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1、納米壓印光刻膠趙彬1，張靜2，周偉民2，王金合2，劉彥伯2，張燕萍2，施利毅1，張劍平1*1.上海大學(xué)理學(xué)院化學(xué)系，上海2004442.上海市納米科技與產(chǎn)業(yè)發(fā)展促進(jìn)中心納米核心技術(shù)實(shí)驗室，上海200237摘要：光刻膠是納米壓印關(guān)鍵材料，其性能將影響壓印圖形復(fù)制精度、圖形缺陷率和圖形向底材轉(zhuǎn)移時刻蝕選擇性。文中提出了成膜性能、硬度粘度、固化速度、界面性質(zhì)、抗刻蝕能力等壓印光刻膠的性能指標(biāo)。并根據(jù)工藝特點(diǎn)和材料成分對光刻膠分類，介紹了熱壓印光刻膠、紫外壓印光刻膠、步進(jìn)式光刻膠和滾動壓印式光刻膠的特點(diǎn)以及碳氧類純有機(jī)材料、有機(jī)氟材料、有機(jī)硅材料做壓印光刻膠的優(yōu)缺點(diǎn)。
2、列舉了熱壓印、紫外壓印、步進(jìn)壓印工藝中具有代表性的光刻膠實(shí)例，詳細(xì)分析了其配方中各組分的比例和作用。介紹了可降解光刻膠的原理。展望了壓印光刻膠的發(fā)展趨勢。關(guān)鍵詞：納米壓?。粺釅河」饪棠z；紫外壓印光刻膠；有機(jī)硅光刻膠；含氟光刻膠IntroductiontoNanoimprintLithographyResistZhaoBin1,ZhangJing2,ZhouWeimin2,WangJinhe2,LiuYanbo2,ZhangYanping2,ShiLiyi1,ZhangJianpin1*1.Chemistrydepartment,SchoolofScience,
3、ShanghaiUniversity,Shanghai200444,China2.LaboratoryofNanotechnology,ShanghaiNanotechnologyPromotionCenter(SNPC),Shanghai200237,ChinaResistisakeymaterialfornanoimprintlithography(NIL).Itspropertyinfluencetheaccuracyoftransferredpatterns,defectsrateandetchselectivityofNILsignificantly
4、.Asuitableresistmaterialisofgreatimportanceforsuccessfulimprinting.Inthispaper,requirementsofaimprintresist,suchascoatingability,viscosity,modulus,curingrates,interfacialenergyandetchresistancearediscussed.Differentcategoriesofimprintresistssortedbydifferentnanoimprintlithography(su
5、chashotembossinglithography,UV-nanoimprintlithography,stepandflashnanoimprintlithographyandroll-to-rollnanoimprintlithography)andmaincomponent(suchascarbon-oxygencompound,carbon-fluorinecompoundandcarbon-siliconcompound)areintroduced.Someclassicalprescriptionsofhotembossingresist,UV
6、-nanoimprintresistandstep-by-stepnanoimprintresistareanalyzeddetailedly,includingeachcomponentfunctionandquantityineachprescription.Intheendtheprincipleofdegradableimprintresistarediscussedandthedevelopmenttendencyofimprintresistsaregiven.Keywords:nanoimprintlithography;hotembossing
7、resist;UV-nanoimprintresist;floroupolymer;siliconepolymer0引言納米壓印是受到廣泛關(guān)注的下一代光刻技術(shù)，高精度、高分辨率、廉價的特點(diǎn)使其很可能成為下一代主流光刻技術(shù)，麻省理工大學(xué)的一篇評論稱之為可能改變世界的十大技術(shù)之一[1]。經(jīng)過十多年的發(fā)展，壓印技術(shù)被用于電子學(xué)[2,3]、生物學(xué)[4]、光學(xué)[5-7]等領(lǐng)域。壓印技術(shù)本身也發(fā)生了巨大變化，逐漸發(fā)展為熱壓印（HEL）、紫外壓印（UV-NIL）和步進(jìn)壓印(SFIL)以及滾動式壓?。≧olltoRoll）幾大壓印方式[8]。伴隨著壓印方式的變化，光刻膠研究也
8、發(fā)生了深刻的變革，由原本單一的熱塑性材
