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《基于移動(dòng)掩模技術(shù)的微透鏡陣列的制作及其面形控制.pdf》由會(huì)員上傳分享，免費(fèi)在線閱讀，更多相關(guān)內(nèi)容在工程資料-天天文庫。
1、分類號：]塑Qi：ZUDC：620密數(shù)：可公開編號基于移動(dòng)掩模技術(shù)的微透鏡陣列的制作及其面形控制ResearchonFabricationandtheControllingofProfilesofMicrolensArraybasedonMovingMaskTechnology學(xué)位授予單位技代碼：筮疊鯉王盔堂!!Q!盟2學(xué)科々業(yè)名稱廈代峭：堂芏=E摧!Q8()：j!”冗玎『q：挫i!堂堂地盛叢』捏!重用Lf請學(xué)位級別：塑．￡豐}}導(dǎo)救帥：童堡塑煎籃研究，+：韭自【坐長春理工大學(xué)碩士學(xué)位論文原創(chuàng)性聲明本人鄭重聲明：所呈交的碩
2、士學(xué)位論文．《基于移動(dòng)掩模技術(shù)的微透鏡陣列的制作及其面形控制》是本人在指導(dǎo)教師的指導(dǎo)下．獨(dú)立進(jìn)行研究工作所取得的成果。除文中已經(jīng)注明引用的內(nèi)容外，本論文不包含任何其他個(gè)人或集體己經(jīng)發(fā)表或撰寫過的作品成果。對本文的研究做出重要貢獻(xiàn)的個(gè)人和集體，均已在文中以明確方式標(biāo)明。本人完全意識到本聲明的法律結(jié)果由本人承擔(dān)。作者簽名№／埤?月佃R長春理工大學(xué)學(xué)位論文版權(quán)使用授權(quán)書本學(xué)位論文作者及指導(dǎo)教師完全了解“長春理工大學(xué)碩士、博士學(xué)位論文版權(quán)使用規(guī)定”，同意長春理工大學(xué)保留并向中國科學(xué)信息研究所、中國優(yōu)秀博碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫和CN
3、K[系列數(shù)據(jù)庫及其它國家有關(guān)部門或機(jī)構(gòu)送交學(xué)位論文的復(fù)印件和電子版，允許論文被查閱和借閱。本人授權(quán)長春理工大學(xué)可以將本學(xué)位論文的全部或部分內(nèi)容編八有關(guān)數(shù)據(jù)庫進(jìn)行檢索，也可采用髟印、縮印或掃描等復(fù)制手段保存和匯編學(xué)位論文。作者簽名：孫紅牟21乜年三月監(jiān)R導(dǎo)師箍名絲年—三月二蘭FI摘要微透鏡陣列在光束整形、j匕束準(zhǔn)直等方面有著非常重要的作用，制作微透鏡陣列的方法也有多種。本文針對柱面微透鏡陣列的制作，在研究掩模移動(dòng)光刻原理及方法的基礎(chǔ)上．研究了數(shù)字掩模的理論及作用．并設(shè)計(jì)了用于制作柱面微透鏡陣列的數(shù)字掩模，采用數(shù)字移動(dòng)掩模光刻
4、法制作柱面微透鏡陣列，分析了光刻工藝中影響微透鏡陣列面形的因素，通過選擇曝光時(shí)間、顯影液濃度、顯影液溫度和顯影時(shí)間，來對微透鏡陣列的面形進(jìn)行控制。制作出面形較為理想的柱面微透鏡陣列，單個(gè)微透鏡的矢高為517um，曲率半徑為6295um，焦距為11445¨m。研究結(jié)果表明，在移動(dòng)掩模光刻法中，數(shù)字掩模適于連續(xù)面形的微透鏡陣列的制作。在移動(dòng)掩模光刻過程中，工件臺(tái)移動(dòng)的直線性、定位精度、絲杠的位移傳動(dòng)都會(huì)影響微透鏡陣列的面形；在光刻工藝中，曝光時(shí)間、顯影時(shí)間、顯影液濃度和顯影液溫度也會(huì)影響微透鏡陣列的面形。關(guān)鍵詞：光刻技術(shù)數(shù)字移
5、動(dòng)掩模柱面微透鏡陣列面形控制AbstractMicro-lensarrayplaysaveryimportantroleinbeamshaping，beamcollimation，andsoonTherearemanywaysofmakingmicro—lensarraysFocusingonproductionofcylindricalmicro-lensarray,onthebasisofprinciplesandmethodsofmovingmasklithography，weresearchedthetheorya
6、ndfunctionofdigitalmasksanddesignedthedigitalmasksofcylindricalmicro·lensarray．WeusethedigitalmovingmaskphotolithographymethodtomakecylinderandanalysisedtheInfluencefactorsfortheshapeofmicro—lensarrayinphotoIithographyprocess，byselectingtheexposuretime，developerco
7、ncentration，developertemperature，developertime，controloverthesurfaceofmicro—lensarray,Theresultshowsthatthecylindricalmicro—lensarray’sparameteris：asinglemicro-lensaperturewidthof494pm，y—shapehigh517gm，radiusofcurvatureis6295pm，focallengthforll445umStudyresultssho
8、wthatinthemethodofmovingmasklithography,digitalmasksuitableforfabricationofcontinuoussurfacemicro-lensarrayIntheprocessofmovingmasklithography,thework-p
