Agilent1200-6320IonTrapXCT液相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用儀操作規(guī)程

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1、Agilent1200/6320IonTrapXCT液相色譜/質(zhì)譜聯(lián)用儀操作規(guī)程1儀器組成及開機L1儀器組成Agilent1200系列LC/6320IonTrapXCT液相色譜離子阱質(zhì)譜聯(lián)用儀由Agilent1200高效液相色譜系統(tǒng)、質(zhì)譜和工作站組成。液相部分由真空脫氣機、四元泵、自動進樣器、柱溫箱和二極管陣列檢測器組成;質(zhì)譜為離子阱多級質(zhì)譜儀,帶API-ESI源。各部分的操作及數(shù)據(jù)處理均由工作站計算機控制完成,其操作系統(tǒng)為WindowsXP,工作站軟件版本為ChemStationRev.b.01.03【204】。1.2開機打開液氮罐的出口閥門,使出

2、口壓力達到0.55?0.69MPa(80?100psi),檢查氨氣出口壓力為0.41?0.55MPa(60?80psi)。在確保各類氣體壓力參數(shù)符合規(guī)定的情況下,接通電源,先開啟位于質(zhì)譜儀左側(cè)門內(nèi)下方的主電源開關(guān),再開啟質(zhì)譜儀正面下方的副電源開關(guān),開啟Agilent1200高效液相色譜系統(tǒng)各部件的電源開關(guān),啟動計算機,進人WindowsXP界面后,雙擊Instrument1Online圖標,約1min后,進入Chemstation化學工作站,IonTrapControl和DataAnalysis界面也隨之打開。2液質(zhì)方法的建立2」液相色譜條件的建立液

3、相色譜條件的建立可以通過以下幾種方法實現(xiàn)。2.1.1直接設(shè)定用鼠標左鍵單擊操作界面的各個圖標,選擇[Setup..?】,進行進樣體積、流速、流動相比例、分析停止時間、柱溫、檢測波長等參數(shù)的設(shè)定,鍵入設(shè)定值后,單擊【OK】,即完成。2.1.2調(diào)用已設(shè)置好的文件在命令欄【Method】下,選擇【LoadMethod.??】,或直接單擊快捷操作的【LoadMethod.??】,選定文件名,單擊【OK】,工作站即調(diào)用所選文件設(shè)定的參數(shù)。如欲進行修改,則可參照“2.1F項,進行各工作參數(shù)的設(shè)置;也可在命令欄【Method]下,選擇[EditEntireMeth

4、od???】,根據(jù)工作站按順序出現(xiàn)的一系列參數(shù)設(shè)置頁而,進行工作參數(shù)的修改,單擊【OK】,即完成。2.1.3編輯新文件先在命令欄【Method】下,選擇【NewMethod】,可參照「21.1”項,進行各工作參數(shù)的設(shè)置;也可在命令欄【Method]下,選擇【EditEntireMethod...],根據(jù)工作站按順序出現(xiàn)的一系列參數(shù)設(shè)置頁而,鍵入設(shè)定值,完成后,在命令欄【Method]下,選擇【SaveMethod],給新文件命名,單擊[0K],即完成。2.2質(zhì)譜條件的建立鼠標左鍵單擊質(zhì)譜圖標MS(n)的【Settings]或單擊狀態(tài)欄的【MSDTra

5、pControl],均可方便地切換到質(zhì)譜界而。2.2.1Mode項下各參數(shù)的設(shè)置選屮[SaveSpectra],根據(jù)實際需要選擇[IncludeProfileSpectral]項下4種方式中的任一種。[ScanRange]項的選擇是根據(jù)待測化合物的分子量進行考慮的;相應(yīng)地選擇【ScanResolution】項下的[Normal1】、[Enhanced]或【Maximum]模式?!綝ivertVaiVe】一般設(shè)在【ToSource]狀態(tài),使待測樣品進入離子源進行質(zhì)譜分析,但也可根據(jù)需要,選擇【ToWaste】,以減少離子源和離子阱的污染。2.2.2Tu

6、ne項下各參數(shù)的設(shè)置選[Smart],如從注射泵以5pl/min的速度直接進樣,[Nebulizer]設(shè)為5?15psi,[DryGas]設(shè)為5L/min,[DryTemp】設(shè)為325?350°C;如從液相以100?500gl/min的速度進樣,【Nebulizer】設(shè)為20?40psi,【DryGas]設(shè)為8?10L/min,【DryTemp]設(shè)為325?350°C。在【TargetMass]中輸入需要測定的離子的質(zhì)量(m/z);[CompoundStability]和[TrapDriveLevel]一般均設(shè)為100%,但如果待測化合物非常不穩(wěn)定,

7、在離子傳輸過程中即產(chǎn)生大量的碎片離子,可根據(jù)實際情況,在10%?100%之間進行設(shè)定。2.2.3MS(n)項下各參數(shù)的設(shè)置選中【AutoMS(n)],根據(jù)具體情況選擇需要做幾級質(zhì)譜,在【AutoMS(n)]屮輸入2?5以內(nèi)的數(shù)字,并畫“0選屮?!綨o.ofPrecursorIons]一般設(shè)為1,但如果待測化合物為多肽或蛋白質(zhì),也可設(shè)為其他數(shù)值。根據(jù)木底情況,在[ThresholdAbs]后面的空格內(nèi)輸入適當?shù)拈撝?。畫?選中[Prec.Operation]項下的[SPS]。在[Acq.Parameter]項下[MS/MSFragAmpl]后而的空格內(nèi)

8、輸入優(yōu)化的二級離子碰撞電壓。單擊【Fragmentation....】,[Cut-OffSelection]

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