熱發(fā)射掃描電鏡技術規(guī)格與要求

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1、-熱發(fā)射掃描電鏡技術規(guī)格及要求1、設備組成、布置方式及用途說明1.1設備名稱：熱發(fā)射掃描電鏡1.2數(shù)量：一套1.3場發(fā)射掃描電鏡主要由以下部分組成： ①主機：熱場發(fā)射掃描電鏡②附件：電制冷能譜(EDS)與EBSD一體化系統(tǒng)；離子束鍍膜儀；精密切割機；半自動研磨/拋光機；振動拋光機。1.4推薦布置方式：開放式布置。1.5.電鏡主要用于材料的微觀形貌觀察，要求該設備可以直接對導電（金屬材料、半導體材料）和不導電的材料（陶瓷、塑料、玻璃等）進行觀察，以滿足研究近似原始狀態(tài)下相關樣品的觀察和分析需求；配上能譜儀，可對材料的微區(qū)成分進行定性和定量分析及元素線掃描和面分布分析；配上EBS

2、D，可通過實時采集背散射電子以及標定背散射電子衍射花樣，快速獲取逐點的晶體學結構信息，分析研究材料的晶體取向、微觀織構及其相關的材料性能等。1.6.能通過程序控制實現(xiàn)自動化檢測。2、技術指標要求2.1.場發(fā)射掃描電鏡FESEM　　場發(fā)射掃描電鏡作為最關鍵部件，要求選用國際知名品牌產(chǎn)品。投標文件應對所選用場發(fā)射顯微鏡品牌、特色及技術指標給予詳細描述?！　?性能參數(shù)1.1分辨率　 　二次電子像（SE）15KV 1nm1KV1.6nm 　分析模式（EDS或EBSD分析）15KV 3nm---　背散射電子像（BSE）30KV1.1nm1.5.放大倍數(shù)30-800,000×　放大倍數(shù)誤

3、差≤3% 　調節(jié)自動放大倍數(shù)修正功能，放大倍數(shù)預設功能；連續(xù)可調1.3加速電壓2.1.-30KV 　調節(jié)連續(xù)可調1.4探針電流（束流范圍）4pA-100nA　穩(wěn)定度優(yōu)于0.2%/h　調節(jié)連續(xù)可調1.5成像模式二次電子像；背散射電子像　調節(jié)模式二次電子和背散射電子成像系統(tǒng)可以任意比率混合，自動調節(jié)和手動調節(jié)亮度、對比度2電子光學系統(tǒng)2.1電子槍（燈絲）標書需詳細描述本產(chǎn)品的電子光學系統(tǒng)特點　 　---具有自動對中和啟動電子槍功能；在顯示器中顯示全部發(fā)射器參數(shù)的狀態(tài)信息；燈絲壽命優(yōu)于兩年。2.2透鏡控制系統(tǒng)需在標書上詳細說明透鏡控制系統(tǒng)；實現(xiàn)了大小樣品的高分辨率。取代機械式可調光

4、闌，避免機械上的誤差和人為的誤操作。2.3物鏡光闌物鏡光欄應能自加熱自清潔；無需拆卸鏡筒即可更換物鏡光闌；光闌壽命優(yōu)于兩年。2.4電子束位移掃描旋轉、動態(tài)聚焦和傾斜校正補充，圖像旋轉連續(xù)調整，工作距離改變自動旋轉補償；樣品傾斜時自動聚焦并修正。3樣品室3.1樣品臺五軸馬達驅動，同時保留各軸手動，移動范圍：X≥50mm；Y≥50mm；Z≥25mm；T≥-5～+70°；R=360°連續(xù)旋轉，電腦控制全對中旋轉控制，內置樣品防撞警報器3.2樣品室最大可裝載直徑不小于150mm樣品；兼容性高，預留了EDS、EBSD以及其他標準擴展接口。1.1重復性重復性：2μm；1.2穩(wěn)定性最小步長

5、：90nm；漂移：在穩(wěn)定20min后，在360s內（樣品臺不傾斜），樣品臺漂移小于40nm；3.5樣品臺控制樣品臺移動：在屏幕圖形上用鼠標控制及操縱桿控制；靈敏度與放大倍數(shù)相協(xié)調；樣 品臺導航：由模擬樣品臺移動的SmartSEM圖形來進行；接觸報警：與屏幕上的信息同時進行音響報警。4檢測器4.1鏡筒內二次電子檢測器一個和背散射電子檢測器各一個；樣品室二次電子檢測器一個和背散射電子檢測器各一個---1.1樣品室紅外CCD相機一個5電腦控制、數(shù)字圖像記錄系統(tǒng)和標準應用軟件5.1配置與EDS和EBDS的數(shù)據(jù)連接通道；5.2具有自動控制功能：自動真空控制、自動調節(jié)飽和電流、透鏡光闌對

6、中、自動調焦、加速電壓偏壓自動補償、電子束大小電流自動調整、自動調整掃描速度（根據(jù)信噪比）、自動調整對比度&亮度、自動消像散。5.3圖像處理：最大像素不小于4096×3536像素。圖像顯示：單幅圖像顯示或4幀圖像（SE和BSE,混合像，CCD像）同時顯示，雙分屏顯示（顯示電鏡工作參數(shù)）；圖像記錄:TIFF,BMP或JPEG;幾何量實時測量（任何倍率下誤差低于3%以下)；標準配備多種測量軟件工具；圖像 存取和管理軟件；操作軟件內建幫助軟件，協(xié)助使用者查詢相關操作步驟；具有產(chǎn)品控制和數(shù)據(jù)處理的其他標配功能。5.4電鏡控制操作軟件。6控制和數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)6.1基于以太網(wǎng)架構的數(shù)據(jù)傳輸

7、系統(tǒng)；Intel雙核控制和操作計算機系統(tǒng)（要求標書需明確配置）；WindowsXP操作系統(tǒng)；中央處理器：CPU：IntelP41.5.GHz。內存：3.45G；外界接口：串行、并行、SCSI、USB2.1.接口、網(wǎng)絡；硬盤1000GB；CD、DVD刻錄；顯示器：19英寸LCD顯示器（標書需明確廠家與型號）7真空系統(tǒng)1.1渦輪分子泵，離子泵，前級機械泵；換樣時間：≤300秒（高真空模式）；電子槍室真空度10-7Pa數(shù)量級；樣品室真空度：高真空模式下10-4Pa數(shù)量級。8工作條件和安裝要求8.1電源:220