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《脈沖電沉積工藝對鎳鍍層結(jié)構(gòu)與硬度的影響.pdf》由會員上傳分享，免費在線閱讀，更多相關(guān)內(nèi)容在行業(yè)資料-天天文庫。
1、第18卷第1期材料科學(xué)與工藝Vol.18No.12010年2月MATERIALSSCIENCE＆TECHNOLOGYFeb.，2010脈沖電沉積工藝對鎳鍍層結(jié)構(gòu)與硬度的影響1，32333王玉，袁學(xué)韜，俞宏英，孫冬柏，李輝勤(1.中國文化遺產(chǎn)研究院，北京100029，ywang03@163.com;2.北京有色金屬研究總院，北京100088;3.北京科技大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院，北京100083)摘要:為了優(yōu)化脈沖電鍍鎳工藝，采用掃描電子顯微鏡、X射線衍射儀和顯微硬度儀研究了脈寬、脈間、峰電流密度對
2、鍍層的晶粒尺寸、表面形貌、晶體取向和硬度的影響.結(jié)果表明，保持峰電流密度和脈間不變，鍍層的晶粒尺寸隨著脈寬的增加先減小后增加.當(dāng)脈寬由0.1ms增至8ms，晶體取向由(111)織構(gòu)向(200)織構(gòu)轉(zhuǎn)變.保持峰電流密度和脈寬不變，當(dāng)脈間的增加，晶粒尺寸增大，但晶體的取向不變.增加峰電流密度能22夠顯著降低鍍層的晶粒尺寸.當(dāng)峰電流密度由0.2A/cm增至2.0A/cm，晶體取向由隨機(jī)態(tài)向強(qiáng)的(200)織構(gòu)轉(zhuǎn)變.鍍層的硬度與鍍層的晶粒尺寸有關(guān)，晶粒尺寸較大時，服從Hall－Petch關(guān)系，晶粒尺寸較小
3、時，產(chǎn)生納米效應(yīng)，反Hall－Petch關(guān)系.因此，脈寬、脈間、峰電流密度均能顯著影響鍍層的顯微硬度.關(guān)鍵詞:脈沖電沉積;微觀結(jié)構(gòu);納米效應(yīng)中圖分類號:TQ153文獻(xiàn)標(biāo)識碼:A文章編號:1005－0299(2010)01－0089－07Influenceofpulseparametersonthemicrostructureandmicrohardnessofnickelelectrodeposits1，32333WANGYu，YUANXue-tao，YUHong-ying，SUNDong-ba
4、i，LIHui-qin(1.ChineseAcademyofCulturalHeritage，Beijing100029，China，ywang03@163.com;2.GeneralResearchInstituteforNon-ferrousMetals，Beijing100088，China;3.SchoolofMaterialsScienceandEngineering，UniversityofScienceandTechnologyBeijing，Beijing100083，China
5、)Abstract:Tooptimizethenickelpulseplatingprocess，thescanningelectronmicroscope，X-raydiffractionandmicrohardnesstesterwereusedtodeterminetheinfluenceofpulseon-time，pulseoff-timeandpeakcur-rentdensityonthegrainsize，surfacemorphology，crystalorientationa
6、ndmicrohardnessofthenickelelectro-deposits.Thestudyshowsthatatconstantoff-timeandpeakcurrentdensity，thecrystalsizeofthedepositsin-itiallydecreasesandthenstartstoincreasewiththeincreasingpulseon-time.Thecrystalorientationprogres-sivelychangesfroma(111
7、)textureattheon-timeof0.1mstoastrong(200)textureattheon-timeof8ms.Theincreaseofpulseoff-timeattheconstanton-timeandpeakcurrentdensityresultsinaprogressiveincreaseincrystalsize，whilethecrystalorientationremainsunaffected.Theincreaseofpeakcurrentdensit
8、yresultsinconsiderablerefinementincrystalsizeofthedeposits.Thecrystalorientationprogressivelychangesfromanal-2mostrandomdistributionatthelowestpeakcurrentdensityof0.2A/cmtoastrong(200)textureatthepeak2currentdensityof2.0A/cm.Themicrohardnessofdeposit
