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1、第38卷第2期非金屬礦2015年3月NOnMetalliCMincS含釩浸出液除硅試驗(yàn)研究陽(yáng)亞玲顏文斌華駿高峰易靜張曉君何新波(1吉首大學(xué)化學(xué)化工學(xué)院，湖南吉首416000；2北京科技大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院，北京100083)摘要研究了從含釩浸出液中分離硅的有效方法，考察了沉淀劑種類(lèi)、沉淀劑用量，浸出液pH值、反應(yīng)時(shí)間、沉淀溫度和靜置時(shí)間對(duì)除硅和釩損失的影響。結(jié)果表明，在弱堿性條件下，鋁鹽對(duì)含釩液除硅有良好的效果，除硅率達(dá)到99．12％，釩損失率小于1．21％．該工藝過(guò)程簡(jiǎn)單，釩硅分離效果好。關(guān)鍵詞舍釩浸出液；除硅劑；沉淀法；凈化中圖分類(lèi)號(hào)：TF803．25；TF8
2、41．3文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼：A文章編號(hào)：1000-8098(2015)02-0008-03SiliconRemovalfromVanadiumLeachingSolutionYangYalingYanWenbinHuaJunGaoFengYiJingZhangXiaojunHeXinbo(1CollegeofChemistryandChemicalEngineering，JishouUniversity,Jishou，Hunan416000；2SchoolofMaterialsScienceandEngineering，UniversityofScienceandTechn
3、ologyBeijing，Beijing100083)AbstractAnewmethodoftheseparationofsiliconfromvanadiumleachingsolutionwasstudied，aridtheinfluenceoftheprecipitanttype，dosageofprecipitant，pHvalueofleachingsolution，responsetime，precipitationtemperatureandstandingtimeonthedesilicatingeffectandvanadiumtossweree
4、xamined．Theresultsshowedthat，undertheweakbasicitycondition，toadddesilicatingagentaluminumsakswouldhavewelteffecttodesilicatingprocessofliquidcontainingvanadium，andsiliconremovalratecouldreachabout99．12％withthevanadiumlossratebeing1．21％．Theprocessissimple，andseparationeficiencyofvanadiu
5、mandsiliconarehigh．Keywordsvanadiumleachingsolution；desilicatingagent；precipitation；purification釩是一種重要的戰(zhàn)略資源，是發(fā)展現(xiàn)代工業(yè)、現(xiàn)釩回收率的前提下，對(duì)釩液中硅離子的去除進(jìn)行了試代國(guó)防和現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)不可缺少的重要材料[1-4]o釩驗(yàn)研究，篩選了適宜的除硅劑，確定了適宜的除硅工鈦磁鐵礦是釩的主要礦物資源]，釩渣是主要的提釩藝條件，以實(shí)現(xiàn)釩與硅有效分離。原料，目前產(chǎn)業(yè)化的釩渣提釩工藝主要有鈉化焙燒一1實(shí)驗(yàn)部分水浸提釩和鈣化焙燒一酸浸提釩兩種，國(guó)內(nèi)外釩廠(chǎng)大1．1原料試驗(yàn)所
6、用弱堿性含釩浸出液為四川某多采用鈉化焙燒．水浸提釩工藝從釩渣生產(chǎn)氧化釩公司提供，料液主要成分為：V20，47．88；SiO，產(chǎn)品_6】。上述提釩工藝技術(shù)雖不相同，但大都包括焙0．6903。燒、浸出、分離凈化、沉淀、煅燒[等工序，含釩溶液在1．2試劑及儀器設(shè)備硅標(biāo)準(zhǔn)溶液(1000~g／mL)，國(guó)進(jìn)行下一工序前都需要凈化處理。硅是影響高純釩家有色金屬及電子材料分析測(cè)試中心；鹽酸；硫酸；質(zhì)量的主要雜質(zhì)，釩渣水浸時(shí)，大量硅等雜質(zhì)以陰離磷酸；高錳酸鉀溶液；硫酸亞鐵銨溶液；尿素溶液；亞子形態(tài)進(jìn)入浸出液[8】，給后續(xù)釩的分離富集及沉釩率硝酸鈉溶液；苯代鄰位氨基苯甲酸(指示劑)；硫
7、酸亞造成嚴(yán)重影響，并導(dǎo)致產(chǎn)品硅含量普遍超標(biāo)。為達(dá)到鐵銨標(biāo)準(zhǔn)；五氧化二釩標(biāo)準(zhǔn)試劑(99．99％)，優(yōu)級(jí)純；除去雜質(zhì)、富集釩，制備高純度高V20的目的，含釩其他試劑除注明外，均為分析純。FA2104N電子天平，液的凈化處理尤為重要。目前工業(yè)上含釩液的凈化上海民橋精科有限公司；DF一10IS集熱式加熱磁力攪除硅過(guò)程均采用靜置沉淀法。，該法存在除硅率低、拌器，鞏義市予華儀器有限公司；ST10一pH測(cè)試筆，美靜置時(shí)間長(zhǎng)等特點(diǎn)。本研究針對(duì)工業(yè)現(xiàn)狀，在保證高國(guó)奧豪斯公司；ICP．OES等離子體發(fā)射光譜儀，德國(guó)斯派克分析儀器公司。1．3實(shí)驗(yàn)方法收稿日期：2015-01—2l基金
