痕量砷、鉛和鎘的電分析

痕量砷、鉛和鎘的電分析

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時間:2019-06-25

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1、弱;(3)在pH=1.8的B.R緩沖溶液和O.1mol·L。1H2S04酸性介質(zhì)中,鍍鉑金電極上As(III)的電催化氧化電流趨于最大。通過As(III)在鍍鉑金電極上的吸附預(yù)富集和隨后的電催化氧化溶出,提出了高敏檢測As(III)的線性掃描伏安新法,該法可提高其檢測靈敏度約40倍(與無預(yù)吸附富集步驟相比)。本研究工作對深入理解As組分的電化學(xué)行為和發(fā)展無機砷的電分析方法有一定參考價值。2.用鉑銅電化學(xué)共沉積/溶銅法制備了多孔鉑(Ptp鐘)修飾玻璃碳(GC)電極并將其用于As(III)的預(yù)富集.線性掃描溶出伏安方法分析。結(jié)果表明,基于As(III)氧化至As(V)的電流響應(yīng)檢測As(II

2、I),抗Cu:+干擾能力很好(1000倍濃度的Cu2+幾乎不存在干擾)。該法檢測As(III)的線性范圍為0.2,--4.09mol·L~,檢N-F限(LOD)為0.006pm01.L。1(0.45ppb)。該法用于檢測實際水樣中砷含量,結(jié)果滿意。3.分別以金電極和鉍膜修飾電極作工作電極構(gòu)成兩個獨立的三電極體系電解池,同時連接于電化學(xué)工作站CHll040B上,采用雙通道同時運行方式實現(xiàn)了砷、鉛、鎘的同時檢測。通過在兩工作電極上施加相應(yīng)的電位進(jìn)行同時預(yù)富集,再用分別溶出的方法分別在金膜電極上檢測了砷,鉍膜電極上檢測了鉛和鎘。該法結(jié)果與兩電極單獨檢測結(jié)果一致。該法為多種重金屬離子的同時檢測提

3、供了新思路。關(guān)鍵詞:鍍鉑金電極;鍍金金電極;電化學(xué)石英晶體微天平(EQCM);As(III)電化學(xué);電化學(xué)共沉積/溶出(CS)法;預(yù)富集.線性掃描伏安法;雙通道同時檢測;差分脈沖伏安法;金膜電極;鉍膜電極ⅡABSTRACTHeavymetals,whicharedifficulttorepairnaturallyandwillkeepaccumulatingintheecosystemduetotheirhighstabilityandnon.degradability,canexhibitgreattoxicityevenatverysmalllevelsTherefore,trace

4、analysisofheavymetalsintheenvironmentisofconsiderableresearchvalueandpracticalsignificance.Manytraditionaldetectionmethodsoftraceheavymetalscannotwellfitthepresentpracticalrequirementssincetheypresentsomedeficiencies,suchasexpensiveandheavyinstrumentation,complicatedandtime-consumingoperation,ins

5、ensitivityorundetectabilityforsomemetalions,dependenceofspecialistoperator,andSOon.Itissignificanttodevelopnewmethodswhicharesimple,quick,sensitiveandspeedyforheavymetalsdetection.Inthisthesis,westudiedelectroanalysisofarsenic,leadandcadmiumafterbrieflyreviewingtherecentprogressofrelevantresearch

6、areas.Thestudiesinthisthesisaresummarizedasfollows:1.TheelectrochemicalbehaviorofAs(III)atA以uandPt/Auelectrodeswasinvestigatedwithanelectrochemicalquartzcrystalmicrobalance(EQCM)inBritton.Robinson(B.RpH=1.8-11.2)buffersolutionsandinO.1or0.5mol·L~aqueousH2S04.Throughreal-timeprocessmonitoringofthe

7、EQCMparameters(frequencyetc.)andenhancementoftheelectrode-responsesignalsbypre.electrodepositionofAs(O),wehaveexaminedindetailontheelectrodepositionofAs(O),theelectrode-surface—adsorptioncharacteristicsofIIIAs(111)andA

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