電沉積Ni-Fe-PTFE復(fù)合鍍層的微觀形貌及耐蝕性-論文.pdf

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1、2014年7月電鍍與環(huán)保第34卷第4期(總第198期)·ll··電鍍·電沉積Ni—Fe—PTFE復(fù)合鍍層的微觀形貌及耐蝕性MicrostructureandCorrosionResistanceofElectrOdeD0sitedNi—Fe—PTFECompositeCoating何龍生。任曉東,楊友。李雪松(長(zhǎng)春工業(yè)大學(xué)先進(jìn)結(jié)構(gòu)材料省部共建教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,吉林長(zhǎng)春130012)HELong-sheng,RENXiao-dong,YANGYou,LIXue-song(KeyLaboratoryofAdvancedStructuralMaterials,MinistryofE

2、ducation,ChangchunUniversityofTechnology,Jilin130012,China)摘要:采用電沉積方法在鐵基體表面制備Ni—Fe—PTFE復(fù)合鍍層。利用掃描電子顯微鏡分析鍍層的微觀形貌,通過(guò)XRD對(duì)鍍層的相組成進(jìn)行分析,利用電化學(xué)測(cè)試系統(tǒng)測(cè)定復(fù)合鍍層在質(zhì)量分?jǐn)?shù)為3.5的NaCl溶液中的極化曲線和交流阻抗譜。結(jié)果表明:當(dāng)電流密度為5A/dm。時(shí),鍍層結(jié)晶細(xì)致、均勻,其自腐蝕電位最正,具有較好的耐腐蝕傾向。關(guān)鍵詞:電沉積;Ni-Fe—PTFE;微觀形貌;極化曲線Abstract:TheNi—Fe—PTFEcompositecoatingwasp

3、reparedonthesurfaceofironmatrixbye1ectrodeposition.Themicrostructureofthecoatingwasinvestigatedbyscanningelectronmicroscopy,thephasecompositionofthecoatingwasanalyzedbyX—raydiffraction(XRD),andthepolarizationcurvesandNyquistplotsofthecompositecoatingin3.5NaCIsolutionsweredeterminedbyelectro

4、chemicaltestsystem.Theresultsindicatethatwhenthecurrentdensityis5A/dm,thecoating,fineanduniformincrystallization,withmostpositiveself_corrosionpotential,hasabetterresistancetocorrosion.Keywords:electrodeposition;Ni—Fe—PTFE;microstructure;polarizationcurve中圖分類號(hào):TQ153文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A文章編號(hào):1000—4742(201

5、4)04—0011-03(PTFE)微粒,利用其優(yōu)良的自潤(rùn)滑性、非黏著性、0前言耐水性、耐高溫性和耐蝕性,通過(guò)電沉積的方法制得制取復(fù)合材料的方法有多種,其中復(fù)合電沉積金屬基PTFE復(fù)合鍍層,并討論電流密度對(duì)復(fù)合鍍就是一種很有價(jià)值的獲得復(fù)合材料鍍層的表面強(qiáng)化層的微觀形貌、結(jié)構(gòu)及耐蝕性的影響。新工藝。所謂復(fù)合電沉積,就是在電鍍或化學(xué)鍍?nèi)?實(shí)驗(yàn)液中加入非水溶性的固體微粒,使其與主體金屬共沉積在基材上的涂覆工藝,所得到的鍍層稱為復(fù)合1.1工藝流程鍍層r1。]。復(fù)合電沉積在國(guó)外已有近70年的歷史,基體為40mm×20mm×2mm的低碳鋼試國(guó)內(nèi)起步較晚,近20多年才得以迅速發(fā)展E]。近樣

6、。工藝流程為:試片—打磨一化學(xué)除油一年來(lái),復(fù)合電沉積技術(shù)多以單金屬、單固體微粒復(fù)合水洗一蒸餾水洗一活化處理—復(fù)合電鍍一鍍層為主。這類復(fù)合鍍層與單金屬鍍層相比,其耐水洗一鍍后處理。磨性提高了70,但耐蝕性較差]。目前,科技工1.2鍍液成分及工藝條件作者越來(lái)越重視兼具耐磨性和耐蝕性或耐磨性和抗復(fù)合鍍液的組成為:硫酸鎳180~220g/L,硫高溫氧化性的多元復(fù)合材料鍍層,并取得了一定進(jìn)酸亞鐵10~40g/L,氯化鈉25~30g/L,硼酸45~展。通過(guò)對(duì)二元復(fù)合鍍層的研究表明:純金屬主體55g/L,檸檬酸鈉20~30g/L。往往強(qiáng)度潛力有限,而采用合金主體,復(fù)合鍍層則具電鍍工藝參數(shù)為

7、:pH值3.0~4.5,溫度6O~有更高的硬度、耐蝕性和耐磨性]。65℃,電流密度3~7A/dm,攪拌方式機(jī)械攪本文采用二元電沉積技術(shù),添加聚四氟乙烯拌+超聲波攪拌,時(shí)間40min。2014年7月電鍍與環(huán)保第34卷第4期(總第198期)·13·晶粒均勻。但是在過(guò)高的電流密度下,鍍層表面會(huì)出現(xiàn)較大的積瘤。當(dāng)電流密度為5A/dm。時(shí),鍍層結(jié)晶最為均勻細(xì)致,XRD檢測(cè)到合金鍍層的相組成為單一的Ni。Fe相。(2)隨著電流密度的增大,鍍層在質(zhì)量分?jǐn)?shù)為3.5的NaC1溶液中的自腐蝕電位增加。極化曲線和交流阻抗測(cè)試

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