氣相法二氧化硅的表面改性.pdf

氣相法二氧化硅的表面改性.pdf

ID:56777492

大小:180.52 KB

頁(yè)數(shù):3頁(yè)

時(shí)間:2020-07-09

氣相法二氧化硅的表面改性.pdf_第1頁(yè)
氣相法二氧化硅的表面改性.pdf_第2頁(yè)
氣相法二氧化硅的表面改性.pdf_第3頁(yè)
資源描述:

《氣相法二氧化硅的表面改性.pdf》由會(huì)員上傳分享,免費(fèi)在線閱讀,更多相關(guān)內(nèi)容在教育資源-天天文庫(kù)。

1、研究·開(kāi)發(fā)蔭機(jī)‘l蔭料,2010,24(1):37~39SILICONEMATERIAL氣相法二氧化硅的表面改性趙春明,朱曉靜,梁曉晨,徐浩,張爽(沈陽(yáng)化工股份有限公司,沈陽(yáng)110026)摘要:以氣相法二氧化硅為原料,六甲基二硅氮烷為改性劑,采用干法工藝對(duì)氣相法二氧化硅表面進(jìn)行改性,探討了六甲基二硅氮烷用量、反應(yīng)溫度、反應(yīng)時(shí)間對(duì)氣相法二氧化硅表面改性效果的影響。結(jié)果表明,當(dāng)六甲基.2-硅氮烷用量為氣相法二氧化硅質(zhì)量的25%、反應(yīng)溫度為150℃、反應(yīng)時(shí)間為40min時(shí),二氧化硅表面的硅羥基數(shù)量最少,比改性前減少97%:關(guān)鍵詞:氣相法二氧化硅,表面改性,六甲基.2-硅氮烷中圈分類

2、號(hào):TQ127.2文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A文章編號(hào):1009—4369(2010)O1—0037—03氣相法二氧化硅(俗稱氣相法白炭黑)是有限公司。由氯硅烷經(jīng)氫氧焰高溫水解制得的一種精細(xì)、特電子天平:AV412,沈陽(yáng)杰龍儀器有限公殊的無(wú)定形粉體,其產(chǎn)品純度高、平均原生粒徑司;白鋼反應(yīng)器裝置:自制。為7~40nm、比表面積50~380Ill/g、SiO,質(zhì)量1.2實(shí)驗(yàn)方案分?jǐn)?shù)不小于99.8%,是一種多功能的添加劑,本實(shí)驗(yàn)采用干法工藝對(duì)氣相法二氧化硅進(jìn)行廣泛應(yīng)用于硅橡膠、涂料、復(fù)合材料中,起到補(bǔ)改性,即將干燥的氣相法二氧化硅與六甲基二硅強(qiáng)、增稠、觸變等作用。!。但應(yīng)用中存在一個(gè)氮烷蒸汽接觸

3、并進(jìn)行反應(yīng)(工藝流程見(jiàn)圖1)。將關(guān)鍵問(wèn)題,就是如何與聚合物更好的相容,使其100g氣相法二氧化硅在反應(yīng)器中升溫到150qC預(yù)熱能均勻分散在聚合物中。通過(guò)一定的工藝使某些2h;六甲基二硅氮烷通過(guò)汽化裝置汽化后進(jìn)人反應(yīng)器中,與氣相法二氧化硅反應(yīng)一定時(shí)間后出料。改性劑與氣相法二氧化硅表面的硅羥基發(fā)生反應(yīng),消除或減少硅羥基的數(shù)量,使氣相法二氧化未反應(yīng)的六甲基二硅氮烷被中和掉。硅由親水性變?yōu)槭杷裕湍芨纳贫趸枧c聚合物的相容性。目前常用的改性劑有醇、脂肪酸、硅烷偶聯(lián)劑等等。國(guó)外已開(kāi)發(fā)出多種改性產(chǎn)品,如:Degussa公司的R974、WACKER公司的H一2000等等;國(guó)內(nèi)也有多家單

4、位進(jìn)行了相關(guān)的研究,如吉林化工研究院、中科院化學(xué)研究所等等,但都未形成規(guī)模生產(chǎn)。本實(shí)驗(yàn)以六甲基二硅氮烷為改性劑,采用于法工藝對(duì)氣相法二氧化硅進(jìn)行表面改性,研究了改性工藝對(duì)氣相法二氧化硅表面硅羥基數(shù)量的影響。1實(shí)驗(yàn)1.1主要試劑與儀器氣相法二氧化硅:A一200,本公司;六甲收稿日期:2009—09—24?;璧椋篊P,國(guó)藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司;作者簡(jiǎn)介:趙春明(1978一),男,助理工程師,沈陽(yáng)化工股份無(wú)水乙醇、氫氧化鈉:AR,國(guó)藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司研究所。E—mail:zhaochunmingl212@126.eom:·38·請(qǐng)機(jī).1材料第24卷的燒杯中,加入25mL無(wú)

5、水乙醇潤(rùn)濕;然后加入40min后,二氧化硅表面的硅羥基數(shù)量減少不明75mL氯化鈉質(zhì)量分?jǐn)?shù)為20%的氯化鈉溶液,攪顯。較佳反應(yīng)時(shí)間為45min。拌成懸濁液;用濃度為0.1mol/L的鹽酸或相同濃度的氫氧化鈉溶液調(diào)節(jié)懸濁液pH值至4;攪拌狀態(tài)下用濃度為0.1mol/L的氫氧化鈉溶液滴定,直至pH值上升至9穩(wěn)定不變。依式1計(jì)算試樣表面的硅羥基數(shù)量。D=cV/mS×NA×10(1)反應(yīng)時(shí)間/min式中,D為硅羥基密度,個(gè)/nm;c為滴定用圖3反應(yīng)時(shí)間對(duì)氣相法二氧化硅NaOH標(biāo)準(zhǔn)溶液濃度,本實(shí)驗(yàn)為0.1mol/L;V為表面硅羥基數(shù)量的影響pH值從4.0升至9.0時(shí)所消耗的NaOH的體積

6、,2.3反應(yīng)溫度對(duì)改性效果的影響mL;N為阿伏伽德羅常數(shù);S為比表面積,控制六甲基二硅氮烷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為25%、nm/g;m為樣品質(zhì)量,g。反應(yīng)時(shí)間為45min,反應(yīng)溫度對(duì)氣相法二氧化硅表面硅羥基數(shù)量的影響如圖4所示。2結(jié)果與討論2.1六甲基二硅氦烷用量對(duì)改性效果的影響皇阜控制改性反應(yīng)時(shí)間為45min、溫度為豳{150cI=,六甲基二硅氮烷用量對(duì)氣相法二氧化硅籟蛾表面硅羥基數(shù)的影響如圖2所示。坦目阜反應(yīng)溫度/~C<_咖{圖4反應(yīng)溫度對(duì)氣相法二氧化硅表面硅羥基數(shù)量的影響由圖4可以看出,隨著反應(yīng)溫度的升高,二六甲基二硅氫烷質(zhì)量分?jǐn)?shù)/%氧化硅的表面羥基數(shù)量逐漸減少;反應(yīng)溫度超過(guò)圖2六

7、甲基二硅氮烷用量對(duì)氣相法150℃以后,二氧化硅表面的硅羥基數(shù)量減少不二氧化硅表面硅羥基數(shù)的影響明顯。較佳反應(yīng)溫度為150cC。未經(jīng)處理的二氧化硅表面的硅羥基數(shù)量為3結(jié)論1.2個(gè)/nm。經(jīng)六甲基二硅氮烷處理后,二氧化以六甲基二硅氮烷為改性劑、采用干法工藝硅表面的硅羥基數(shù)量急劇下降,而且隨六甲基二對(duì)氣相法二氧化硅表面進(jìn)行改性時(shí),較佳工藝硅氮烷用量的增加而減少;當(dāng)六甲基二硅氮烷的為:六甲基二硅氮烷用量為氣相法二氧化硅質(zhì)量質(zhì)量分?jǐn)?shù)超過(guò)25%后,二氧化硅表面的硅羥基的25%,反應(yīng)溫度為150℃,反應(yīng)時(shí)間為數(shù)量減少

當(dāng)前文檔最多預(yù)覽五頁(yè),下載文檔查看全文

此文檔下載收益歸作者所有

當(dāng)前文檔最多預(yù)覽五頁(yè),下載文檔查看全文
溫馨提示:
1. 部分包含數(shù)學(xué)公式或PPT動(dòng)畫(huà)的文件,查看預(yù)覽時(shí)可能會(huì)顯示錯(cuò)亂或異常,文件下載后無(wú)此問(wèn)題,請(qǐng)放心下載。
2. 本文檔由用戶上傳,版權(quán)歸屬用戶,天天文庫(kù)負(fù)責(zé)整理代發(fā)布。如果您對(duì)本文檔版權(quán)有爭(zhēng)議請(qǐng)及時(shí)聯(lián)系客服。
3. 下載前請(qǐng)仔細(xì)閱讀文檔內(nèi)容,確認(rèn)文檔內(nèi)容符合您的需求后進(jìn)行下載,若出現(xiàn)內(nèi)容與標(biāo)題不符可向本站投訴處理。
4. 下載文檔時(shí)可能由于網(wǎng)絡(luò)波動(dòng)等原因無(wú)法下載或下載錯(cuò)誤,付費(fèi)完成后未能成功下載的用戶請(qǐng)聯(lián)系客服處理。