身高年齡手印指紋等判斷

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1、步幅和身高的公式??人的赤腳長約是身高的1/7??單步長在166cm以上的一般為高個??身高=單步長+1/3足跡長??單步長在148cm--166cm以上的一般為中個??身高=單步長+1/2足跡長??單步長在140cm以下的一般為矮個??身高=單步長+2/3足跡長??1.通過手印估算身高:手印全長×9.8;右掌印寬×22.7;左掌印寬×23.5;外側(cè)部×22.7;右掌印長×17.8;左掌印長×17.7;中指長×21;食指印全長×24;拇指印指頭印全長×58;食中環(huán)指頭印全長×72。2.體態(tài)特征:高頭箕、細長螺多數(shù)是細高個;低頭箕、橫圓螺多數(shù)是矮胖個。3.?????年齡估計:青少年時期(小

2、于18歲),手印輪廓小,多呈長圓形,皺紋少;紋線密度大,一般一厘米內(nèi)多于25條;乳突花紋均勻清晰,邊緣圓滑整齊無毛邊,無斷線,乳突線相對寬,小犁溝相對窄。紋線光滑,連貫完整,受損后恢復(fù)較快,汗液分泌量大,汗孔開放呈圓形,呈完整的圓孔,顯現(xiàn)條件較好。中成年時期(19~40)歲:手印的輪廓漸圓,有皺紋出現(xiàn);紋線密度小,一厘米內(nèi)紋線少于24條,內(nèi)部花紋結(jié)構(gòu)比外部花紋結(jié)構(gòu)密集,紋線邊緣光滑平整,年齡增大,易出現(xiàn)脫皮現(xiàn)象;乳突花紋與小犁溝的寬窄比較勻稱。壯年紋線清晰、連貫、完整,光滑度下降,受損后恢復(fù)能力下降,紋線邊緣出現(xiàn)缺損,汗孔不十分圓滑,中心部位的紋線出現(xiàn)模糊現(xiàn)象,顯現(xiàn)條件亦較好。中年紋線邊

3、緣缺損嚴重,邊緣不整齊,紋線出現(xiàn)斷離現(xiàn)象汗孔呈不規(guī)則的形態(tài)印痕不清晰,顯現(xiàn)條件下降許多。老年時期(40歲以上):指紋的輪廓多呈上寬下窄,皺紋明顯增多,向內(nèi)部花紋延伸;內(nèi)部花紋出現(xiàn)明顯點狀斑痕,紋線淺而稀,且不光滑,有的呈鋸齒狀,常出現(xiàn)斷線;乳突紋線相對變窄,而小犁溝相對加寬。紋線粗糙變形,斷續(xù)不連貫,細點線結(jié)構(gòu)增多,印痕模糊不清,顯現(xiàn)條件很差。4.?????指位分析:左手終點結(jié)合多,右手起點分歧多拇指:捏物時弧形面向?qū)?cè)凸;握物時中心花紋在對側(cè);平面接觸時指尖偏斜在對側(cè)?;⌒渭y:中心軸在同側(cè),同側(cè)紋線較密集。帳形紋:中心支柱線多流向同側(cè)。斗型紋:中心花紋距同側(cè)三角多。環(huán)形斗:中心軸線多向

4、對側(cè)傾斜。螺形斗:中心線多(左順右逆)時針旋轉(zhuǎn),食指多見反螺。囊形斗:囊口朝同側(cè)。雙箕斗:內(nèi)部花紋(左S右Z),箕頭距同側(cè)三角近?;渭y:正箕箕口向同側(cè),反箕箕口向?qū)?cè),*左起點分歧多、右重點結(jié)合多。追跡線:從左側(cè)三角起追蹤到右三角與中心花紋系統(tǒng)之間為左,追蹤到右三角以外的為右。拇指第二指節(jié):左手多左高右低傾斜,右手多右高左低傾斜。食指第三指節(jié):左手多左高右低傾斜,右手多右高左低傾斜。環(huán)、小指第三指節(jié):左手多左低右高傾斜,右手多右低左高傾斜。第一、二、三屈肌褶紋:左手八字左展,右手八字右展。第三屈肌褶紋與腕三角:腕三角在左側(cè)為左手,右側(cè)為右手。小指根部外側(cè)紋線:直線左低右高為左手,右低左

5、高為右手。中、食指根部三角:左手兩側(cè)紋線流向左,右手兩側(cè)紋線流向右。由掌心流向外側(cè)邊沿的紋線:向坐下擴散的為左,向右下擴散的為右。內(nèi)側(cè)部網(wǎng)格狀皺紋:左手在左側(cè),右手在右側(cè)。(一)從物體的位置、形狀、大小和拿取動作進行判斷。挾持輕薄的物體、拿取較重的物體、握工具把柄、支撐動作等,能留下手的哪個部位的印痕。臨場實驗非常重要。(二)從指、掌不同部位印痕的外形和紋線形態(tài)特點進行判斷。1、根據(jù)指頭不同部位的印痕進行判斷(1)中心部位印痕-——內(nèi)部花紋系統(tǒng)接觸方式:正面接觸物體或不完全正面接觸物體留下的印痕。有完整的花紋中心或不完整的花紋中心。特點:A、紋線的彎曲度較大,小圓圈或半圓圈為花紋中心或靠

6、近花紋中心的部分,越向另一側(cè),紋線的弧度越大,有的近似半圓。B、中心兩側(cè)的紋線,與中心上端的紋線相比,紋線通常:弧度較小,分支較多,橢圓或長圓形花紋的中心兩側(cè)紋線排列較密。有時出現(xiàn)三角區(qū)域,更易于判斷。C、中心上端的紋線,箕型紋的箕頭部位、斗型紋的假想箕頭部位弧度、密度均較大。D、中心下端的紋線——靠近根基系統(tǒng)的紋線,箕型紋、囊形斗:中心下端呈現(xiàn)向同一側(cè)方向流的紋線形態(tài);斗型紋:呈圓弧形的文線,弧度比中心上端小,紋顯間隔較寬,密度小,長園斗中心下方的紋線明顯稀疏。(2)指尖部位印痕A、形態(tài):半圓形,上園下平;扇形,上寬園,下窄平。B、紋線細密,弧度由下至上逐漸變小,直至接近平坦。C、拇、

7、食指指尖紋線向一側(cè)偏斜,靠近指甲邊緣的紋線弧凸向下。(3)兩側(cè)外圍線部位印痕。A、印痕多呈不規(guī)則的長條形B、紋線從指尖處向左下或右下傾斜流行C、紋線上端向內(nèi)彎,弧度較大,下端向外彎,弧度較小D、中段紋線呈斜直狀態(tài)由上向下分枝E、某一邊常有三角反應(yīng)F、左側(cè)、右側(cè)外圍線因很容易區(qū)分(4)根基部位印痕A、多呈不規(guī)則的橫條狀,常有第一組屈肌褶紋出現(xiàn)B、根基線紋線粗大,波浪線、小弧形線或直線,有時向一側(cè)傾斜C、靠近中心花紋的紋線多呈弧狀,靠近

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