低水峰光纖標(biāo)準(zhǔn)與發(fā)展動態(tài)

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1、2007年3月光纖制造工藝與長飛光纖長飛光纖光纜有限公司1光纖簡介光纖制造工藝光纖主要產(chǎn)品介紹光纖技術(shù)發(fā)展概況長飛公司介紹內(nèi)容21.光纖簡介31.光纖簡介什么是光纖（opticalfiber)？光纖是光導(dǎo)纖維的簡稱。光纖是以光脈沖的形式來傳輸信號，材質(zhì)以玻璃或有機(jī)玻璃為主的網(wǎng)絡(luò)傳輸介質(zhì)。電信號光發(fā)送機(jī)光接受機(jī)電信號光纖光纖簡介光纖制造工藝光纖重要性能參數(shù)長飛光纖產(chǎn)品介紹4光纖結(jié)構(gòu)光纖由三部分組成：◆芯層（core）◆包層（cladding）◆涂覆層（coating）－內(nèi)層（bufferlayer）－外層（toplayer）芯層:SiO2+Ge+F包層:SiO2+F內(nèi)涂

2、覆層:丙烯酸樹脂外涂敷層:丙烯酸樹脂光纖簡介光纖制造工藝光纖重要性能參數(shù)長飛光纖產(chǎn)品介紹1.光纖簡介5光纖分類光纖信號處理光纖通信用光纖非通信用光纖單模光纖（SM）多模光纖（MM）特種光纖光纖傳感光纖測量其它光學(xué)系統(tǒng)光纖簡介光纖制造工藝光纖重要性能參數(shù)長飛光纖產(chǎn)品介紹1.光纖簡介61.光纖簡介模式（mode）概念模式是指光的在光纖中的傳輸方式（電磁場分布形式）。光纖中能夠傳導(dǎo)的模式是有光纖結(jié)構(gòu)參數(shù)所決定的。外界激勵只能激勵起光纖中允許存在的模式而不會改變模式的固有性質(zhì)。模式是光波動方程的解。它對應(yīng)于波動方程某一本征值并滿足全部邊界條件。每一個模式對應(yīng)于沿光纖軸向傳播的

3、一種電磁波。7單模與多模光纖階躍型多模單模光纖光纖簡介光纖制造工藝光纖重要性能參數(shù)長飛光纖產(chǎn)品介紹1.光纖簡介8光纖幾何尺寸★芯徑單模光纖：<10um;多模光纖：50um/62.5um★包層直徑普通光纖：125um★涂覆層直徑普通光纖內(nèi)層－170～200um外層－245um光纖簡介光纖制造工藝光纖重要性能參數(shù)長飛光纖產(chǎn)品介紹1.光纖簡介125um245um9光纖工作原理光纖利用光在界面上的全反射原理進(jìn)行工作。光纖簡介光纖制造工藝光纖重要性能參數(shù)長飛光纖產(chǎn)品介紹1.光纖簡介10光纖剖面折射率示意圖多模芯層包層芯層包層G.652G.655光纖簡介光纖制造工藝光纖重要性能參

4、數(shù)長飛光纖產(chǎn)品介紹1.光纖簡介11光纖通信原理光纖通信采用數(shù)字通信原理。光纖簡介光纖制造工藝光纖重要性能參數(shù)長飛光纖產(chǎn)品介紹010011010模擬信號數(shù)字信號模擬信號編碼解碼1.光纖簡介12光纖通信網(wǎng)絡(luò)單信道全光中繼數(shù)字通信光--電--光中繼的數(shù)字通信光纖簡介光纖制造工藝光纖重要性能參數(shù)長飛光纖產(chǎn)品介紹1.光纖簡介13光纖通信特點光纖簡介光纖制造工藝光纖重要性能參數(shù)長飛光纖產(chǎn)品介紹1.光纖簡介優(yōu)點：信號損耗小，中繼距離長；光纖為絕緣體不受電磁干擾；玻璃光纖不產(chǎn)生電磁場，保密性高；重量輕，易于施工和運輸；缺點：光纖制造工藝復(fù)雜，生產(chǎn)成本較高；光纖連接復(fù)雜；配套光器件價格

5、較高142.光纖制造工藝152.光纖制造工藝光纖制造基本過程制棒拉絲性能測試玻璃加工清洗包裝入庫光纖簡介光纖制造工藝光纖重要性能參數(shù)長飛光纖產(chǎn)品介紹162.光纖制造工藝預(yù)制棒介紹光纖簡介光纖制造工藝光纖重要性能參數(shù)長飛光纖產(chǎn)品介紹預(yù)制棒尺寸：－直徑：φ60mm，φ80mm，φ150mm－長度：1m～2m制棒方法：－玻璃分相法－溶膠－凝膠法－氣相沉積法預(yù)制棒要求：－高純度；－準(zhǔn)確的折射率分布172.光纖制造工藝預(yù)制棒制造工藝氣相沉積法管外法管內(nèi)法管外汽相沉積法（OVD）汽相軸向沉積法（VAD）改進(jìn)的管內(nèi)化學(xué)氣相沉積法（MCVD）等離子體管內(nèi)化學(xué)氣相沉積法（PCVD）光纖

6、簡介光纖制造工藝光纖重要性能參數(shù)長飛光纖產(chǎn)品介紹182.光纖制造工藝四種工藝在全球的大體市場份額光纖簡介光纖制造工藝光纖重要性能參數(shù)長飛光纖產(chǎn)品介紹19管外汽相沉積法（OVD）優(yōu)點：沉積速率高、預(yù)制棒體積大、原料純度要求較低、生產(chǎn)率高不足：折射率剖面粗糙、原料利用率低結(jié)論：擅長制造包層2.光纖制造工藝光纖簡介光纖制造工藝光纖重要性能參數(shù)長飛光纖產(chǎn)品介紹20汽相軸向沉積法（VAD）優(yōu)點：沉積速率高、預(yù)制棒體積大、原料純度要求較低、生產(chǎn)率高不足：折射率剖面粗糙、原料利用率低結(jié)論：擅長制造包層2.光纖制造工藝光纖簡介光纖制造工藝光纖重要性能參數(shù)長飛光纖產(chǎn)品介紹21改進(jìn)的管內(nèi)

7、化學(xué)氣相沉積法（MCVD）優(yōu)點：投資少、操作運行較容易、工藝控制性好不足：原料利用率低、折射率剖面不夠精確結(jié)論：擅長制造包層、纖芯制造僅次于PCVD2.光纖制造工藝光纖簡介光纖制造工藝光纖重要性能參數(shù)長飛光纖產(chǎn)品介紹22等離子體管內(nèi)化學(xué)氣相沉積法（PCVD）優(yōu)點：沉積層薄、工藝控制性強、折射率剖面精確原材料利用率高不足：原料要求純度高、沉積速率低結(jié)論：擅長制造纖芯2.光纖制造工藝光纖簡介光纖制造工藝光纖重要性能參數(shù)長飛光纖產(chǎn)品介紹23PCVD工藝的優(yōu)勢★原材料利用率高四氯化硅SiCl4～100%四氯化鍺GeCl4～85％氟C2F6～90%----節(jié)約