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1、納米壓印光刻膠趙彬1，張靜2，周偉民2，王金合2，劉彥伯2，張燕萍2，施利毅1，張劍平1*1.上海大學理學院化學系，上海2004442.上海市納米科技與產(chǎn)業(yè)發(fā)展促進中心納米核心技術實驗室，上海200237摘要：光刻膠是納米壓印關鍵材料，其性能將影響壓印圖形復制精度、圖形缺陷率和圖形向底材轉(zhuǎn)移時刻蝕選擇性。文中提出了成膜性能、硬度粘度、固化速度、界面性質(zhì)、抗刻蝕能力等壓印光刻膠的性能指標。并根據(jù)工藝特點和材料成分對光刻膠分類，介紹了熱壓印光刻膠、紫外壓印光刻膠、步進式光刻膠和滾動壓印式光刻膠的特點以及碳氧類純有機材料、有機氟材料、有機硅材料做壓印光刻膠的優(yōu)缺點。
2、列舉了熱壓印、紫外壓印、步進壓印工藝中具有代表性的光刻膠實例，詳細分析了其配方中各組分的比例和作用。介紹了可降解光刻膠的原理。展望了壓印光刻膠的發(fā)展趨勢。關鍵詞：納米壓印；熱壓印光刻膠；紫外壓印光刻膠；有機硅光刻膠；含氟光刻膠IntroductiontoNanoimprintLithographyResistZhaoBin1,ZhangJing2,ZhouWeimin2,WangJinhe2,LiuYanbo2,ZhangYanping2,ShiLiyi1,ZhangJianpin1*1.Chemistrydepartment,SchoolofScience,
3、ShanghaiUniversity,Shanghai200444,China2.LaboratoryofNanotechnology,ShanghaiNanotechnologyPromotionCenter(SNPC),Shanghai200237,ChinaResistisakeymaterialfornanoimprintlithography(NIL).Itspropertyinfluencetheaccuracyoftransferredpatterns,defectsrateandetchselectivityofNILsignificantly
4、.Asuitableresistmaterialisofgreatimportanceforsuccessfulimprinting.Inthispaper,requirementsofaimprintresist,suchascoatingability,viscosity,modulus,curingrates,interfacialenergyandetchresistancearediscussed.Differentcategoriesofimprintresistssortedbydifferentnanoimprintlithography(su
5、chashotembossinglithography,UV-nanoimprintlithography,stepandflashnanoimprintlithographyandroll-to-rollnanoimprintlithography)andmaincomponent(suchascarbon-oxygencompound,carbon-fluorinecompoundandcarbon-siliconcompound)areintroduced.Someclassicalprescriptionsofhotembossingresist,UV
6、-nanoimprintresistandstep-by-stepnanoimprintresistareanalyzeddetailedly,includingeachcomponentfunctionandquantityineachprescription.Intheendtheprincipleofdegradableimprintresistarediscussedandthedevelopmenttendencyofimprintresistsaregiven.Keywords:nanoimprintlithography;hotembossing
7、resist;UV-nanoimprintresist;floroupolymer;siliconepolymer0引言納米壓印是受到廣泛關注的下一代光刻技術，高精度、高分辨率、廉價的特點使其很可能成為下一代主流光刻技術，麻省理工大學的一篇評論稱之為可能改變世界的十大技術之一[1]。經(jīng)過十多年的發(fā)展，壓印技術被用于電子學[2,3]、生物學[4]、光學[5-7]等領域。壓印技術本身也發(fā)生了巨大變化，逐漸發(fā)展為熱壓?。℉EL）、紫外壓?。║V-NIL）和步進壓印(SFIL)以及滾動式壓?。≧olltoRoll）幾大壓印方式[8]。伴隨著壓印方式的變化，光刻膠研究也
8、發(fā)生了深刻的變革，由原本單一的熱塑性材
