JB-T8945-1999 真空濺射鍍膜設(shè)備

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1、ICS23.160J78中華人民共和國機(jī)械行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)JB/T8945-1999真空濺射鍍膜設(shè)備Vacuumsputteringcoatingplant1999-07-12發(fā)布2000-01-01實(shí)施國家機(jī)械工業(yè)局發(fā)布JB/T8945-1999前言本標(biāo)準(zhǔn)由全國真空技術(shù)委員會(huì)提出并歸口。本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:廣東真空設(shè)備廠股份有限公司、上海真空泵廠、沈陽真空技術(shù)研究所。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:蔡?hào)|鋒、張遠(yuǎn)青、李春影、李玉英。中華人民共和國機(jī)械行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)JB/T8945-1999真空濺射鍍膜設(shè)備Vacuumsputteringcoatingplant1范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了真空濺射鍍膜設(shè)備的型號(hào)和基本參數(shù)

2、.技術(shù)要求.試驗(yàn)方法，檢驗(yàn)規(guī)則，標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存等。本標(biāo)準(zhǔn)適用于壓力在1x10-0-5x10-'Pa范圍的真空賤射鍍膜設(shè)備(以下簡稱設(shè)備)o2引用標(biāo)準(zhǔn)下列標(biāo)準(zhǔn)所包含的條文，通過在本標(biāo)準(zhǔn)中引用而構(gòu)成為本標(biāo)準(zhǔn)的條文。本標(biāo)準(zhǔn)出版時(shí)，所示版本均為有效。所有標(biāo)準(zhǔn)都會(huì)被修訂，使用本標(biāo)準(zhǔn)的各方應(yīng)探討使用下列標(biāo)準(zhǔn)最新版本的可能性。GB191-1990包裝儲(chǔ)運(yùn)圖示標(biāo)志GB/T6070-1995真空法蘭GB/T11164-1999真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件GB/T13306-1991標(biāo)牌JB/T1090-19911型真空用橡膠密封圈JB/T1091-1991JO型和骨架型真空用橡膠密封圈型式及

3、尺寸JB/T1092-19910型真空用橡膠密封圈型式及尺寸JB/T7673-1995直宰設(shè)各刑號(hào)編制3i沈3型號(hào)與基本參數(shù)玉設(shè)備的型號(hào)應(yīng)符合JB/T7673的規(guī)定。3.設(shè)備的基本參數(shù)應(yīng)符合表1的規(guī)定。表基本參數(shù)參數(shù)數(shù)值參數(shù)名稱AB極限壓力,5x:0'65x10一'Pa恢復(fù)真空抽氣時(shí)間從大氣壓至7x10'Pa從大氣壓至7x10"Pamm落20,10升壓率-18x10"<25Pa/h濺射電流變化率<上5%國家機(jī)械工業(yè)局1999-07-12批準(zhǔn)2000-01-01實(shí)施JB/f8945-19994技術(shù)要求4.1設(shè)備正常工作條件4.1.1溫度:10-301C4.1.2相對(duì)濕度:不大于7

4、5%.4.1.3冷卻水進(jìn)水溫度:不高于25'C04.1.4冷卻水質(zhì)量:城市自來水或質(zhì)量相當(dāng)?shù)乃?.1.5供電電源:380V,相四線制、50Hz，電壓波動(dòng)范圍:361-399V，頻率波動(dòng)范圍:49-51Hz4.1.6環(huán)境:室內(nèi)應(yīng)整潔;地面、天花板及設(shè)備周圍墻壁應(yīng)干凈;空氣應(yīng)清潔，不應(yīng)有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導(dǎo)電的塵埃或氣體存在。4.2結(jié)構(gòu)要求4.2.1設(shè)備中靜、動(dòng)密封圈的結(jié)構(gòu)形式及尺寸應(yīng)符合GB/T6070和1B/'r1090-1092的規(guī)定。4.2.2真空管道上和鍍膜室靠近排氣口位置上應(yīng)裝設(shè)真空測試規(guī)管，分別測量各部位的壓力。4.2.3如果設(shè)備以油擴(kuò)散泵或

5、油擴(kuò)散噴射泵為主泵，應(yīng)在其進(jìn)氣口一側(cè)安裝油蒸氣捕集阱。4.2.4鍍膜室應(yīng)設(shè)有觀察窗，對(duì)在被膜過程中發(fā)生射線的設(shè)備，觀察窗上應(yīng)加裝防射線鏡片。4.3制造質(zhì)量設(shè)備的制造質(zhì)量要求按GB/T11164-1999中4.404.4安全防護(hù)要求設(shè)備的安全防護(hù)要求按GB/T11164-1999中4.5.5試驗(yàn)方法5.1極限壓力5.1.1試驗(yàn)條件a)鍍膜室內(nèi)為空載(即不放被鍍物品，也不進(jìn)行濺射)，不得拆去設(shè)備正常下作時(shí)應(yīng)安裝的濺射源、工件支架等部件;b)真空測量規(guī)管應(yīng)裝于鍍膜室靠近排氣口位置上;c)允許在抽氣過程中用設(shè)備本身配有的加熱或轟擊裝置對(duì)鍍膜室進(jìn)行除氣。5.1.2測試方法按GB/T111

6、64-1999中的5.2.2.5.2鍍膜室恢復(fù)真空抽氣時(shí)間5.2.1試驗(yàn)條件按5.1.105.2.2測試方法按GB/T11164-1999中的5.2.2.5.3升壓率5.3.1試驗(yàn)條件按5.I.1o5.3.2試驗(yàn)方法JB/T5945-1999按GB/T1164-1999中的5.3.2=5.4濺射電流的變化率設(shè)備在鍍膜過程中，陰極穩(wěn)定工作后飛測得濺射電流在3min范圍內(nèi)(若鍍膜過程少于3min。則在整個(gè)鍍膜過程內(nèi))的變化值，并按下式計(jì)算變化率:I--_一I_:_環(huán)=—x100%Ima+'mm2式中:W-濺射電流的變化率;I...—正常工作時(shí)實(shí)測最大濺射電流值，A;I..—正常一作

7、時(shí)實(shí)測最小濺射電流值，Ao5.5測量用儀表設(shè)備S.，.1測量極限壓力、鍍膜室恢復(fù)真空抽氣時(shí)間、升壓率所使用的真空計(jì)應(yīng)為設(shè)備本身配套者，并應(yīng)在有效期限內(nèi)。5.5.2測量濺射電流的變化率所用的電流表應(yīng)為設(shè)備本身配套者，并應(yīng)在有效期限內(nèi)。6檢驗(yàn)規(guī)則6.1每臺(tái)設(shè)備均須經(jīng)制造廠質(zhì)量檢驗(yàn)部門按本標(biāo)準(zhǔn)及有關(guān)技術(shù)文件進(jìn)行檢驗(yàn)，檢驗(yàn)合格的設(shè)備應(yīng)附有檢驗(yàn)部門及檢驗(yàn)人員簽字的產(chǎn)品合格證書方能出廠。6.2設(shè)備的檢驗(yàn)分為出廠檢驗(yàn)和型式檢驗(yàn)6.2.1出廠檢驗(yàn)出廠檢驗(yàn)應(yīng)逐臺(tái)進(jìn)行，其檢驗(yàn)內(nèi)容包括3.2及GB/T11164-