軟刻蝕復(fù)制技術(shù)制作聚合物微透鏡陣列

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1、+半導(dǎo)體光電,!""’年)月第!+卷增刊趙!悅等%!軟刻蝕復(fù)制技術(shù)制作聚合物微透鏡陣列""""""""""""""""""""""""""""""""""""""""""""""""""軟刻蝕復(fù)制技術(shù)制作聚合物微透鏡陣列趙!悅%!賴(lài)建軍%!史錫婷%!易新建%!張!坤!"DE華中科技大學(xué)光電子工程系#湖北武漢O$""WO$!E重慶光電技術(shù)研究所#重慶O"""L"%摘!要!!介紹了利用軟刻蝕紫外模塑技術(shù)制作復(fù)制聚合物折射和衍射微透鏡陣列的工藝過(guò)程!實(shí)驗(yàn)過(guò)程和測(cè)試結(jié)果表明"聚二甲基硅氧烷#K@:6$模具可以完好地將母版上的微透鏡陣

2、列復(fù)制到硅或玻璃材料上的光敏膠上"并可多次使用"且母版無(wú)損傷!此技術(shù)具有速度快"工藝簡(jiǎn)單的特點(diǎn)"可用于微透鏡與圖像傳感器的單片集成!關(guān)鍵詞!!微透鏡!聚合物!紫外模塑!軟刻蝕中圖分類(lèi)號(hào)!45!’!文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼!.!文章編號(hào)!%""%$’*+*"!""’#6$"%%%$"#’)1;>,./&-.)1,59=..4;X4A.&-4*,+A;%)2*J&*()7.4M(&-I,M1&-4*&)5/,*()+%$J.87

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6、于軟刻蝕技術(shù)的紫外模塑工藝制作微透&)’&#’&’’的光刻熱熔成形(束能直寫(xiě)(灰度等級(jí)掩模等&2’&*’鏡的方法受到了重視)軟刻蝕是!"世紀(jì)"年&+’方法$制作衍射微透鏡的方法有二元光學(xué)方法等$代由哈佛大學(xué)的/M

7、蝕的標(biāo)準(zhǔn)工藝還是直寫(xiě)等特種加無(wú)任何傷害)采用軟光刻技術(shù)可以輕易得到)",-工技術(shù)$普遍存在需要昂貴設(shè)備$制作周期長(zhǎng)的缺至%級(jí)的微小結(jié)構(gòu)$此外還可在曲面上制造復(fù)雜"-點(diǎn))這使得這些技術(shù)的應(yīng)用不得不局限在實(shí)驗(yàn)室$的三維結(jié)構(gòu))我們將軟刻蝕技術(shù)中的紫外模塑技無(wú)法通過(guò)工業(yè)商品化邁向市場(chǎng))因此發(fā)展復(fù)制技術(shù)&’術(shù)用于聚合物微透鏡陣列與可見(jiàn)光[[@芯片的成為降低微光學(xué)器件成本(推廣應(yīng)用的關(guān)鍵)采用集成$顯示了這種方法的可行性)這種方法原理上收稿日期!!""#$%%$!!&!也可以用于紅外[[@芯片的集成$特別是用于制作*%%%*%F/8<

8、3@GH<:3I3’:3FJF<:I3@8<%!K)1E!L%0MM1,>,5*/4.-(!""N""""""""""""""""""""""""""""""""""""""""""""""""""衍射微透鏡!具有工藝簡(jiǎn)單"無(wú)需多次套刻對(duì)準(zhǔn)的優(yōu)能良好!無(wú)毒且低溫特性好#我們?cè)趯?shí)驗(yàn)中使用勢(shì)#