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1、為了適應(yīng)公司新戰(zhàn)略的發(fā)展，保障停車場安保新項目的正常、順利開展，特制定安保從業(yè)人員的業(yè)務(wù)技能及個人素質(zhì)的培訓(xùn)計劃x光阻射材料有哪些 電子光刻工藝基礎(chǔ)知識 PHOTO流程? 答：上光阻→曝光→顯影→顯影后檢查→CD量測→Overlay量測何為光阻？其功能為何？其分為哪兩種？ 答：Photoresist(光阻).是一種感光的物質(zhì)，其作用是將Pattern從光罩(Reticle)上傳遞到Wafer上的一種介質(zhì)。其分為正光阻和負(fù)光阻。何為正光阻? 答：正光阻，是光阻的一種，這種光阻的特性是將其曝光之后，感光部分的性質(zhì)會改變，并在之后的顯影過程中被
2、曝光的部分被去除。 何為負(fù)光阻? 答：負(fù)光阻也是光阻的一種類型，將其曝光之后，感光部分的性質(zhì)被改變，但是這種光阻的特性與正光阻的特性剛好相反，其感光部分在將來的顯影過程中會被留下，而沒有被感光的部分則被顯影過程去除?！ ∈茬凼瞧毓?？什幺是顯影？ 答：曝光就是通過光照射光阻，使其感光；顯影就是將曝光完成后的圖形處理，以將圖形清晰的顯現(xiàn)出來的過程?！ 『沃^Photo?目的-通過該培訓(xùn)員工可對保安行業(yè)有初步了解，并感受到安保行業(yè)的發(fā)展的巨大潛力，可提升其的專業(yè)水平，并確保其在這個行業(yè)的安全感。為了適應(yīng)公司新戰(zhàn)略的發(fā)展，保障停車場安保新項目的正常、順
3、利開展，特制定安保從業(yè)人員的業(yè)務(wù)技能及個人素質(zhì)的培訓(xùn)計劃 答：Photo=Photolithgraphy,光刻，將圖形從光罩上成象到光阻上的過程?！ hoto主要流程為何? 答：Photo的流程分為前處理，上光阻，SoftBake,曝光，PEB，顯影，HardBake等?！ 『沃^PHOTO區(qū)之前處理? 答：在Wafer上涂布光阻之前，需要先對Wafer表面進行一系列的處理工作，以使光阻能在后面的涂布過程中能夠被更可靠的涂布。前處理主要包括Bake，HDMS等過程。其中通過Bake將Wafer表面吸收的水分去除，然后進行HDMS工作，以使Wa
4、fer表面更容易與光阻結(jié)合。 何謂上光阻? 答：上光阻是為了在Wafer表面得到厚度均勻的光阻薄膜。光阻通過噴嘴被噴涂在高速旋轉(zhuǎn)的Wafer表面，并在離心力的作用下被均勻的涂布在Wafer的表面?！ 『沃^SoftBake? 答：上完光阻之后，要進行SoftBake，其主要目的是通過SoftBake將光阻中的溶劑蒸發(fā)，并控制光阻的敏感度和將來的線寬，同時也將光阻中的殘余內(nèi)應(yīng)力釋放?！ 『沃^曝光? 答：曝光是將涂布在Wafer表面的光阻感光的過程，同時將光罩上的圖形傳遞到Wafer上的過程?！ 『沃^PEB(PostExposureBake)?目
5、的-通過該培訓(xùn)員工可對保安行業(yè)有初步了解，并感受到安保行業(yè)的發(fā)展的巨大潛力，可提升其的專業(yè)水平，并確保其在這個行業(yè)的安全感。為了適應(yīng)公司新戰(zhàn)略的發(fā)展，保障停車場安保新項目的正常、順利開展，特制定安保從業(yè)人員的業(yè)務(wù)技能及個人素質(zhì)的培訓(xùn)計劃 答：PEB是在曝光結(jié)束后對光阻進行控制精密的Bake的過程。其目的在于使被曝光的光阻進行充分的化學(xué)反應(yīng)，以使被曝光的圖形均勻化。何謂顯影? 答：顯影類似于洗照片，是將曝光完成的Wafer進行成象的過程，通過這 個過程，成象在光阻上的圖形被顯現(xiàn)出來?！ 『沃^HardBake? 答：HardBake是通過烘烤使
6、顯影完成后殘留在Wafer上的顯影液蒸發(fā)，并且固化顯影完成之后的光阻的圖形的過程?！ 『螢锽ARC?何為TARC?它們分別的作用是什幺？ 答：BARC=BottomAntiReflectiveCoating,TARC=TopAntiReflectiveCoating.BARC是被涂布在光阻下面的一層減少光的反射的物質(zhì)，TARC則是被涂布在光阻上表面的一層減少光的反射的物質(zhì)。他們的作用分別是減少曝光過程中光在光阻的上下表面的反射，以使曝光的大部分能量都被光阻吸收?！ 『沃^I-line？ 答：曝光過程中用到的光，由MercuryLamp(汞燈)產(chǎn)生
7、，其波長為365nm，其波長較長，因此曝光完成后圖形的分辨率較差，可應(yīng)用在次重要的層次。何謂DUV？目的-通過該培訓(xùn)員工可對保安行業(yè)有初步了解，并感受到安保行業(yè)的發(fā)展的巨大潛力，可提升其的專業(yè)水平，并確保其在這個行業(yè)的安全感。為了適應(yīng)公司新戰(zhàn)略的發(fā)展，保障停車場安保新項目的正常、順利開展，特制定安保從業(yè)人員的業(yè)務(wù)技能及個人素質(zhì)的培訓(xùn)計劃 答：曝光過程中用到的光，其波長為248nm，其波長較短，因此曝光完成后的圖形分辨率較好，用于較為重要的制程中?！ -line與DUV主要不同處為何? 答：光源不同，波長不同，因此應(yīng)用的場合也不同。I-Line
8、主要用在較落后的制程或者較先進制程的Non-Criticallayer。DUV則用在先進制程的Criticallayer上
