畢業(yè)論文—孫玉騫

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1、2011分類號：單位代碼:10452臨汧大學理學院畢業(yè)論文（設計）Ni-cu［的制備及光學性質(zhì)的研宄姓名孫玉騫學號200707410213年級2007專業(yè)物理學系（院）理學院指導教師石紹華2011年5月4口摘要橢偏測量的棊本原理是起偏器產(chǎn)生的線偏振光經(jīng)取向一定的1/4波片后成為特殊的橢關(guān)偏振光，把它投射到待測樣品表面反射出來的將是線偏振光。根據(jù)偏振光在反射前后的狀態(tài)變化（包括振幅和相位的變化），便可測定樣品表面的許多光學特性。關(guān)鍵詞：橢偏法；Ni-Cu膜；真空鍍膜ABSTRACTThemeasurementofthebasicprincipleisapolarizationoflightthr

2、oughtheorientationofthe1/4afterwaveofaparticularsphereofthepolarizationoflight，andputitontothesurfaceofthetestsamplesofreflectionslinewillbepolarization.Accordingtothepolarizationoflightatthebackofthestatechanges(includingamplitudeandphasechange),itcandeterminethesamples.Keywords：Partialmethod；Membr

3、aneofNi-Cu;Vacuumcoating1弓IW51.1真空鍍膜技術(shù)51.1.1真空鍍膜技術(shù)51.2常用的真空鍍膜技術(shù)簡介51.1.3真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中真空度對蒸發(fā)的影響51.1.4真空蒸發(fā)鍍膜中應注意的幾個問題71.2薄膜材料71.2.1薄膜材料發(fā)展71.2.2薄膜的應用81.3橢偏法81.3.1橢偏法的簡單介紹81.3.2橢偏法的基本原理81.3.3橢偏法的發(fā)展與應用92實驗92.1實驗原理91.1橢偏法基本原理92.1.2光度法的基本理論112.2實驗裝置132.3薄膜樣品制備過程132.4實驗內(nèi)容142.5實驗結(jié)果與分析143相17參考文獻18翻191引言1.1真空鍍膜技術(shù)1.

4、1.1真空鍍膜技術(shù)早在一個多世紀以前，人們從輝光放電管壁上就觀察到了濺射的金屬薄膜。根據(jù)這一現(xiàn)象，后來逐步發(fā)展起真空鍍膜的方法。真空鍍膜技術(shù)，在現(xiàn)代工業(yè)和科學方面有著廣泛的應用。例如，光學儀器上的各種反射膜,增透膜，濾光片等，都是真空鍍膜的產(chǎn)物；電子器件中用的薄膜電阻，特別是平面型晶體管和超大規(guī)模集成電路也有賴于薄膜技術(shù)來制造；硬質(zhì)保護膜可使各種經(jīng)常磨損的器件表面硬化，大大增強耐磨程度；磁性薄膜具有記憶功能，在電子計算機中用作存儲記錄介質(zhì)而片有重要地位......。因此,真空鍍膜技術(shù)目前正在向各個重要的科學領(lǐng)域中延仲，引起了人們廣泛的注意⑴。1.1.2常用的真空鍍膜技術(shù)簡介真空鍍膜中常用的方法

5、是真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在一定真空度下，把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度，使大量分子或原子蒸發(fā)和升華，并直接淀積在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場的作用下高速轟擊作為陰極的靶，使靶材中的分子或原子逸出而淀積到被鍍工件的表面，形成所需要的薄膜。真空蒸發(fā)踱膜最常用的是電阻加熱法。其優(yōu)點是加熱源的結(jié)構(gòu)簡單，造價低廉，操作方便；缺點是不適合用于難熔金屬和耐高溫的介質(zhì)材料。此外還有電子束加熱法，它是利用聚焦電子束直接對被轟擊材料加熱，電子束的動能變成熱能，使材料蒸發(fā)。陰極濺射技術(shù)與真空蒸發(fā)技術(shù)有所不同。充有稀薄氣體的放電管的兩極上加有直流電壓時，開始只有很小的電流，即

6、只有少數(shù)電子和離子形成電流。隨著電壓升高，電子和離子的能量變大，與氣體分子碰撩使之電離，產(chǎn)生更多的離子。正離子在電場中以很高的速度轟擊陰極靶，使靶的中性原子濺射出來，穿過工作空間而淀積到基片上［2］。1.1.3真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中真空度對蒸發(fā)的影響同體物質(zhì)在常溫和常壓下，蒸發(fā)量極微。蒸發(fā)離開閥體表面的分子因周圍氣體壓強高又易于回到該物質(zhì)中去，如果將同體材料放置于真空中，由于周圍氣體壓強很低，將該物質(zhì)加熱至熔化溫度，被加熱材料的分子易1引言1.1真空鍍膜技術(shù)1.1.1真空鍍膜技術(shù)早在一個多世紀以前，人們從輝光放電管壁上就觀察到了濺射的金屬薄膜。根據(jù)這一現(xiàn)象，后來逐步發(fā)展起真空鍍膜的方法。真空鍍膜技

7、術(shù)，在現(xiàn)代工業(yè)和科學方面有著廣泛的應用。例如，光學儀器上的各種反射膜,增透膜，濾光片等，都是真空鍍膜的產(chǎn)物；電子器件中用的薄膜電阻，特別是平面型晶體管和超大規(guī)模集成電路也有賴于薄膜技術(shù)來制造；硬質(zhì)保護膜可使各種經(jīng)常磨損的器件表面硬化，大大增強耐磨程度；磁性薄膜具有記憶功能，在電子計算機中用作存儲記錄介質(zhì)而片有重要地位......。因此,真空鍍膜技術(shù)目前正在向各個重要的科學領(lǐng)域中延仲，引起了人們廣泛