JBT 8945-1999 真空濺射鍍膜設(shè)備

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1、ICS23.160J78JB/T8945－1999真空濺射鍍膜設(shè)備Vacuumsputteringcoatingplant1999-07-12發(fā)布2000-01-01實(shí)施國(guó)家機(jī)械工業(yè)局發(fā)布JB/T8945－1999前言本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)真空技術(shù)委員會(huì)提出并歸口。本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：廣東真空設(shè)備廠股份有限公司、上海真空泵廠、沈陽(yáng)真空技術(shù)研究所。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：蔡?hào)|鋒、張遠(yuǎn)青、李春影、李玉英。I中華人民共和國(guó)機(jī)械行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)JB/T8945－1999真空濺射鍍膜設(shè)備Vacuumsputteringcoatingplant1范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了真空濺射鍍膜設(shè)備的型號(hào)和基本參數(shù)，技術(shù)要求，試驗(yàn)方法，檢驗(yàn)

2、規(guī)則，標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存等。-4-3本標(biāo)準(zhǔn)適用于壓力在1×10~5×10Pa范圍的真空賤射鍍膜設(shè)備（以下簡(jiǎn)稱設(shè)備）。2引用標(biāo)準(zhǔn)下列標(biāo)準(zhǔn)所包含的條文，通過(guò)在本標(biāo)準(zhǔn)中引用而構(gòu)成為本標(biāo)準(zhǔn)的條文。本標(biāo)準(zhǔn)出版時(shí)，所示版本均為有效。所有標(biāo)準(zhǔn)都會(huì)被修訂，使用本標(biāo)準(zhǔn)的各方應(yīng)探討使用下列標(biāo)準(zhǔn)最新版本的可能性。GB191—1990包裝儲(chǔ)運(yùn)圖示標(biāo)志GB/T6070—1995真空法蘭GB/T11164—1999真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件GB/T13306—1991標(biāo)牌JB/T1090—1991J型真空用橡膠密封圈JB/T1091—1991JO型和骨架型真空用橡膠密封圈型式及尺寸JB/T1092—199

3、1O型真空用橡膠密封圈型式及尺寸JB/T7673—1995真空設(shè)備型號(hào)編制方法3型號(hào)與基本參數(shù)3.1設(shè)備的型號(hào)應(yīng)符合JB/T7673的規(guī)定。3.2設(shè)備的基本參數(shù)應(yīng)符合表1的規(guī)定。表1基本參數(shù)參數(shù)數(shù)值參數(shù)名稱AB極限壓力-4-3≤5×10≤5×10Pa-3-2恢復(fù)真空抽氣時(shí)間從大氣壓至7×10Pa從大氣壓至7×10Pamin≤20≤10升壓率-1≤8×10≤2.5Pa/h濺射電流變化率＜±5%國(guó)家機(jī)械工業(yè)局1999-07-12批準(zhǔn)2000-01-01實(shí)施1JB/T8945－19994技術(shù)要求4.1設(shè)備正常工作條件4.1.1溫度：10~30℃。4.1.2相對(duì)濕度：不大于75%。4.1

4、.3冷卻水進(jìn)水溫度：不高于25℃。4.1.4冷卻水質(zhì)量：城市自來(lái)水或質(zhì)量相當(dāng)?shù)乃?.1.5供電電源：380V、三相四線制、50Hz，電壓波動(dòng)范圍：361~399V，頻率波動(dòng)范圍：49~51Hz。4.1.6環(huán)境：室內(nèi)應(yīng)整潔；地面、天花板及設(shè)備周圍墻壁應(yīng)干凈；空氣應(yīng)清潔，不應(yīng)有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導(dǎo)電的塵?；驓怏w存在。4.2結(jié)構(gòu)要求4.2.1設(shè)備中靜、動(dòng)密封圈的結(jié)構(gòu)形式及尺寸應(yīng)符合GB/T6070和JB/T1090~1092的規(guī)定。4.2.2真空管道上和鍍膜室靠近排氣口位置上應(yīng)裝設(shè)真空測(cè)試規(guī)管，分別測(cè)量各部位的壓力。4.2.3如果設(shè)備以油擴(kuò)散泵或油擴(kuò)散噴射泵為

5、主泵，應(yīng)在其進(jìn)氣口一側(cè)安裝油蒸氣捕集阱。4.2.4鍍膜室應(yīng)設(shè)有觀察窗，對(duì)在鍍膜過(guò)程中發(fā)生射線的設(shè)備，觀察窗上應(yīng)加裝防射線鏡片。4.3制造質(zhì)量設(shè)備的制造質(zhì)量要求按GB/T11164—1999中4.4。4.4安全防護(hù)要求設(shè)備的安全防護(hù)要求按GB/T11164—1999中4.5。5試驗(yàn)方法5.1極限壓力5.1.1試驗(yàn)條件a）鍍膜室內(nèi)為空載（即不放被鍍物品，也不進(jìn)行濺射），不得拆去設(shè)備正常工作時(shí)應(yīng)安裝的濺射源、工件支架等部件；b）真空測(cè)量規(guī)管應(yīng)裝于鍍膜室靠近排氣口位置上；c）允許在抽氣過(guò)程中用設(shè)備本身配有的加熱或轟擊裝置對(duì)鍍膜室進(jìn)行除氣。5.1.2測(cè)試方法按GB/T11164—1999中

6、的5.2.2。5.2鍍膜室恢復(fù)真空抽氣時(shí)間5.2.1試驗(yàn)條件按5.1.1。5.2.2測(cè)試方法按GB/T11164—1999中的5.2.2。5.3升壓率5.3.1試驗(yàn)條件按5.1.1。5.3.2試驗(yàn)方法2JB/T8945－1999按GB/T11164—1999中的5.3.2。5.4濺射電流的變化率設(shè)備在鍍膜過(guò)程中，陰極穩(wěn)定工作后，測(cè)得濺射電流在3min范圍內(nèi)（若鍍膜過(guò)程少于3min，則在整個(gè)鍍膜過(guò)程內(nèi)）的變化值，并按下式計(jì)算變化率：Imax-IminW=′100%Imax+Imin2式中：W——濺射電流的變化率；Imax——正常工作時(shí)實(shí)測(cè)最大濺射電流值，A；Imin——正常工作時(shí)實(shí)

7、測(cè)最小濺射電流值，A。5.5測(cè)量用儀表設(shè)備5.5.1測(cè)量極限壓力、鍍膜室恢復(fù)真空抽氣時(shí)間、升壓率所使用的真空計(jì)應(yīng)為設(shè)備本身配套者，并應(yīng)在有效期限內(nèi)。5.5.2測(cè)量濺射電流的變化率所用的電流表應(yīng)為設(shè)備本身配套者，并應(yīng)在有效期限內(nèi)。6檢驗(yàn)規(guī)則6.1每臺(tái)設(shè)備均須經(jīng)制造廠質(zhì)量檢驗(yàn)部門按本標(biāo)準(zhǔn)及有關(guān)技術(shù)文件進(jìn)行檢驗(yàn)，檢驗(yàn)合格的設(shè)備應(yīng)附有檢驗(yàn)部門及檢驗(yàn)人員簽字的產(chǎn)品合格證書(shū)方能出廠。6.2設(shè)備的檢驗(yàn)分為出廠檢驗(yàn)和型式檢驗(yàn)6.2.1出廠檢驗(yàn)出廠檢驗(yàn)應(yīng)逐臺(tái)進(jìn)行，其檢驗(yàn)內(nèi)容包括3.2及GB/T11