實(shí)驗(yàn)十 循環(huán)伏安法分析

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1、實(shí)驗(yàn)十循環(huán)伏安法分析一、實(shí)驗(yàn)?zāi)康?.仔細(xì)閱讀理解本講義和相關(guān)資料,掌握循環(huán)伏安法的基本原理。2.熟練使用循環(huán)伏安法分析的實(shí)驗(yàn)技術(shù)。二、實(shí)驗(yàn)原理循環(huán)伏安法(CyclicVoltammetry,簡(jiǎn)稱CV)往往是首選的電化學(xué)分析測(cè)試技術(shù),非常重要,已被廣泛地應(yīng)用于化學(xué)、生命科學(xué)、能源科學(xué)、材料科學(xué)和環(huán)境科學(xué)等領(lǐng)域中相關(guān)體系的測(cè)試表征。圖1.3mmolL-1K4Fe(CN)6+0.5molL-1Na2SO4水溶液中金電極上的CV圖(a)、電位-時(shí)間曲線(b)、電流時(shí)間曲線(c)和實(shí)驗(yàn)裝置示意圖(d)。實(shí)驗(yàn)中采用CHI660A電化學(xué)工作站進(jìn)行實(shí)驗(yàn),實(shí)驗(yàn)中其感受電極(TheSenseElectro

2、de,簡(jiǎn)稱SE)懸空。(a)(b)(c)現(xiàn)代電化學(xué)儀器均使用計(jì)算機(jī)控制儀器和處理數(shù)據(jù)。CV測(cè)試比較簡(jiǎn)便,所獲信息量大。采用三電極系統(tǒng)的常規(guī)CV實(shí)驗(yàn)中,工作電極(TheWorkingElectrode,簡(jiǎn)稱WE)相對(duì)于參比電極(theReferenceElectrode,簡(jiǎn)稱RE)的電位在設(shè)定的電位區(qū)間內(nèi)隨時(shí)間進(jìn)行循環(huán)的線性掃描,WE相對(duì)于RE的電位由電化學(xué)儀器控制和測(cè)量。因?yàn)镽E上流過(guò)的電流總是接近于7/6表1.圖1的實(shí)驗(yàn)條件和一些重要解釋儀器CHI660A電化學(xué)工作站(上海辰華)工作電極(WE)金盤,電極面積0.3cm2參比電極(RE)KCl飽和甘汞電極(SCE)對(duì)電極(CE)碳棒,

3、直徑0.2cm長(zhǎng)度2cm電活性的待分析物3.0mmolL-1K4Fe(CN)6支持電解質(zhì)溶液0.50molL-1Na2SO4水溶液電位掃描范圍和掃描速率PotentialscanrangeandscanrateWE電位先在-0.1Vvs.SCE的恒定初始電位(initialpotential)下維持2秒鐘(quiettime),然后線性掃描到0.5V(highpotential),再電位負(fù)掃到-0.1Vvs.SCE(lowpotential)。通常,選擇初始電位不能破壞初始平衡(這里為還原態(tài)Fe(CN)64-)。故選擇初始電位為-0.1Vvs.SCE,因?yàn)槿l件電位為0.2Vvs.SC

4、E并按照能斯特方程,可計(jì)算出Fe(CN)64-/Fe(CN)63-濃度比為99.999%,即該電位下電對(duì)主要存在形式為Fe(CN)64-。CV中,電位對(duì)時(shí)間波形為三角波,即電位隨時(shí)間成正比或反比。其正斜率(圖1為0.05Vs-1)就是CV實(shí)驗(yàn)的電位掃描速率,簡(jiǎn)稱掃速。峰電位、峰電流和電量Peakpotential,peakcurrent,andelectricalcharge陽(yáng)極峰電位=Epa,陽(yáng)極峰電流=Ipa,陽(yáng)極(氧化)電量=陽(yáng)極峰下的電流-時(shí)間積分(峰面積)。陰極峰電位=Epc,陰極峰電流=Ipc,陰極(還原)電量=陰極峰下的電流-時(shí)間積分(峰面積)。對(duì)可逆電極反應(yīng)(即能斯特方

5、程在所有電位點(diǎn)均成立),滿足

6、Ipa/Ipc

7、=1和Epa-Epc?56.5/nmV(25oC,n為電極反應(yīng)轉(zhuǎn)移電子數(shù))。注意,測(cè)量峰電流時(shí)應(yīng)扣除背景電流,如圖1所示。條件電位Theformalpotential若某電對(duì)的氧化態(tài)和還原態(tài)組分的擴(kuò)散系數(shù)相等,則條件電位等于陽(yáng)極峰電位和陰極峰電位的算術(shù)平均值,即E0’=(Epa+Epc)/2.氧化反應(yīng)(陽(yáng)極反應(yīng))Oxidationreaction(anodicreaction)Fe(CN)64-àFe(CN)63-+e-該反應(yīng)的發(fā)生從電位正掃過(guò)程中大約0.1Vvs.SCE的陽(yáng)極峰起峰電位開始,到陽(yáng)極峰電位Epa處速率最大,此時(shí)電極表面相當(dāng)于

8、K4Fe(CN)6的氧化劑。還原反應(yīng)(陰極反應(yīng))Reductionreaction(cathodicreaction)Fe(CN)63-+e-àFe(CN)64-該反應(yīng)的發(fā)生從電位負(fù)掃過(guò)程中大約0.3Vvs.SCE的陰極峰起峰電位開始,到陰極峰電位Epc處速率最大,此時(shí)電極表面相當(dāng)于K3Fe(CN)6的還原劑。Randle-Sevcik方程(平板擴(kuò)散控制的可逆電極反應(yīng))TheRandle-Sevcikrelationship(planardiffusion-controlledreversibleelectrodereaction)圖1所示的電流-電位峰形曲線是典型的平板擴(kuò)散控制的可逆

9、電極反應(yīng)的特征,此時(shí)電極反應(yīng)受擴(kuò)散控制,即電子交換速率總大于溶液中電活性物質(zhì)的擴(kuò)散速率。對(duì)平板線性擴(kuò)散所控制的可逆電極反應(yīng),如下Randle-Sevcik方程成立,Ip=kn3/2AD1/2cv1/2式中Ip(A)為峰電流,常數(shù)k=0.4463[F3/(RT)]0.5(F為法拿第常數(shù),R為氣體常數(shù),T為絕對(duì)溫度,25oC時(shí)常數(shù)k=2.69′105);n電極反應(yīng)轉(zhuǎn)移電子數(shù);A(cm2)為電極面積;D(cm2s-1)為擴(kuò)散系數(shù);c(molcm-3)

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