。2.ISOFOCALDOSE測(cè)試2.1.測(cè)試目的確定最佳曝光劑量。2.2.測(cè)試步驟l設(shè)置曝光程序,生成測(cè)試圖形陣列。要求每一列對(duì)應(yīng)不同DOSE,每一行對(duì)應(yīng)不同F(xiàn)OCUS。l曝光生產(chǎn)測(cè)試版,并進(jìn)行顯影、蝕刻和去膠處理。l測(cè)量測(cè)試版上陣列中每個(gè)點(diǎn)的CD。l分析測(cè)量數(shù)據(jù)。2.3.數(shù)據(jù)處理分析案例如下:DoseFocus73.3177.1681.2285.5090.0094.7499.72104.97110.508001.9932.0422.0862.1132.1452.1802.1892.2372.2576002

7、.0022.0412.0862.1162.1462.1742.1852.2292.2514001.9992.0562.0822.1132.1432.1722.1882.2272.2482002.0092.0402.0792.1122.1392.1742.1912.2262.25202.0072.0412.0812.1132.1442.1732.2012.2302.247-2001.9962.0392.0742.1122.1452.1742.2052.2402.257-4001.9902.0232.0692.1042

8、.1412.1802.2102.2392.268-6001.9702.0242.0622.1042.1392.1802.2102.2442.271機(jī)密7頁(yè)共7頁(yè)常州瑞擇微電子科技有限公司ChangzhouRuizeMicroelectronicsCo.,Ltd.-8002.0252.0402.0962.1472.1842.2132.2562.2922.322

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